「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 98 99 100 101 102 103 104 105 106 .... 287 288 次へ＞- The response sensitivity of the phototransistor is nearly 40 times higher than that of the photodiode of the p-diffusion (in the case of red at a wavelength of 650 nm).
このフォトトランジスタの応答感度は、ｐ拡散のフォトダイオードよりも約４０倍高感度（赤：波長６５０ｎｍの場合）であることがわかった。 - 特許庁 - A pulse laser beam of 400 to 650 nm in wavelength is made incident on the region where the impurities are implanted to activate the implanted impurities.
不純物の注入された領域に、波長４００〜６５０ｎｍのパルスレーザビームを入射させて、注入された不純物を活性化させる。 - 特許庁 - The side cloth of clothing containing padding such as inner cotton, and down, includes a woven fabric containing a filament yarn A having a single fiber diameter of 1,500 nm or less.
単繊維径が１５００ｎｍ以下のフィラメント糸Ａを含む織物で中綿やダウンなどの詰め物を含む衣料の側地を構成する。 - 特許庁 - In the separation membrane device, the fine particles of 10 nm-10 μm of liposome or the like are filled in a porous separation membrane and fixed using polymer gel.
リポソームなどの１０ｎｍ〜１０μｍの微粒子を多孔質の分離膜に充填し、ポリマーゲルを用いて固定化させた分離膜デバイス。 - 特許庁 - The nitride semiconductor light-emitting element 61 is made of a group-III nitride semiconductor and generates polarized light 65 having a long wavelength of not less than 500 nm.
窒化物半導体発光素子６１は、III族窒化物半導体からなり、５００ｎｍ以上の長波長の偏光光６５を発生する。 - 特許庁 - To provide a flip-chip resonant surface light emitting element capable of outputting a high output in a short wavelength (e.g. a wavelength: substantially 530 nm).
短い波長（例えば波長：ほぼ５３０ｎｍ）を高い出力で放出可能なフリップチップタイプの共振型面発光素子を提供する。 - 特許庁 - (1) The surface with which the ground metal layer of the polyethylene naphthalate film is brought into contact has a mean roughness (Ra) at the central line of 0.5-4 nm.
（１）前記ポリエチレンナフタレート系フィルムの下地金属層が接する表面は、その中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．５〜４ｎｍである。 - 特許庁 - Then a processed region 35 along a cutting expectation line 25 is formed in the sapphire wafer 20 with laser light of, for example, 355 nm in wavelength.
次に、サファイアウエハ２０の内部に、たとえば波長３５５ｎｍのレーザ光によって、切断予定ライン２５に沿う加工領域３５が形成される。 - 特許庁 - As a light source of active light, a solid laser with an oscillation wavelength of 256 nm or a low pressure mercury lamp with a vapor pressure of 0.1 kPa or less is preferable.
活性光の光源は、発振波長が２５６ｎｍの固体レーザー又は蒸気圧が０．１ｋＰａ以下の低圧水銀灯が適している。 - 特許庁 - A p-type AlGaInP upper cladding layer 40 of the 650 nm wavelength band laser 14 is etched halfway to form ridge waveguides 44.
６５０ｎｍ帯波長レーザ１４のｐ型ＡｌＧａＩｎＰ上クラッド層４０は途中までエッチングされてリッジ導波路４４が形成されている。 - 特許庁 - In the irradiation, the UV-B exposure dose (at 305 nm wavelength) of the ultraviolet lamp 12 is ≤60 μw/cm^2, preferably ≤50 μw/cm^2.
このとき、紫外線ランプ１２のＵＶ−Ｂ照射量（波長３０５ｎｍにおいて）を６０μw／cm2以下、望ましくは５０μw／cm2以下とするのがよい。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium capable of recording and reproducing by a laser beam having a wavelength of 640 nm or more for a DVD-R.
ＤＶＤ−Ｒ用の６４０ｎｍ以上のレーザー光波長により記録及び再生が可能な光情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - The electrophotographic photoreceptor is mounted on an image forming device which uses a laser having the oscillation wavelength from 380 to 600 nm as the exposure light source.
また、この電子写真感光体を、３８０〜６００ｎｍに発振波長を有するレーザを露光光源とする画像形成装置に搭載する。 - 特許庁 - The electrophotographic photoreceptor is mounted in an image forming device which uses a laser having the oscillation wavelength from 400 to 600 nm as the exposure light source.
また、この電子写真感光体を、４００〜６００ｎｍに発振波長を有するレーザを露光光源とする画像形成装置に搭載する。 - 特許庁 - Silica particles are subjected to surface treatment with a silane coupling agent and an organosilazane to obtain a silica particle material whose volume average particle size is 5-100 nm.
シリカ粒子をシランカップリング剤とオルガノシラザンとで表面処理して体積平均粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍであるシリカ粒子材料を得る。 - 特許庁 - A hydrophobic silica powder in which 1.0-5.0 of a trimethylsilyl group per 1 nm^2 of a silica surface has combined is used for the hydrophobic silica powder.
前記疎水性シリカ粉末に、シリカ表面の１ｎｍ^2当たり１．０〜５．０個のトリメチルシリル基が結合した疎水性シリカ粉末を用いる。 - 特許庁 - The indium based oxide fine particles have a mean particle diameter in the range of 2 to 200 nm, and have a substantially spherical particle shape.
平均粒子径が２〜２００ｎｍの範囲にあり、粒子形状が実質的に球状であることを特徴とするインジウム系酸化物微粒子。 - 特許庁 - The pattern-forming method comprises the irradiation of the pattern-forming material with light of 250-450 nm wavelength followed by the decomposition of the resin with laser light.
前記パターン形成材料に、２５０〜４５０ｎｍの光を照射し、その後、レーザーにて分解することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁 - The root mean square surface roughness of the upper face of the piezoelectric thin film 14 is 2 nm or below by leveling the upper face flat through polishing.
圧電薄膜１４の上面は、研磨により平坦化されることによって、その二乗平均平方根粗さは２ｎｍ以下となっている。 - 特許庁 - To provide a new method for producing a ferrite nanoparticle having a particle diameter ranging from 30 to 250 nm, a spherical shape and even particle size.
粒径が30−250nmの範囲にあって、球形を有し、粒径がよく揃ったフェライトナノ粒子を製造するための、新しい製造方法を提供する。 - 特許庁 - EUV light with a wavelength of 13.5 nm is radiated by flowing a high current of a pulse shape between electrodes 11 and 12, and forming a high temperature plasma region.
電極１１，１２間にパルス状の大電流を流し、高温プラズマ領域を形成し、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射させる。 - 特許庁 - Finally, by using an ion milling device, the observation part 14 is thinned to approximately several hundred nm, thus completing a sample for a transmission electron microscope.
最後にイオンミリング装置を用い、観察部分１４を数百ｎｍまで薄片化して透過型電子顕微鏡用の試料を完成させる。 - 特許庁 - This cover for the incubator hood is composed of resin composition containing thermoplastic resin and colored component and can shield the light with wavelength of 650 nm or less.
熱可塑性樹脂及び着色成分を含む樹脂組成物からなり、波長６５０ｎｍ以下の光を遮断できる保育器フード用カバー。 - 特許庁 - The light with the wavelength to affect the biorhythm is preferably to have the dominant wavelength within 445 to 480 nm.
上記生体リズムに影響を与える波長の光は、４４５ｎｍから４８０ｎｍまでの間に主波長を有する光であることが望ましい。 - 特許庁 - The glass cullet group conveyed into the shielding chamber 50 is irradiated with ultraviolet light having a wavelength band of about 380 nm from black lights 40, 40.
遮光室５０に搬入されたガラスカレット群に、ブラックライト４０、４０…から略３８０ｎｍの波長帯域の紫外光を照射する。 - 特許庁 - According to the above construction, ultraviolet light with a wavelength of 360 to 400 nm can selectively be reflected by the MC intermediate layer 8.
このように構成することにより、ＭＣ中間層８で３６０〜４００ｎｍ波長の紫外線を選択的に反射させることができる。 - 特許庁 - The strap includes polyester filaments A having a single filament diameter of 10 to 1,500 nm, and exposing the polyester filaments A on the surface.
単繊維径が１０〜１５００ｎｍのポリエステルフィラメントＡを含み、かつ前記ポリエステルフィラメントＡが表面に露出していることを特徴とする紐。 - 特許庁 - 17-Ketosteroid is reacted with ethanolic m-dinitrobenzene (Zimmermann Reaction) to develop a pink color having the maximum absorption at a wavelength of 520 nm under an alkaline condition.
１７−ケトステロイドはエタノール性ｍ−ジニトロベンゼンと反応(Zimmermann反応)し、アルカリ性において520nmに極大吸収を有するピンク色に呈色する。 - 特許庁 - To provide an optical recording medium making the favorable recording and reproduction with the wavelength of 300 to 500 nm possible and a new oxazole compound.
波長３００〜５００ｎｍのレーザーで良好な記録および再生が可能な光記録媒体および新規なオキサゾール化合物を提供する。 - 特許庁 - In the obtained assembly of the single layer carbon nanotubes, the carbon nanotubes each having a diameter of <1 nm are contained in an amount of ≥80 mass%.
得られた単層カーボンナノチューブ集合体に含まれる単層カーボンナノチューブは、８０質量％以上が１ｎｍ未満の直径である。 - 特許庁 - The upper layer part 106b of a first metal layer made of a nickel (Ni) is laminated by about 10 nm thickness by depositing to a junction side.
ジャンクション側にニッケル（Ｎｉ）から成る第１金属層の上層部１０６ｂを蒸着によって約１０ｎｍの膜厚で積層する。 - 特許庁 - The thickness of a surface oxide film 2 in an aluminum extension material 1 after final annealing is controlled to ≤5 nm, and the contact angle of the surface is controlled to 35 to 65 degrees.
最終焼鈍後のアルミニウム展伸材１の表面酸化皮膜２の厚さを５ｎｍ以下、表面の接触角を３５〜６５度とする。 - 特許庁 - Fine needle crystals reside on the surface of a copper-plated part, and the average roughness of needle crystals at ten points ranges from 1,500 to 2,500 nm.
銅メッキ表面は細かい針状結晶となっており、針状結晶の十点平均粗さが１５００〜２５００ｎｍに入っている。 - 特許庁 - The hair treatment composition comprises 0.01-50 wt.% of protein nanoparticles having an average particle size of 10-200 nm.
０.０１〜５０重量％のタンパク質ナノ粒子を含み、該タンパク質ナノ粒子の平均粒子サイズが１０〜２００ｎｍである、ヘアトリートメント組成物。 - 特許庁 - In a second texture working, the surfaces are polished for 20 sec at 2 kg tape pressing pressure using polycrystalline diamond particles having 80 nm average particle diameter as polishing particles.
２段目の加工では、平均粒径８０ｎｍの多結晶ダイヤモンドを砥粒として、押しつけ圧２ｋｇで、２０秒間研磨加工を行った。 - 特許庁 - The second optical compensation layer 13 has a refractive index distribution of nx>ny=nz and the in-plane retardation Re_2 is 80 to 170 nm.
第２の光学補償層１３は、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率分布を有し、かつ、その面内位相差Ｒｅ_２が８０〜１７０ｎｍである。 - 特許庁 - To provide a reflector having a thin reflection layer, high strength of the reflection layer and a diffuse reflectance at 550 nm of ≥95%.
反射層が薄く、反射層の強度が高く、かつ５５０ｎｍにおける拡散反射率が９５％以上である反射体を提供する。 - 特許庁 - The organic layer has at least a light-emitting layer 14 that has a structure of good symmetry and the thickness of this light-emitting layer 14 is made less than 30 nm.
前記有機層は対称性の良い構造を有する発光層１４を少なくとも有し、この発光層１４の膜厚を30nm未満にする。 - 特許庁 - To provide an accumulative phosphor with 410 nm or less emission wavelength while enhancing emission intensity, and a method for producing the same.
発光強度を向上させつつ、発光波長が４１０ｎｍよりも小さい蓄光性蛍光体、並びに該蛍光体の製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a plasma processing method capable of reducing sparse and dense micro-loading in a pattern where the dense space width is 20 nm or less.
本発明は、密部スペース幅２０ｎｍ以下のパターンにおいて、疎密マイクロローディングの低減を可能とするプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - When the growth temperature T_W is 710°C to 750°C, the upper limit of growth speed V_G is not larger than 13.9 nm/min.
成長温度Ｔ_Ｗが摂氏７１０度以上７５０度以下の温度であるとき、成長速度Ｖ_Ｇの上限は、１３．９ｎｍ／分以下である。 - 特許庁 - An impurity diffused layer, comprising a source region 15 and a rain electrode 16 of a pMOS 11, is formed very shallow to about 50 nm.
ｐＭＯＳ１１のソース領域１５およびドレイン電極１６を構成する不純物拡散層を５０ｎｍ程度の極浅に形成する。 - 特許庁 - The light source 1 for plant cultivation includes a light emitting diode 2 for emitting a light at wavelength of 280-450 nm which is detachably covered with a fluorescent member 3 formed from a translucent base material containing a blue phosphor for emitting blue light at a wavelength of 400-480 nm excited by photoirradiation of the light emitting diode 2 and a red phosphor for emitting red light at a wavelength of 610-780 nm.
植物栽培用光源１は、波長２８０ｎｍ〜４５０ｎｍの光を発光する発光ダイオード２が、この発光ダイオード２の光照射によって励起されて波長４００ｎｍ〜４８０ｎｍの青色光を発光する青色蛍光体と、波長６１０ｎｍ〜７８０ｎｍの赤色光を発光する赤色蛍光体とを含有する透光性基材材料により成形された蛍光部材３で、脱着可能に覆われているものである。 - 特許庁 - The lighting fixture for eyesight protection includes a socket for sandwiching the fluorescent lamp, a substrate having an LED for emitting a green light with a wavelength of 498 to 530 nm, a red light of a wavelength of 620 to 700 nm, and a bluish green light with a wavelength of around 495 nm, a ballast for the fluorescent lamp, and a DC supply unit for applying a DC power supply to the LED.
本発明は、視力保護用照明器具において、蛍光灯を挟むソケット、４９８〜５３０ｎｍの緑色（Ｇｒｅｅｎ）波長の光と、６２０〜７００ｎｍ波長の赤色（Ｒｅｄ）光と、４９５ｎｍ付近波長の青緑色（Ｂｌｕｉｓｈ Ｇｒｅｅｎ）光とを放出するＬＥＤなどが設けられる基板、前記蛍光灯用の安定器、前記ＬＥＤなどに直流電源を印加する直流供給装置を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The photocatalyst includes the base material, the interlayer provided on the base material, and a photocatalyst layer, wherein the photocatalyst layer contains photocatalyst particles with a mean particle diameter of less than 100 nm and excitation wavelength of 380 nm or longer, and the interlayer contains a weatherable resin, an inorganic extender pigment or an inorganic white pigment with a mean particle diameter of 100 nm or longer, and hydroxyphenyltriazine compound.
基材と、基材上に設けられる中間層と、光触媒層とを備えた光触媒塗装体であって、前記光触媒層には、平均粒径が１００ｎｍ未満かつ励起波長が３８０ｎｍ以上の光触媒粒子が含まれており、前記中間層には、耐候性樹脂と、平均粒径１００ｎｍ以上の無機体質顔料又は無機白色顔料と、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物とが含まれていることを特徴とする光触媒塗装体。 - 特許庁 - Ultraviolet rays are used as a stimulation light source and two kinds of fluorescent materials are combined and can be stimulated by ultraviolet rays of selected wavelength to illuminate; and emitting light beams are red light of 585 to 640 nm in wavelength, green light of 500 to 570 nm, and blue light of 430 to 490 nm and after those fluorescent light beams of three wavelengths are mixed, white light is emitted.
紫外線を刺激発出光源とし、２種類の蛍光材料を合わせるようにし、前記２種類の蛍光材料が選択される波長の紫外線によって刺激発光されることができ、且つ発出する光線は波長が５８５ｎｍないし６４０ｎｍの赤い光と５００ｎｍ−５７０ｎｍの緑色の光と４３０ｎｍ−４９０ｎｍの青い光であり、これらの三波長の蛍光が混合される後に白色光を発出する。 - 特許庁 - The observer directly views fluorescence emanating from a fluorescing targeting construct bound to or taken up by the diseased tissue upon irradiation of the targeting construct with excitation light having at least one wavelength in the range from 401 nm to about 495 nm, but preferably lacking light having a wavelength above about 500 nm, so as to determine the location and/or surface area of the diseased tissue in the subject.
観察者は、対象における罹患組織の位置および/または表面積を判定するために、罹患組織と結合した、または罹患組織によって取り込まれた蛍光性標的指向化構築物から、401nm〜約495nmの範囲の少なくとも1つの波長を有する励起光、好ましくは約500nmよりも長い波長の光を含まない励起光による標的指向化構築物の照射によって発せられた蛍光を直接観察する。 - 特許庁 - A laminated film consists of a laminate of a reflection film, which has a plurality of layers of 45-150 nm in thickness and comprises a thermoplastic resin, and a color-correction layer.
層厚みが４５〜１５０ｎｍである層を複数有し、熱可塑性樹脂から構成される反射フィルムと、色補正層を積層してなる積層フィルムであり、反射フィルムの入射角５°での反射スペクトルにおいて、反射フィルムの可視領域における反射帯域の中心波長Ａ（nm）と、色補正層の入射角０°での透過スペクトルにおいて、色補正層の透過率が４０％である最も高い波長である波長Ｂ（nm）とが、以下の式にあることを特徴とする着色フィルム。 - 特許庁 - Exposure energy is controlled to make thickness of the BM layer 106 on the source bus line equal to or thinner than that of the CF layer and preferably ≥400 nm.
ソースバスライン上のＢＭ層１０６の厚みがＣＦ層の厚み以下で、好ましくは４００ｎｍ以上になるように露光量を調整する。 - 特許庁 - The antibacterial coating material is obtained by blending silver particles having an average particle diameter of ≤50 nm, wherein at least one portion of the surface of each particle is coated with a dispersing agent, and a binder.
抗菌性塗料は、面の少なくとも一部が分散剤で被覆された、平均粒子径５０ｎｍ以下の銀粒子と、バインダとを配合した。 - 特許庁
- 特許庁
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