「nm」を含む例文一覧(14378)
＜前へ 1 2 .... 99 100 101 102 103 104 105 106 107 .... 287 288 次へ＞- In the above constitution, a half band width Δθ_50 and total film thickness of the third underlayer 3 and the second underlayer 4 are suppressed to nearly 3° and nearly 3.5 nm, respectively.
上記の構成で、Δθ_50を３度程度、第３下地層３と第２下地層４の合計膜厚を３．５ｎｍ程度に抑えることができる。 - 特許庁 - The control unit 30 computes the range covered by the number of revolutions Ng of a motor generator MG1, which is obtained from the number of revolutions Nm of a motor generator MG2.
制御装置３０は、モータジェネレータＭＧ２の回転数Ｎｍから求まるモータジェネレータＭＧ１の回転数Ｎｇの取りうる範囲を算出する。 - 特許庁 - To provide precipitated calcium carbonate containing polynuclear regular agglomerates having a number of calcium carbonate particles (aggregates) joined together mutually and having a particle size of about 40 to 200 nm, and to provide a method for the production thereof.
互いに結合し且つ粒度が約40〜200nmの多数の炭酸カルシウム粒子（凝結体）から成る多核凝集塊を含む沈降炭酸カルシウム。 - 特許庁 - The message consisting of arbitrary plural m-bit blocks are compressed by using an m-bit block cipher and the hash values of multiplexedly linked nm bits are obtained.
任意の複数個のｍビットブロックからなるメッセージを、ｍビットブロック暗号を用いて圧縮して、多重に連接したｎｍビットのハッシュ値が得られる。 - 特許庁 - It is desirable for the multiple oxide to have a characteristic that the fine pore diameter becomes 3.5-100 nm the fine pore volume becomes ≥0.20 cc/g after being fired at 800°C for 5 hr.
この複合酸化物は、 800℃で５時間の焼成後に細孔径が 3.5〜 100nmの細孔容積が0.20cc／ｇ以上となる特性を有することが望ましい。 - 特許庁 - The colloidal metallic microparticles have an average particle diameter of 5 to 40 nm and the particle size distribution of σ = 2 or less in terms of standard deviation, in a particle size distribution with reference to number.
金属コロイド微粒子の個数基準粒度分布において、平均粒径が５〜４０ｎｍ、その粒度分布が標準偏差でσ＝２以下である。 - 特許庁 - Light in a wavelength region of 1550 nm I is transmitted to an optical transmission line 110 and is optically outputted through an optical amplifier 50 to an optical transmission line 120.
光伝送路１１０には波長１５５０ｎｍ帯域の光が伝送され、光増幅器５０を通して光伝送路１２０に光出力される。 - 特許庁 - The method is to carry out a wet heat-treatment of the nonwoven fabric having a single fiber diameter of 30-500 nm in steam or boiling water.
単繊維径が３０〜５００ｎｍの上記不織布を、水蒸気中もしくは沸水中で湿熱処理することを特徴とする製造方法である。 - 特許庁 - The ultraviolet-absorbing coating contains a fluorescent whitening agent in a transparent resin component and cuts ≥90% of ≤410 nm-lights off.
透明樹脂成分に蛍光増白剤を含み４１０ｎｍ以下の光を９０％以上カットすることを特徴とする紫外線吸収塗料。 - 特許庁 - When the growth temperature T_W is not lower than 640°C and lower than 690°C, a lower limit of growth speed V_G is not smaller than 5.5 nm/min.
成長温度Ｔ_Ｗが摂氏６４０度以上６９０度未満の温度であるとき、成長速度Ｖ_Ｇの下限は、５．５ｎｍ／分以上である。 - 特許庁 - To provide a photomask which is manufactured at a low cost, at a small number of producing steps and in a short period of manufacture even when light for exposure having >200 nm wavelength is used.
波長が２００nmより長い露光光を用いる場合でも、コストが安く、製造工程数が少なく、作製期間も短いホトマスクを提供する。 - 特許庁 - The intermediate layer 11 has a thickness of, for example, 30 nm such that strain is left not arraying more than a half of the quantum dots 21 in a longitudinal direction.
中間層１１の厚さは半数以上の量子ドット２１が縦方向に整列しない程度の歪が残る厚さ、例えば３０ｎｍである。 - 特許庁 - The silica fine particles has pores, a porosity of 30 to 90% and a mean diameter of primary particles of 5 to 100 nm.
本発明のシリカ微粒子は、細孔を有し、空隙率が３０〜９０％であり、かつ１次粒子の平均径が５〜１００ｎｍであることを特徴とする。 - 特許庁 - The red light-emitting phosphor is represented by the formula: LiEuW_2O_81/xEuAO_3 (wherein x is 2-20; and A is at least one element chosen from boron, aluminum and gallium) and has an excitation peak wavelength of preferably 360-420 nm.
赤色発光蛍光体としては、下記一般式で表されることを特徴とし、励起ピーク波長が３６０〜４２０ｎｍであることが好ましい。 - 特許庁 - Also, the gold nanoparticle is provided which is produced by the method and in which ≥99% of the whole is 1 to 80 nm in a number-size distribution.
および、この方法により製造された個数基準粒径分布において全体の９９％以上が１ｎｍ以上８０ｎｍ以下にある金ナノ粒子。 - 特許庁 - In the plasma display panel, a magnesium oxide membrane having an optical index of refraction of 1.60 or less to the light of wavelength of 550 nm is formed on the uppermost surface of at least one of the substrates.
少なくとも一方の基板の最表面に、光学屈折率が波長５５０ｎｍの光に対して１．６０以下の酸化マグネシウム膜を形成する。 - 特許庁 - A material having ≥80% light transmittance in a photosynthetically active radiation range (400-700 nm) is preferably used as the coating material.
上記被覆資材としては、光合成有効放射領域（４００〜７００ｎｍ）の光透過率８０％以上の資材を用いることが好ましい。 - 特許庁 - To provide microparticles having high heat-ray-shielding performance and an average particle diameter of 100 nm or smaller as calculated from their BET specific surface area.
高い熱遮蔽性能を有し、ＢＥＴ表面積から算出される平均粒径が１００ｎｍ以下である微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a film having uniform optical characteristics that the retardation distribution in the plane of the film in the width direction is controlled within 5 nm by a simple means.
簡単な手段で、フィルムの幅方向の面内レターデーション分布を、５ｎｍ以内とする光学特性の均一なフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The barium titanate is a single crystal in the form of particles, in which particles without a void having a diameter of 1 nm or more are contained in an amount of ≥20% by number of the total particles.
単結晶であって、粒内に1ｎｍ以上の空孔が存在しない粒子が、粒子全体の２０％以上であるチタン酸バリウム。 - 特許庁 - In the amorphous silica porous material, total volume of the fine pore having ≤2 nm diameter is ≥70% per the volume of total fine pores.
本非晶質シリカ多孔質材料は、直径が２ｎｍ以下である細孔の容積の合計が全細孔容積に対して７０％以上である。 - 特許庁 - (1) (A) pigment contains 20% or higher weight of C.I. pigment red 175, and the average particle diameter r of the (A) pigment (in units of nm) is 50≤r≤300.
〔イ〕（Ａ）顔料がＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７５を２０重量％以上含み、かつ（Ａ）顔料の平均粒径ｒ（単位ｎｍ）が５０≦ｒ≦３００である。 - 特許庁 - Thickness of the metal back film is 5 to 100 nm and light transmittance is 10% or lower, thereby providing high luminance display with a high reflecting property.
さらに、メタルバック膜の膜厚を５〜１００nmで光透過率を１０％以下にすることで、反射性が良好で高輝度の表示を得ることができる。 - 特許庁 - The film includes 0.01-5 pts.wt. of antimony trioxide having an average particle size (D50) of 20-800 nm, based on 100 pts.wt. of a synthetic resin.
合成樹脂１００重量部に対して、平均粒子径（Ｄ５０）が２０〜８００ｎｍである三酸化アンチモンを０．０１〜５重量部含有させる。 - 特許庁 - To provide a resist composition which forms a resist structure having high resolution and excellent in etching resistance by imaging with radiation of 193 nm and development.
１９３ｎｍの放射でイメージングし、これを現像して、高解像度および耐エッチング性に優れたレジスト構造を形成するレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - In the ceramic surface treatment agent, metal nanoparticles in which the 90% cumulative diameter D_90 in a particle diameter distribution is ≤150 nm are colloid-dispersed into a dispersion medium.
窯業表面処理剤は、分散媒中に、粒度分布の９０％累積径Ｄ_90が１５０ｎｍ以下である金属ナノ粒子をコロイド分散させた。 - 特許庁 - Among them, the N-channel MISFET of which channel width is less than 400 nm is laid out so that the channel length direction is made to be crystal orientation <100>.
そのうちチャネル幅が４００ｎｍ未満であるＮチャネルＭＩＳＦＥＴは、チャネル長方向を結晶方位＜１００＞となるようにレイアウトする。 - 特許庁 - The honeycomb structure body is characterized by containing Si phase of which lattice constant at a room temperature is controlled to be 0.54302-0.54311 nm.
室温における格子定数が０．５４３０２〜０．５４３１１ｎｍに制御されたＳｉ相を含有することを特徴とするハニカム構造体である。 - 特許庁 - To provide a dye and the like covering the range of 500-580 nm in a polarizing film for a liquid crystal projector excellent in dyeability, durability and light resistance.
染色性、耐久性、耐光性に優れた液晶プロジェクター用の偏光膜において、５００〜５８０ｎｍの範囲の領域をカバーする染料等の提供。 - 特許庁 - It is also possible that the film thickness of the titanium film is controlled to ≤20 nm, and the stage of producing the titanium film and the stage of oxidizing the titanium film can alternately be repeated.
また、チタン膜の膜厚を２０ｎｍ以下とし、チタン膜を作製する工程とチタン膜を酸化する工程とを交互に繰り返して作製してもよい。 - 特許庁 - This complex rubber-based composition comprises a dispersed inorganic porous body which supports an additive selected from a metal, a metal salt and an inorganic compound and has 1-1,000 nm particle diameter.
金属、金属塩、無機化合物から選ばれた添加剤を担持した孔径１〜１０００ｎｍの無機多孔質体を分散した複合ゴム系組成物。 - 特許庁 - The antimicrobial coated film is obtained by dispersing metal particles having 50% cumulative diameter D_50 of particle size distribution of ≤100 nm into a film composed of a large number of resin particles.
抗菌コート膜は、多数の樹脂粒子からなる膜中に、粒度分布の５０％累積径Ｄ_50が１００ｎｍ以下である金属粒子を分散させた。 - 特許庁 - Moreover, the thickness of the interface layer 15 is preferably 10 nm to 1.5 μm, and if the thickness is within this range, the internal resistance of the battery can be reduced effectively.
また、界面層１５の厚さは、１０ｎｍ〜１．５μｍが好ましく、この範囲の厚さであれば、電池の内部抵抗を効果的に低減することができる。 - 特許庁 - A third laser beam generation means 300 is irradiated with a first laser beam 101 of wavelength 190 to 200 nm by a first laser irradiation means 100.
第１レーザ光照射手段１００により、波長１９０〜２００ｎｍの第１レーザ光１０１を第３レーザ光発生手段３００に照射する。 - 特許庁 - The metal wire material has a Young's modulus of ≥250 GPa and a structure in which TiB_2 is present in a metal matrix and the crystal grain size of the metal matrix is ≤500 nm.
金属マトリックス中に、TiB_2が存在する組織を有するヤング率が250GPa以上の金属線材において、金属マトリックスの結晶粒径を500ｎｍ以下とする。 - 特許庁 - Alumina layers on a base are plasma-sprayed so that particles of alumina in the layers have the size of 20-30 nm (nano-meter) and are mainly in α-phase.
基体上酸化アルミニウム層を、層中の酸化アルミニウムの粒子が２０〜３０ｎｍ（ナノメートル）の寸法を有し、かつ主にα相にあるようにプラズマ溶射する。 - 特許庁 - The porous membrane has pores with a mean pore size of not greater than 10 nm, and is composed of a porous body containing an Al element, a Ni element and an O element.
本発明の多孔質膜は、平均細孔径が１０ｎｍ以下の細孔を有し、Ａｌ元素と、Ｎｉ元素と、Ｏ元素とを含む多孔質体からなる。 - 特許庁 - The optical recording medium at least has a recording layer made of a phase-change material, and records and reproduces a signal by a laser beam with a wavelength of 380 nm-420 mn.
少なくとも相変化材料よりなる記録層を有し、波長３８０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザ光で記録再生される光記録媒体が開示される。 - 特許庁 - This method for kneading cement consists in executing kneading of the cement in the presence of 10 to 200 wt.% fine grain materials of 10 μm to 50 nm in grain size in the cement when kneading the cement.
セメント混練の際にセメントに対し粒径１０μｍ〜５０ｎｍの微粒材１０〜２００重量％の存在下に行うセメントの混練方法である。 - 特許庁 - To provide a photodetector capable of improving photosensitivity especially in the blue wavelength of a 405 nm band without increasing the internal resistance of a light receiving part.
受光部の内部抵抗を増加させることなく、特に、４０５ｎｍ帯の青色波長における受光感度が向上可能な受光素子を提供する。 - 特許庁 - The carbon material is exposed in a range of 10 nm to 10 μm from an outermost surface of the polymer resin molded body.
高分子樹脂成形体の最表面から10nm〜10μmの範囲に炭素材料が露出していることを特徴とする請求項１に記載の高分子樹脂成形体。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device in which off leak current can be suppressed sufficiently even if the length of a gate is 100 nm or less, and to provide a method for manufacturing the same.
ゲート長が１００ｎｍ以下であってもオフリーク電流を十分に抑制することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - When a diffusion preventing film exists in either the upper or lower interface, the physical film thickness must be adjusted to 2.8-5.0 nm.
上界面もしくは下界面どちらか一方に拡散防止膜がある場合には、物理膜厚を２．８ｎｍ以上５．０ｎｍ以下の範囲にする必要がある。 - 特許庁 - The copper powder for the conductive paste is preferably coated uniformly with the SiO_2 gel-coating film, having 200 nm or less for the thickness on the surface of the copper particles.
この導電ペースト用銅粉は，銅の粒子表面に好ましくは２００ｎｍ以下の厚みのＳｉＯ_2系ゲルコーティング膜が一様に被着している。 - 特許庁 - In the optical glass, the wave length λ70 at which the spectral transmittance is 70% is ≤590 nm, and the viscosity at a liquid-phase temperature is ≥2 dPa s.
また、分光透過率が７０％を示す波長λ７０が５９０ｎｍ以下であり、液相温度における粘度が２ｄＰａ・ｓ以上である光学ガラス。 - 特許庁 - The polyester film for optical use has an internal transparency degree of 96.5% or more, and one surface of the film has a roughness (Ra) of 9.0 nm or more.
内部透明度が９６．５％以上であり、一方のフィルム表面の粗さ（Ｒａ）が９．０ｎｍ以上であることを特徴とする光学用ポリエステルフィルム。 - 特許庁 - A light-emitting device comprises a light-emitting element emitting light having a wavelength of 250 to 500 nm, and a phosphor layer arranged on the light-emitting element.
２５０ｎｍ乃至５００ｎｍの波長の光を発光する発光素子と、前記発光素子上に配置された蛍光体層とを具備する発光装置である。 - 特許庁 - The objective non-aqueous ink for staining genuine bill or the like comprises magnetic particles with the average particle size of 5-25 nm, a vegetable oil and a non-aqueous liquid medium.
平均粒径５〜２５ｎｍの磁性粒子、植物油、及び非水性の液状媒体を含有することを特徴とする非水性真券汚染用インキ。 - 特許庁 - The erasing light of the wavelength of 750 nm emitted by a planar light source 20 is irradiated on the charge transport layer 13 from the reading photoconductive layer 14 side.
面状光源２０から発せられた波長７５０ｎｍの消去光を読取用光導電層１４側から電荷輸送層１３へ照射する。 - 特許庁 - To obtain the surface roughness of 0.2 nm RMS of an optical element used for a substance having an extremely short wavelength which has been difficult to be formed.
これまで形成することが困難であった波長の非常に短いものに使用する光学素子の表面粗さ０．２ｎｍＲＭＳを実現する。 - 特許庁
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