「pattern electrode」を含む例文一覧(3276)
＜前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 65 66 次へ＞- A resist 9 that covers the electrode wiring pattern 3 so as to expose to open the portion of the bonding pad 4 is provided.
ここで、ボンディングパッド４の部分が露出開口するように電極配線パターン３を被覆するレジスト９が設けられる。 - 特許庁 - An upper electrode 9 which is electrically connected with one part of the circuit pattern 3 for connection is formed on the ferroelectric film 7.
強誘電体膜７の上に接続用回路パターン３の一部と電気的に接続される上部電極９を形成する。 - 特許庁 - METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN FOR FORMING GATE ELECTRODE AND SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED BY USING THE SAME METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME DEVICE
ゲート電極形成用設計パターンの補正方法、当該方法を用いて形成される半導体装置とその製造方法 - 特許庁 - The gate electrode 126 is formed by selectively removing the conductive film 120 using the hard mask pattern 70 as a mask.
次いで、ハードマスクパターン７０をマスクとして導電膜１２０を選択的に除去することにより、ゲート電極１２６を形成する。 - 特許庁 - To provide a piezoelectric vibrator whose oscillation frequency is controlled before and after the reflow by machining the pattern of the electrode film.
電極膜のパターンを加工することで、リフロー前後の発振周波数の変化を抑制した圧電振動子を提供する。 - 特許庁 - The resist 5 is used as a mask and the silicon film 4 is etched, thereby forming a gate electrode 4a and a dummy pattern 4b.
次に、レジスト５をマスクにして、多結晶シリコン膜４のエッチングを行い、ゲート電極４ａ及びダミーパターン４ｂを形成する。 - 特許庁 - The floating gate electrode FG is covered with a cap insulation film 3a and a pattern of an insulation film 4a formed thereon.
浮遊ゲート電極ＦＧは、キャップ絶縁膜３ａと、その上に形成された絶縁膜４ａのパターンにより覆われている。 - 特許庁 - To provide an electrolyte membrane for manufacturing an electrode having an intended pattern with high quality and with productivity of high efficiency.
所望するパターンの電極を高品質のもと、高効率の生産性をもって製造するための電解質膜を提供する。 - 特許庁 - An electrode on the upper surface 20a of the semiconductor light emitting element 20 is connected to the wiring pattern 13 with a conductor wire 21.
半導体発光素子２０上面２０ａの電極と配線パターン１３との間が導体ワイヤ２１で接続される。 - 特許庁 - These inductance elements 52 play the role of a plating electrode pattern for forming the bonding portion 42 from the plating layer.
これらのインダクタンス素子５２は、接合部４２をめっき層によって形成する際のめっき用電極パターンの役割をなす。 - 特許庁 - Electrolytic plating is performed by using the metal thin film as a plating electrode, and a plating layer of predetermine wiring pattern is formed.
金属薄膜をめっき電極として電解めっきが行われ、予め定められた配線パターンのめっき層が形成される。 - 特許庁 - To provide a substrate for a display panel where the electrodes is less likely to peel off, regardless of minute electrode pattern.
微細化された電極パターンであっても、電極の剥離が生じにくいディスプレーパネル用基板を提供することを課題とする。 - 特許庁 - An internal electrode pattern 20 and a step difference accommodation layer 31 are formed in one chip area Q1 on a ceramic green sheet 11.
セラミックグリーンシート１１上の一チップ領域Ｑ１に内部電極パターン２０及び段差吸収層３１を形成する。 - 特許庁 - The anisotropic conducting film 22 makes electrical continuity only between electrode parts 2a to 4a of the components 2 to 4 and the conducting metal pattern 23'.
異方性導電膜２２は部品２〜４の電極部２ａ〜４ａと導電金属パターン２３’との間のみを導通させる。 - 特許庁 - After the pattern formation is completed, on the surface of the material, an electrode is formed generally by electroless metal plating.
パターン形成が完了した後、この材料の表面には一般に、無電解金属めっきによって電極が形成される。 - 特許庁 - By the lift-off method using the resist pattern RP4a, the source and drain electrodes aligned with the gate electrode GE2 are formed.
このレジストパターンＲＰ４ａを用いたリフトオフ法により、ゲート電極ＧＥ２に整合したソース・ドレイン電極を形成する。 - 特許庁 - A glass substrate can be used for the substrate 2, for example, and ITO which is a transparent electrode, for example can be used for the wiring pattern 3.
基板２は、例えばガラス基板が使用でき、配線パターン３は、例えば透明電極であるＩＴＯが使用できる。 - 特許庁 - Each electrode piece 4 includes at least two plane parts formed as terminal parts 42 to be brought into surface contact with a pattern part of a printed circuit board.
電極片４には平面部位を少なくとも２つ形成し、プリント基板のパターン部へ接面させる端子部４２にする。 - 特許庁 - In a structure wherein a counter electrode having rectangular flat pattern and a comb-shaped transparent pixel electrode which are formed by using a transparent material are superposed on one substrate via an insulating film in one pixel region, a notch or a slit is incorporated in the counter electrode so that a source electrode of an opaque material transmitting potential from a thin film transistor to the transparent pixel electrode does not overlap with the counter electrode.
１画素領域の一方の基板に透明材料で構成した平面パターンが矩形の対向電極と櫛歯状の透明の画素電極が絶縁膜を介して重なる構造において、薄膜トランジスタから透明の画素電極に電位を伝える不透明材料のソース電極が対向電極と重ならないように、対向電極に切り欠きあるいはスリットいれる。 - 特許庁 - The conductive pattern 120 includes a first mounting portion set and two via portions along a first electric path between the first electrode 130 and second electrode 140 of the first electrode pair, and a second mounting portion set and two via portions along a second electric path between the first electrode 132 and second electrode 142 of the second electrode pair and different from the first electric path.
前記導電パターン１２０は、第１電極対の第１電極１３０と第２電極１４０との間の第１電気的経路に沿った第１マウンティング部セットおよび２つのビア部と、第２電極対の第１電極１３２と第２電極１４２との間の第１電気的経路と異なる第２電気的経路に沿った第２マウンティング部セットおよび２つのビア部を含む。 - 特許庁 - One substrate of the liquid crystal display has a common electrode, a pixel electrode P disposed on the common electrode via an insulating film and having a pattern of a stripe shape, an alignment layer disposed on the pixel electrode P and aligning a liquid crystal, and a means for applying voltage between the pixel electrode P and the common electrode to change an alignment state of the liquid crystal.
液晶表示装置の片方の基板は、共通電極と、絶縁膜を介して共通電極の上に配されたストライプ状のパターンを有する画素電極Ｐと、画素電極Ｐの上に配され液晶を配向する配向層と、画素電極Ｐと共通電極との間に電圧を印加して液晶の配向状態を変化させる手段とを有する。 - 特許庁 - The metal mask for crystal electrode deposition comprising a lower frame tool having an opening part in which a magnet is buried, a lower electrode metal mask having an electrode pattern opening part, an intermediate plate having an opening part in which the crystal plate is charged, and an upper metal mask having an electrode pattern opening part is constituted by burying many shape memory alloys in the intermediate plate.
マグネットを埋設した開口部を有する下枠治具と、電極パターン開口部を有する下電極メタルマスクと、水晶板を充填する開口部を有する中板と、電極パターン開口部を有する上電極メタルマスクと、を備えた水晶電極成膜用メタルマスクにおいて、前記中板に多数の形状記憶合金を埋設して水晶電極成膜用メタルマスクを構成する。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern capable of inexpensively forming a bump electrode, a wiring pattern, a spacer for a liquid crystal display unit, a spacer for a touch panel and a pattern such as a barrier or the like for a plasma display panel on a material to be formed such as a substrate or the like.
基板などの被形成体上にバンプ電極、配線パターン、液晶表示装置用のスペーサ、タッチパネル用のスペーサ、プラズマディスプレイパネル用の障壁等のパターンを安価に形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To overcome the problem in a circuit pattern inspection apparatus using an electrode contactlessly or capacitively coupled to the conductor pattern, wherein it is difficult to determine a defect since an obtained inspection signal value is small if a conductor pattern to be inspected is microfabricated.
導体パターンに非接触で容量結合した電極を用いた回路パターン検査装置においては、検査対象の導電パターンの微細化が進むと共に、得られる検査信号値が小さくなり、欠陥の判定が難しくなっている。 - 特許庁 - Therefore, the inter-substrate conduction is not necessary in the part where the pattern has to be diagonally extended, but only the 2nd electrode pattern 50 permitting to narrow the distance between the patterns has to be formed in the part where the pattern has to be diagonally extended.
このため、パターンを斜めに延ばさざるを得ない部分で基板間導通を行う必要がなく、パターンを斜めに延ばさざるを得ない部分には、パターン間の距離を狭めることのできる第２の電極パターン５０のみを形成すればよくなる。 - 特許庁 - Then, the array substrate is manufactured by performing the patterning of a transparent conductive film 13 having the same pattern as that of the pixel electrode 8 with the resist pattern 13 as a mask, ion-irradiating the transparent conductive film 10 and forming the transparent conductive pattern 13.
そして、前記レジストパターン１１をマスクとして、前記透明導電膜１０にイオン照射することによりパターニングを行い、前記画素電極８と同じパターンの透明導電パターン１３を形成することによりアレイ基板が製造できる。 - 特許庁 - Pattern electrodes of the outer peripheral part divided into a plurality (32A_3-32A_6) are used also for correcting astigmatism and spherical aberrations, and the pattern electrodes (32A_1-32A_2) of the center part are used for correcting the spherical aberrations, together with the pattern electrode of the outer peripheral part.
複数に分割された外周部のパターン電極（３２Ａ_３〜３２Ａ_６）は、非点収差補正及び球面収差補正に兼用され、中心部のパターン電極（３２Ａ_１、３２Ａ_２）は、外周部のパターン電極と共に、球面収差補正に用いられる。 - 特許庁 - This pattern electrode jointing apparatus 100 comprises an apparatus 170 for providing and biasing a plurality of TABs 160 to a plurality of pattern electrodes formed on a glass panel for PDP or LCD, and joints a plurality of pattern electrodes to a plurality of TABs.
パターン電極接合装置１００は、ＰＤＰかＬＣＤ用ガラスパネル上に形成した複数のパターン電極に、複数のＴＡＢ１６０を供与押圧する装置１７０からなり、複数のパターン電極を複数ＴＡＢと接合する。 - 特許庁 - To easily, speedily and accurately repair a defect (wire breaking, detect in conduction, etc.), generated on a microcircuit pattern such as an address electrode pattern of a flat panel display (plasma display panel, liquid crystal display, etc.), and an LSI circuit pattern on a silicon wafer.
フラットディスプレイパネル（プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ等）のアドレス電極パターンやシリコンウェハ上のＬＳＩ回路パターン等の微細回路パターン上に生じた欠陥（断線、導通不良等）を、簡単、迅速かつ正確に修復することができる。 - 特許庁 - To avoid a hindrance in an electric characteristic even when a tolerance in accuracy of printing position of an electrode pattern in a laminated piezoelectric element which is formed in such a manner that an electrostriction material green sheet having a conductive paste and an electrode pattern printed thereon is laminated to be baked.
導電性ペーストの電極パターンが印刷された電歪材料グリーンシートを積層し焼成することにより形成する積層圧電素子において、電極パターンの印刷位置精度の許容公差が大きくても電気特性に支障が生じないようにする。 - 特許庁 - This semiconductor device is provided with a substrate (1) whose thickness is 100 μm or less, an electrode pattern (2) formed on the semiconductor substrate, and an insulating film (3') whose thickness is 50 μm or more left in at least any part other than the electrode pattern at the substrate surface.
半導体装置は、厚さが１００μｍ以下の半導体基板（１）と、前記半導体基板上に形成された電極パターン（２）と、基板表面側の少なくとも前記電極パターン以外の部分に残置された厚さ５０μｍ以上の絶縁膜（３'）を有する。 - 特許庁 - A first insulating base and a second insulating base 2, both of which are made of ceramics, are oppositely disposed with a gap between a first capacitance detecting electrode pattern and a second capacitance detecting electrode pattern which are provided on their respective opposite surfaces.
セラミック製の第１の絶縁性基体とセラミック製の第２の絶縁性基体２とを、相互の対向面に設けている第１の静電容量検出用電極パターンと第２の静電容量検出用電極パターンとの間に間隔をあけて対向配置する。 - 特許庁 - A gate insulating film 38 and a gate electrode 39 are formed on an upper silicon pattern 25a, and a source 36 and a drain area 37 and a channel area between them are formed on the upper silicon pattern 25a with the gate electrode 39 as a center.
上部シリコンパターン２５ａ上にはゲート絶縁膜３８及びゲート電極３９が形成されており、ゲート電極３９を中心として上部シリコンパターン２５ａにはソース３６及びドレイン領域３７とその間のチャンネル領域が形成されている。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the electrooptical device, a tantalum film 6 is patterned to form a first tantalum pattern 6a and a second tantalum pattern 6b having a data line 2, a lower electrode 62 for a holding capacitor, and a common electrode 63.
電気光学装置の製造方法において、タンタル膜６をパターニングし、非線形素子用下電極６１を備えた第１のタンタルパターン６ａと、データ線２、保持容量用下電極６２、および共通電極６３を備えた第２のタンタルパターン６ｂとを形成する。 - 特許庁 - To enhance productivity of an optical wave guide circuit device by forming an electrode pattern by making the wet etching from an electrode layer laminated by sputters on the thin film heater pattern of a heating device of the optical wave guide circuit device which can tune an optical path length finely.
光路長を微調整可能な光導波回路装置の加熱装置の薄膜ヒータパターンの上にスパッタ法により積層した電極層からウエットエッチングして電極パターンを成形することによりその光導波回路装置の生産性を高める。 - 特許庁 - In this case, although the step for forming the electrode pattern layer becomes a so-called Wet-on-Dry system, the green sheet has already been cured by two-pack polymerization when the electrode pattern layer is formed, thus preventing the sheet attack phenomenon from occurring.
本発明によれば、電極パターン層を形成するステップがいわゆるＷｅｔ−ｏｎ−Ｄｒｙ方式となるが、電極パターン層を形成する時点では、２液重合により既にグリーンシートが硬化していることから、シートアタック現象が生じることはない。 - 特許庁 - To provide a method for forming an electrode pattern required for obtaining a device having good characteristics and quality through a simple process while forming an antireflection film for preventing diffuse reflection of UV-rays on a transparent substrate in a process for forming an electrode pattern thereon.
透明基板に電極パターンを形成する工程において、透明基板の紫外光の乱反射を防ぐ反射防止膜を形成しつつ、簡易な工程で、良好な特性および品質の部品を得る電極パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To enhance pattern printing accuracy and to provide an electronic component and method of manufacturing, capable of forming a pattern or an electrode film of proper prescribed thickness for each electronic component, to form an electrode on place of high aspect ratio.
従来の問題点であったパターン印刷精度を高めるだけでなく、電子部品の使用場所に適した所定の膜厚で、パターン及び電極を形成したり、更には、アスペクト比の高い部分にも電極を形成可能な電子部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - On the substrate, an electrode is formed prior to formation of a thin film, and when at least one hole is bored through the thin film according to the prescribed pattern, and the substrate surface is exposed according to the prescribed pattern, at least a part of the electrode is exposed through the hole.
基板上には、薄膜の形成に先立って、電極を形成し、所定のパターンに対応して薄膜に少なくとも一つの孔を穿孔して所定のパターンに対応して基板の表面を露呈した際に、孔において、電極の少なくとも一部が露呈される。 - 特許庁 - A first electrode pattern 4 including a plurality of transparent conductive film patterns extending in one in-plane direction is formed on one surface of a transparent glass substrate 2, and a transparent dielectric film 6 is formed over the substrate surface to cover the electrode pattern 4.
透明ガラス基板２の一方の表面上に、面内の一方向に延びる複数の透明導電膜パターンからなる第１電極パターン４が形成され、電極パターン４上を被うように基板表面上には透明な誘電体膜６が形成されている。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a circuit board capable of appropriately suppressing the disconnection and/or the short circuit in an electrode pattern even when the cross-section or the pitch of the electrode pattern formed in a ceramic green sheet is made small.
特に、セラミックグリーンシートに形成される電極パターンの断面を小さく形成したりあるいは狭ピッチ化によっても、前記電極パターンの断線や短絡を適切に抑制することが出来る回路基板の製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - While taking account of a case where high accuracy dimensional control by double exposure is impossible, a part superposed with an impurity region pattern constituting a source-drain electrode is removed from the object of enlargement and superposition for a gate electrode pattern.
２重露光による高精度な寸法コントロールが不可能な場合を考慮して、ゲート電極パターンに関してはソース・ドレイン電極を構成するための不純物領域パターンと重なる部分を前記拡大及び重ね合わせ処理の対象から除外する。 - 特許庁 - A left/right symmetry of a shape of the metal dummy pattern 6 viewed from the center GC of the gate electrode 1 is kept in the region of the gate electrode 1 even if a position of the metal dummy pattern 6 is displaced from its original design caused by the displacement of a mask of wiring.
配線のマスクずれの発生により、メタルダミーパターン６の位置が設計時からずれた場合であっても、ゲート電極１の領域内において、ゲート電極１の中心ＧＣから見たメタルダミーパターン６の形状は、左右対称性が保たれる。 - 特許庁 - The piezoelectric device (100) include: a piezoelectric vibrating piece (30) having a first electrode pattern (33) and a second electrode pattern (34); a glass base (40) having a first surface and an opposite second surface of the first surface and placing the piezoelectric vibrating piece; and a lid portion (65) for sealing the piezoelectric vibrating piece.
圧電デバイス（１００）は、第１電極パターン（３３）と第２電極パターン（３４）とを有する圧電振動片（３０）と、第１面とこの反対面の第２面とを有し、圧電振動片を載置するガラスベース（４０）と、圧電振動片を封止する蓋部（６５）とを有する。 - 特許庁 - An LED chip 1 is mounted at the distal end of the circuit pattern 4c, upper electrode of the LED chip 1 is connected with an electrode pattern 5c through a bonding wire 6, and the LED chip 1 and the bonding wire 6 are sealed with translucent resin.
そして、回路パターン４ｃの先端部にはＬＥＤチップ１が実装され、ＬＥＤチップ１の上側電極はボンディングワイヤ６を介して電極パターン５ｃに接続され、ＬＥＤチップ１とボンディングワイヤ６が透光性樹脂によって樹脂封止されている。 - 特許庁 - The method for forming the electrode pattern comprises the steps of mixing the coating sintering auxiliary material 10 with coating electrode particles 22 obtained by coating the metal or the alloy particles with the thermoplastic resin layer to form a developer, and printing a predetermined pattern on the board 20 by using the developer by the electrophotography.
この被覆焼結助材１０と、金属又は合金粒子を熱可塑性樹脂層で被覆した被覆電極粒子２２を混ぜて現像剤を作成し、この現像剤を用いてガラス基板２０上に所定のパターンを電子写真法で印刷する。 - 特許庁 - One end of each through electrode pattern 1a and 1b is led out to an input terminal 21 formed on a ceramic laminate 14, the other end of each through electrode pattern 1a and 1b is led out to an output terminal 22 formed on the ceramic laminate 14.
貫通電極パターン１ａ，１ｂの各々の一端はセラミック積層体１４に形成された入力端子２１に引き出され、貫通電極パターン１ａ，１ｂの各々の他端はセラミック積層体１４に形成された出力端子２２に引き出されている。 - 特許庁 - To provide a gas discharge display device and a manufacturing method of the same which is capable of forming an electrode pattern of a trapezoid shape with uniformity and without the occurrence of defects or the like in the process of electrode-pattern forming, and also is capable of displaying with high quality.
電極パターンを形成する工程で、均一でかつ欠陥等を発生させることなく台形形状の電極パターンを形成することを可能とし、高品位な表示を可能とするガス放電表示装置およびその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - The method includes steps of providing a semiconductor substrate on which a gate electrode pattern is formed, implementing many-time simultaneous vapor deposition and etching processes to form an interlayer dielectric film made up of multilayer HDP oxidized films so as to embed the gate electrode pattern.
ゲート電極パターンが形成された半導体基板を提供する段階と、多数回の同時蒸着及びエッチング工程を行い、前記ゲート電極パターンが埋め込まれるように多層のＨＤＰ酸化膜からなる層間絶縁膜を形成する段階とを含む。 - 特許庁 - The sidewall is arranged in a state which is in contact with the side surface of the ferroelectric film, the lower surface of the upper electrode in a part protruding from a pattern of the ferroelectric film, and the upper surface of the lower electrode in a part protruding from the pattern of the ferroelectric film.
側壁は、強誘電体膜の側面、強誘電体膜のパタンからはみ出た部分の上部電極の下面、および強誘電体膜のパタンからはみ出た部分の下部電極の上面にそれぞれ接触した状態で設けられている。 - 特許庁
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