「pattern electrode」を含む例文一覧(3276)

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  • Wiring pattern 251 connecting an electrode 221 on a reference terminal side of the interdigital transducer 212 with an electrode 226 on a reference terminal side of the interdigital transducer 213 on the piezoelectric substrate 208 is provided.
    くし型電極部212の基準端子側の電極221と、くし型電極部213の基準端子側の電極226とを圧電基板208上にて接続する配線パターン251を設ける。 - 特許庁
  • A seal pattern is formed on one electrode substrate out of electrode substrates 1, 2 by screen-printing or dispensing and the solvent is dried up by pre-baking (heating at 80-100°C for 10-30 minutes).
    電極基板1,2のうち一方の電極基板上にスクリーン印刷またはディスペンサによってシールパターンを形成し、プリベーク(80〜100℃で10〜30分間加熱)によって溶剤を乾燥させる。 - 特許庁
  • The formed SiOX layer 6a is removed with hydrofluoric acid to form the SiOC mask 6b, the gate electrode layer 3 is etched using this SiOC mask 6b, and thereby a wiring pattern 3a of the gate electrode can be obtained.
    形成されたSiO_x層6aをフッ酸で除去してSiOCマスク6bを形成し、このSiOCマスク6bを用いてゲート電極層3をエッチングし、ゲート電極の配線パターン3aを得る。 - 特許庁
  • A horizontal transparent electrode is driven from a vertical driving detecting part 3, thereby to obtain a detection pattern corresponding to the touch part of a vertical transparent electrode from a horizontal driving detecting part 4.
    垂直駆動検出部3から水平方向の透明電極を駆動することにより、水平駆動検出部4から垂直方向の透明電極のタッチ箇所に応じた検出パターンを得る。 - 特許庁
  • The vertical transparent electrode is driven from the horizontal driving detecting part 4, thereby to obtain a detection pattern corresponding to the touch part of the horizontal transparent electrode from the vertical driving detecting part 3.
    また、水平駆動検出部4から垂直方向の透明電極を駆動することにより、垂直駆動検出部3から水平方向の透明電極のタッチ箇所に応じた検出パターンを得る。 - 特許庁
  • The metal thin film, semiconductor film, and second insulating film are patterned, based on the same pattern until the first insulating film is exposed, to form a signal wire, a source electrode, and a drain electrode.
    上記金属薄膜、半導体膜、および第2絶縁膜を同一パターンに基づいて第1絶縁膜が露出するまでパターニングして信号線、ソース電極及びドレイン電極を形成する。 - 特許庁
  • The photocurable resin composition is coated on a transparent electrode of the front glass substrate, exposed to form a predetermined pattern, developed and baked to form underlayer (black layer) electrode circuit of PDP.
    このような光硬化性樹脂組成物を前面ガラス基板の透明電極上に塗布し、所定のパターン通りに露光し、現像、焼成することにより、PDPの下層(黒層)電極回路が形成される。 - 特許庁
  • Possibility of causing even a small error in the dimension of the gate electrode due to an effect of double exposure an thereby be prevented and high accuracy can be sustained in the mask pattern with regard to the gate electrode.
    2重露光の影響を受けてゲート電極の寸法に僅かであっても誤差を生ずる虞を未然に防止することができ、ゲート電極に関するマスクパターンには高精度を維持させることができる。 - 特許庁
  • A metallic plating film 8 is formed in the resist frame 7 by a frame plating method using the electrode film 4 as an electrode and the resist frame 7 is dissolved and removed to form a metallic pattern layer 9.
    次いで、このレジストフレーム7内に電極膜4を電極として、フレームメッキ法により金属メッキ膜8を形成し、レジストフレーム7を溶解除去することにより金属パターン層9を形成する。 - 特許庁
  • The ceramic green-sheet used for ceramic electronic components comprises a ceramic green-sheet 15 provided with an embedded electrode having compression property formed by coating a ceramics slurry, over a lower ceramic green-sheet 11 with an electrode pattern 12 formed thereto.
    電極パターン12が形成された下部セラミックグリーンシート11の上に、セラミックスラリーをオーバーコートすることにより形成した圧縮性を有する電極埋め込みセラミックグリーンシート15とする。 - 特許庁
  • A sub-heater pattern 3 having a sub-heating part 31 for heating the main electrode parts 22 and a pair of sub-electrode parts 32 supplying power to the sub-heating part 31 is arranged on the ceramic heater 1.
    セラミックヒータ1は、メイン電極部22を加熱するためのサブ発熱部31と、サブ発熱部31に電力を供給するための一対のサブ電極部32とを有するサブヒータパターン3を設けてなる。 - 特許庁
  • In this way, by providing the connecting portions of the printed circuit board with its parts at places other than the electrode terminals 7A, 7B, the corresponding strengths of the damages of the metallic pattern portions 5A, 5B associated with the electrode terminals 7A, 7B are improved.
    このように部品とプリント配線基板の接続部を電極端子7A、7B以外に設けることにより、電極端子部分の金属パターン部の破損の対応強度を向上させる。 - 特許庁
  • The electrode arrangement is provided with the base material film 10, in which a dimple 50 is demarcated in the inner circumference of a flexible part 500, and the electrode layer 20 and the insulation layer 30 which are pattern formed in the base material film 10.
    電極装置は、屈曲部500の内周に窪み50を区画する基材フィルム10と、基材フィルム10にパタ−ン形成した電極層20および絶縁層30を備える。 - 特許庁
  • In a pattern forming base 10, electrode pieces 13 are arranged in a matrix on a substrate having insulating properties so as to be isolated from each other, and an insulating layer covers a plurality of electrode pieces 13.
    パターン形成基材10には、絶縁性を有する基板上において電極片13が互いに離隔するようにマトリクス状に配列されており、絶縁層が複数の電極片13を覆っている。 - 特許庁
  • The second dielectric film 14 is in contact with the upper electrode 15 and the first dielectric film 13, and covers the processing edge face 12a of the conductor pattern constituting the lower electrode 12.
    また、第2の誘電膜14は、上部電極15および第1の誘電膜13に接するとともに、下部電極12を構成する導電体パターンの加工端面12aを被覆している。 - 特許庁
  • The stacked piezoelectric member 13 is constituted by stacking first electrode layers 12A or second electrode layers 12B formed in a predetermined pattern in between a plurality of green sheets 11.
    複数枚のグリーンシート11に所定のパターンで形成される第1の電極層12Aあるいは第2の電極層12Bを挟ませて積層させることによって、圧電積層体13を構成する。 - 特許庁
  • As a result, between a pair of electrodes of the electrode plate 13B and the pattern region 11 opposite to the electrode plate 13B, air interposed as a dielectric layer 14 of a capacitor 15 can be formed.
    これにより、電極板13B及び電極板13Bに対向するパターン領域11からなる1対の電極間に誘電層14として空気が介在したコンデンサ15を形成することができる。 - 特許庁
  • To provide a flat panel display device having an electrode pattern which can thicken the line width of a leader part 103 with a simple design regarding the electrode of the thinned leader part 103 causing disconnection.
    断線の原因となる細化された引出し部103電極について、単純な設計で引出し部103の線幅を太くできる電極パターンを有するフラットパネルディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a polarization reversal crystal in which a more preferable reversal region according to an electrode pattern can be formed while suppressing diffusion of an electrode material into the crystal.
    結晶内への電極材料の拡散を抑制しながらも、電極パターンに従ったより良好な反転領域の形成を可能とする、分極反転結晶の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • An Au wire 5 firstly joins one common terminal 1a on the electrode pattern 1 by ball bonding, and directly makes wedge bonding to an upper electrode 3a of a next light-emitting diode.
    Auワイヤ5は、まず始めに電極パターン1上の一方の共通端子1a上にボールボンディングによって接合し、そのまま隣の発光ダイオード3の上面電極3aにウェッジボンディングする。 - 特許庁
  • The electrode terminal patterns 27, 29 are formed on the base end side of the hydrogen separation tube 8 at the inside of the tube, and the respective electrode terminal patterns 27, 29 are connected to both ends of the heat pattern 25.
    また、電極端子パターン27、29は、水素分離筒8の内側にて、その基端側に形成されており、各電極端子パターン27、29は、ヒータパターン25の両端にそれぞれ接続されている。 - 特許庁
  • To enable a method to highly accurately pattern a pixel electrode and moreover, to prevent a residue from remaining in the case of forming the pixel electrode of a liq. crystal device by using an aluminum(Al) alloy being a reflective material.
    反射材料であるアルミニウム(Al)合金を用いて液晶装置の画素電極を形成する場合に、その画素電極を高精度にパターニングでき、しかも残渣が残ることを防止できるようにする。 - 特許庁
  • When the prescribed voltage is applied to transparent electrodes 15a, 15b, an electrode pattern for adjusting rim strength of the light beam for BD is formed in the transparent electrode 15b.
    また、透明電極15bには、透明電極15a、15bに所定の電圧を印加した場合に、BD用の光ビームについてリム強度の調整を可能とする電極パターンが形成されている。 - 特許庁
  • The support substrate 60 is peeled off a stack 40 including the electrode formation layer 62 and thin film transistor 30 and the electrode formation layer 62 is divided in a predetermined pattern to form pixel electrodes.
    その後、電極形成層62及び薄膜トランジスタ30を含む積層体40から支持基板60を剥離し、電極形成層62を所定のパターン状に分割し、画素電極を形成する。 - 特許庁
  • To enable the rapid extraction of the surface abnormality of an electrode or the microflaw in the fine wire pattern of the electrode and the accurate judgment of the quality of a semiconductor device in a visual examination method of the semiconductor device.
    半導体装置の外観検査方法において、迅速な電極表面の異状や細線パターンにおける微細欠陥の抽出、及び正確な良・不良の判定を可能にする。 - 特許庁
  • A high frequency signal pattern 12 of the flexible substrate 11 is detachably pushed to the contactor 17, and the high frequency signal pattern 12 of the flexible substrate 11 and the electrode pattern 16 of the dielectric substrate 15 are electrically connected via the contactor 17.
    フレキシブル基板11の高周波信号用パターン12をコンタクタ17に着脱可能に押し当てて、フレキシブル基板11の高周波信号用パターン12と誘電体基板15の電極パターン16とをコンタクタ17を介して電気的に接続させる。 - 特許庁
  • On the wiring board 1 where a lead-out pattern 5 is extended from an electrode pad 4 connected to an IC chip 2, the identification mark 6 indicating information on the electronic component 2 is formed integrally with the lead-out pattern 5 and the identification mark 6 constitutes a portion of the lead-out pattern 5.
    ICチップ2が接続される電極パッド4から引出パターン5が延出している配線基板1において、電子部品2に関する情報を示す識別マーク6が引出パターン5に一体に形成され、識別マーク6が引出パターン5の一部を構成している。 - 特許庁
  • That is, the opening section electrode forming mask 110 has the elongated groove-like translucent pattern 114 as a basic pattern part, and the translucent patterns 116 and 118 which expand each of the two elongated longitudinal groove-like edges as correction pattern parts.
    すなわち、透光パターンとしては、基本パターン部として細長い溝状形状の透光パターン114と、補正パターン部として細長い溝状形状の長手方向の両端部のそれぞれの部分を拡張する透光パターン116,118とを有する。 - 特許庁
  • After an ITO film pattern, such as a pixel electrode 52, is formed on the planarizing film 4, the back channel part 55 in a groove form is formed by etching, while using the resist pattern for the ITO film pattern as a mask or using the ITO film itself as a mask to complete the TFT 7.
    そして、平坦化膜4上に画素電極52等のITO膜パターンを形成した後、これに用いたレジストパターン、またはITO膜パターンそのものをマスクとしたエッチングにより、谷溝状のバックチャネル部55を形成し、TFT7を完成させる。 - 特許庁
  • By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a partition wall having portions with different film thickness is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of processes.
    回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁
  • By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a barrier rib having portions with different film thicknesses is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of steps.
    回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極(第1の電極とも呼ぶ)上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁
  • A first impurity region 4ad acting line a source region and a second impurity region 4ae acting like a drain region are formed through ion implantation by using a resist pattern for forming a gate electrode of a transistor as a mask, and the gate electrode 9 including lower electrodes 6a, 8a and an upper electrode 7a is formed by using the resist pattern for a mask.
    トランジスタのゲート電極を形成するためのレジストパターンをマスクとしてイオン注入によりソース領域となる第1不純物領域4adとドレイン領域となる第2不純物領域4aeが形成され、そのレジストパターンをマスクとして下部電極6a,8aと上部電極7aを有するゲート電極9が形成される。 - 特許庁
  • A photosensitive resin pattern 301 covering the control electrode part 140 is formed by a stencil printing plate method such as a screen printing method, a desired region including the uppermost part of the control electrode part 140 of the of photosensitive resin pattern 301 is exposed, developed and the protective layer 302 covering a predetermined region including the uppermost part of the control electrode part 140 is formed.
    スクリーン印刷法などの孔版印刷法により、制御電極部140を覆う感光性樹脂パターン301を形成し、感光性樹脂パターン301の、制御電極部140の最上部を含む所望の領域に露光を施し、これを現像し、制御電極部140の最上部を含む所定の領域を覆う保護膜302を形成する。 - 特許庁
  • When the transparent electrode is formed, the transparent electrode of the prescribed pattern is formed with a first mask 22 opened with the prescribed pattern by the vacuum thin film forming technique, and an organic EL luminescent material is laminated by the vacuum thin film forming technique with a second mask 30 opened in the prescribed range of the transparent electrode.
    透明電極14を形成する際に、所定のパターンが開口した第一のマスク22を用いて真空薄膜形成技術により所定パターンの透明電極14を形成し、透明電極14の所定範囲に開口した第二のマスク30を用いて有機EL発光材料を真空薄膜形成技術により積層する。 - 特許庁
  • A pressing force detection sensor 100 includes a frame-shaped base member 55 having an opening part at an in-plane center region, one pair of or a plurality of pairs of first and second electrode patterns 51 and 52 provided on the base member side by side at a predetermined interval, and an elastic conductor 53 arranged between a first electrode pattern and a second electrode pattern.
    押圧検知センサ100は、面内中央部位に開口部を有する額縁形状のベース部材55と、ベース部材上に所定の間隔で並設された一組または複数組の第1および第2の電極パターン51,52と、第1の電極パターンと第2の電極パターンとの間に配置された弾性導電体53とを備える。 - 特許庁
  • This electrochemical machining electrode tool includes: a conductive pattern formed by a projecting part 5 to 50 μm high, in which the electrode tool base material is exposed; and an insulating thin film formed of deposited polymer resin or deposited resin 5 to 50 μm provided on the surface of the electrode tool base material outside of the conductive pattern.
    電極基材が露出している高さ5〜50μmの凸部によって形成される導電パターンと、導電パターン以外の電極基材の表面に設けられた5〜50μmの蒸着重合樹脂若しくは蒸着樹脂による絶縁薄膜とから成ることを特徴とする電解加工用電極工具及びその製造方法。 - 特許庁
  • Upon forming a gate composed of a gate electrode and a gate wiring, only the gate electrode pattern 12 is formed by a double exposure processing using a first mask 1 and a second mask 2, and thereafter the gate wiring pattern 13 is formed by an exposing processing using a third mask 3.
    ゲート電極及びゲート配線からなるゲートを形成するに際して、第1のマスク1及び第2のマスク2を用いた二重露光処理により、ゲート電極パターン12のみを形成した後、第3のマスク3を用いた露光処理により、ゲート配線パターン13を形成する。 - 特許庁
  • The laminate is formed of an internal portion 10, constituted of laminating a plurality of ceramic green sheets 2 forming a pattern 3 for an internal electrode on a surface, and an external layer portion 20, constituted of laminating the ceramic green sheets which do not form the pattern for the internal electrode to clip this.
    積層体は、表面に内部電極用パターン3を形成したセラミックグリーンシート1を複数積層してなる内層部10と、これを挟むように、内部電極用パターンを形成していないセラミックグリーンシート2を積層してなる外層部20とから形成される。 - 特許庁
  • By preliminarily forming the metal film, change in electric characteristics is prevented even when the metal film for adjustment is stuck to the fixed part during the frequency adjustment, thereby change in electric capacity of an electrode pattern is reduced and occurrence of floating capacity of the electrode pattern is suppressed.
    金属膜を予め形成しておくことによって、周波数調整時に固定部分に調整用の金属膜が付着した場合であっても、電気的特性が変化しないようにすることで、電極パターンの電気容量の変化を低減し、また、電極パターンの浮遊容量の発生を抑制する。 - 特許庁
  • In the sensor device, a first electrode section having a first array pattern is formed on a first substrate, and a second electrode section having a second array pattern is formed on a second substrate that opposes the first substrate following traveling of the first substrate.
    センサ装置においては、第1基板上に第1の配列パターンを有する第1の電極部が形成され、前記第1の基板の走行に伴い第1の基板に対向される第2の基板上には、第2の配列パターンを有する第2の電極部が形成されている。 - 特許庁
  • The liquid crystal aberration correction device 4 corrects wave aberration of a light beam advancing to the objective lens, and has a liquid crystal molecule layer 24, a first electrode pattern 41-45 arranged on one surface of the liquid crystal molecule layer and a second electrode pattern arranged on the other surface thereof.
    対物レンズに向かう光線の波面収差を補正する液晶収差補正装置4であって、液晶分子層24と、液晶分子層の一方の面に備えられた第1の電極パターン41〜45と、他方の面に備えられた第2の電極パターンとを有する。 - 特許庁
  • In the method for manufacturing the semiconductor device, a semiconductor chip 20 having an electrode 22 is mounted on a substrate 10 having a wiring pattern 12, and a conductive layer 50 which electrically connects the electrode 22 and wiring pattern 12 together is formed through the flank of the semiconductor chip 20.
    半導体装置の製造方法は、配線パターン12を有する基板10に電極22を有する半導体チップ20を搭載し、電極22と配線パターン12とを電気的に接続する導電層50を、半導体チップ20の側面を通るように形成することを含む。 - 特許庁
  • In a method of manufacturing a semiconductor device, in which wiring patterns 20 and 21 and gate electrode patterns 36 and 37 having various pattern densities coexist mixedly, the wiring patterns 20 and 21 and gate electrode patterns 36 and 37 are formed, by dry etching performed under an etching condition such that the etching rate becomes faster as the pattern densities become higher.
    様々なパターン密度を有する配線パターン20、21やゲート電極パターン36、37が混在する半導体装置の製造方法において、パターン密度が高いほど、エッチング速度が速くなるエッチング条件によるドライエッチングで配線パターンやゲート電極パターンのパターニングを行なう。 - 特許庁
  • In other words, the thick film electrode 210 is arranged from the mid part of the side wall 202a of the piezoelectric/electrostriction layer 202 over the first wiring pattern 208A, and a third wiring pattern 208C is formed at a part including a second piezoelectric/electrostriction layer 202B and the thick film electrode 210.
    すなわち、圧電/電歪層202の側壁202aの途中から第1の配線パターン208A上にかけて厚膜電極210が配置され、2層目の圧電/電歪層202Bと厚膜電極210とを含む部分に第3の配線パターン208Cが形成されている。 - 特許庁
  • To provide a connection structure of a conductive particle for a connection member that has excellent repairing properties, excellent connection reliability in the electrode with a minute area in the electrical connection of a fine pattern, high insulating properties between fine wires, and excellent connection properties in a wide electrode pattern.
    リペア性に優れ、微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の接続信頼性に優れると共に、微細な配線間の絶縁性が高く、幅広い電極パターンの接続性に優れた接続部材のための、導電粒子の連結構造体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a transparent electrode substrate excellent in conductivity, capable of maintaining high levels of adhesion, storage stability and conductivity, and also excellent in heat resistance and moist heat resistance, while a pattern with high resolution can be formed in an electrode obtained by performing patterning and a pattern shape is also excellent.
    導電性に優れ、かつ、密着性、保存安定性、導通率を高いレベルで維持することができ、耐熱性、耐湿熱性も良好であり、パターニングを行って得られた電極は、解像度の高いパターンが形成でき、パターン形状も良好である、透明電極基板を提供すること。 - 特許庁
  • In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.
    レーザ加工工程で誘電体ブロック1の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁
  • Plural projection electrodes (solder bumps) 13 for external connection on an IC chip 12 are connected electrically with a circuit board 11 via a conduction pattern 141, terminal electrode 142, conduction pattern 151 and terminal electrode 152 of flexible first and second intermediate connecting layers 14 and 15.
    ICチップ12における外部接続用の複数の突起電極(はんだバンプ)13は、フレキシブルな第1、第2中間接続層14,15の導電パターン141、端子電極142、導電パターン151、端子電極152を介して回路基板11と電気的に接続される。 - 特許庁
  • Then connecting holes 18 and 19 are formed from the surface of the laminate 25 to the electrode pad sections 6 and a circuit pattern 7 by direct laser beam machining and a conductor layer 5A is electrically connected to the electrode pad sections 6 and circuit pattern 7 by packing a conductive material in the holes 18 and 19, or the like.
    そして、ダイレクトレーザ加工法によって電極パッド部6および回路パターン7に至る連絡孔18,19を形成し、形成した連絡孔18,19に導電材料を充填する等して導体層5Aと電極パッド部6および回路パターン7とを導通させる。 - 特許庁
  • In this door handle device 1 constituted by incorporating an antenna coil 11 for communicating with the outside constituted by winding a copper wire and a circuit board 10 including a ground pattern 32 and electrode detection patterns 33, 34 in a door handle 5, the ground pattern 32 and the electrode detection patterns 33, 34 are formed into a comb tooth shape.
    銅線を巻回してなる外部通信用のアンテナコイル11と、グランドパターン32および検出電極パターン33,34を含む回路基板10とをドアハンドル5に内蔵してなるドアハンドル装置1において、検出電極パターン33,34およびグランドバターン32を櫛歯形状に形成する。 - 特許庁
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