To detect even a pattern equal to or less than one pixel size low in detection sensitivity with high accuracy. 本発明は、検出感度の低かった1画素サイズと同等乃至1画素サイズ以下のパターンでも精度高く検出する。 - 特許庁
To obtain a sigma-delta converter that reduces or excludes an undesired tone in a pass band caused by a pattern noise. パターン・ノイズによって起こるパスバンド内の不必要なトーンを削減または排除するシグマ−デルタ変換器を提供する。 - 特許庁
Thus, even if the circuit board 52 is pinched, pressure win not be applied on the wiring pattern 54a, and damages are not produced. そのため、回路基板52が挟持されても、配線パターン54aには、圧力がかからず、損傷が発生しない。 - 特許庁
The sum of the thickness of a ground conductive film, a dielectric film and a superconductive circuit pattern is smaller than the height of a pad. 接地導電膜、誘電体膜、及び超伝導回路パターンの厚さの合計が、パッドの高さよりも小さい。 - 特許庁
HALFTONE TYPE EUV MASK, HALFTONE TYPE EUV MASK MANUFACTURING METHOD, HALFTONE TYPE MASK EUV BLANK, AND PATTERN TRANSFER METHOD ハーフトーン型EUVマスク、ハーフトーン型EUVマスクの製造方法、ハーフトーン型EUVマスクブランク及びパターン転写方法 - 特許庁
A photographing part 30 photographs and computerizes a print image P where a digital watermark is embedded and a grid pattern image R. 撮影部30は、電子透かしの埋め込まれた印刷画像Pと格子模様画像Rを撮影して電子化する。 - 特許庁
Preferably, a large number of recesses are provided in a predetermined pattern in the surface of the first electrode 2 opposing the second electrode 3. 好ましくは、第一電極2の第二電極3に対向する表面に、多数の凹部を所定パターンで設ける。 - 特許庁
An arrangement pattern acquiring means 241 acquires plural patterns on the arrangement of the plural pictures to the plural output areas. 配置パターン取得手段241は、複数の画像の複数の出力領域への配置を複数パターン取得する。 - 特許庁
The resist pattern in a desired cylindrical shape is obtained by exposing the resist while varying the position of the linear light source. 線光源の位置を変化させながら露光を行うことで、所望のシリンドリカル形状のレジストパターンを得ることができる。 - 特許庁
To provide a printing control device which suppresses toner consumption and charge which a user does not intend even when a ground tint pattern is added. 地紋パターンを付加しても、ユーザの意図しないトナーの消費や課金を抑止する印刷制御装置を提供する。 - 特許庁
The transmission-side integrated circuit simultaneously transmits an initialization pattern of a toggle operation to all the transmission paths. 前記送信側集積回路が、トグル動作の初期化パタンを全ての前記伝送経路に対して同時に送信する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which has such a probing-depth detection pattern as to be capable of detecting an overdrive amount upon probing. プロービング時のオーバードライブ量を検出できるプロービング深さ検知用パタンを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR FORMATION OF PATTERN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME, AND OPTICAL PARTS MANUFACTURED THEREBY パターン形成方法、この方法を用いる電子ビーム描画装置およびその方法を用いて作製される光学部品 - 特許庁
To provide a timing generator capable of generating a timing signal having a desired pattern with a small circuit scale and low jitter. 所望のパターンのタイミング信号を、小回路規模且つ低ジッタで生成することのできるタイミング発生器を提供する。 - 特許庁
Accordingly, the thick film silver of the useless pattern is prevented from depositing and furthermore fixing to the print-prohibition area. そのため、印刷禁止領域に不用パターンの厚膜銀が付着し、延いてはそこに固着することが抑制される。 - 特許庁
To provide an auxiliary agent for forming a fine pattern having preferable filtering property and excellent in avoiding coating defects, development defects and stability over time. ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤を提供する。 - 特許庁
To quickly perform supercritical drying by removing rinsing liquid remaining inside a pattern in a short time. より短時間でパターン内部に残留したリンス液を除去することで、より迅速に超臨界乾燥が行えるようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of preventing a wire-bonding pattern failure to an overhang part. 実施形態によれば、オーバーハング部に対するワイヤボンディング不良を防ぐ半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
By the cycle pattern of the back light-lighting period, the lighting periods continue successively as accumulation of the N frame periods. 前記バックライト点灯期間の周期パタンは、N個のフレーム期間の累積として点灯期間が連続する関係にある。 - 特許庁
The developer L is transferred/supplied from a developer supply part 21 to a pattern roller 33 through a draw-up roller 34. 現像液供給部21から汲み上げローラ34を介してパターンローラ33に現像液Lを転写供給する。 - 特許庁
The computer 5 counts on the profiles a portion exceeding the threshold by judging it as a pattern, and displays the counting result on the screen. コンピュータ5は、プロファイル上でその閾値を超えた部分をパターンと判断してカウントし、カウント結果を画面に表示する。 - 特許庁
To improve uniformity in a resist pattern relating to a lithographic processing of exposing a resist film by using a photomask and developing the resist film. フォトマスクを用いてレジスト膜を露光し現像するリソグラフィ処理に関し、レジストパターンの均一性を向上する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MACHINING INNER SURFACE OF CYLINDER, METHOD OF MANUFACTURING RUGGED COMPONENT AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SHEET 円筒内表面の加工装置および加工方法ならびに凹凸部品の製造方法およびパターンシートの製造方法 - 特許庁
In the wiring substrate 3, a grounded wiring pattern 14 made of a conductive material is formed in the periphery of terminals 15. 配線基板3には、導電性材料からなる接地された配線パターン14が端子15の周辺に形成される。 - 特許庁
Consequently, each pattern area can be exposed under suitable or optimal transfer conditions when the same layer is exposed. 従って、同一レイヤの露光に際してパターン領域毎に好適ないしは最適な転写条件で露光が可能となる。 - 特許庁
That is, a partition wall 14 provided with a desired dimension and shape according to the opening pattern of the resist film is formed. すなわち、レジスト膜の開口パターンに従った所期の寸法および形状を備えた隔壁14が形成される。 - 特許庁
The intermediate manufactured product of the organic EL element has a short circuit pattern formed for short-circuiting the upper electrode and the lower electrode. 上部電極および下部電極を短絡させるショートパタンが形成されている有機EL素子の中間製造物。 - 特許庁
By this way, the lead frame 16 comes contact with the through-hole 26 and the circuit pattern 20, so as to prevent short-circuiting. これにより、スルーホール26及び回路パターン20とリードフレーム16が接触して、ショートするのを防止することができる。 - 特許庁
The first magnetic film 221 of the high saturation magnetic flux density having a primary pattern is formed on the surface of the gap film 24. ギャップ膜24の表面に、一次パターンを有する高飽和磁束密度の第1の磁性膜221を形成する。 - 特許庁
On both sides of a core substrate 10a having a through hole layer 18, an insulating substrate and the wiring pattern are laminated one another. スルーホール層18を備えたコア基板10aの両側に、絶縁性基板と配線パターンとを相互に積層した。 - 特許庁
To provide a curable resin composition from which a coating film or a pattern with high transmittance can be formed by a printing method. 印刷法によって、高い透過率の塗膜またはパターンを形成し得る硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a desired magnetic waveform pattern, eliminate a conventional mold and shorten lead time for development. 所望の着磁波形パターンが得られ、従来における金型を不要にするとともに、開発のリードタイムを短くすること。 - 特許庁
The metal mask is so constituted that a mask pattern comprises groove parts 2 crossing each other and land parts 1 surrounded by the groove parts 2. マスクパターンが、互いに交差する溝部2と、溝部2で囲まれるランド部1とを含んで構成してあるメタルマスクである。 - 特許庁
To provide an observation device capable of efficiently performing observation, even when the same pattern parts of a sample are set as observation points. 試料の同様のパターン部分を観察点とする場合にも効率よく観察を行える観察装置を提供する。 - 特許庁
The insulating substrate 2 is laminated on the metal plate 1 and has a circuit pattern 3 on the surface on the opposite side from the metal plate 1. 絶縁基板2は、金属板1に積層され、金属板1とは反対側の面上に回路パターン3を有する。 - 特許庁
The molded circuit component includes a resin layer 20 having insulation properties and interposed between a conductor pattern 13 and a resin molding 12. 導体パターン13と樹脂成形体12との間には、絶縁性を有する樹脂層20が介在されている。 - 特許庁
To provide a horn antenna for obtaining a uniform radiation pattern in a simple configuration and lowering the level of crossed polarization. 簡単な構成で一様な放射パターンが得られ、交差偏波のレベルを低くすることが可能なホーンアンテナを提供する。 - 特許庁
Then, the phase shift between the reflected wave front and a replica of the reflected wave front is adjusted, and another interference pattern is acquired. 次に、反射波面と、反射波面のレプリカとの間の位相シフトを調整し、別の干渉模様を取得する。 - 特許庁
To provide a chemical amplification type positive photoresist composition which attains improved shortening of the edge part (longitudinal direction) of a line pattern. ラインパターン端部(長手方向)のショートニングが改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
The bumps 2 of the semiconductor chip 1 is then aligned with a conductive pattern 5 of the substrate 6 in the sealing resin 4. この際、半導体チップ1の金バンプ2と基板6の導電パターン5との位置を封止樹脂中4で合わせる。 - 特許庁
PATTERN AND PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND PROCESS FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁
His technical specialties were celadons, unkaku moyo (pattern with clouds and cranes), mishimade (tea bowls with corded designs), and hakeme (ceramics with white brush marks), and he created a great number of masterpieces of those in tea sets for green tea.
技法としては青磁、雲鶴模様、三島手、刷毛目を得意とし、煎茶器の名品を多数製作した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
At the same time, hot air is supplied from the upside to heat the sheet 1 also on its front side, thereby drying the electrode pattern. 同時に、上方から熱風を供給してシート1を表面側からも加熱し、電極パターンを乾燥させる。 - 特許庁
To provide a technique for making it possible to automatically create a wide range of types of programs without restricting the pattern of programs. プログラムのパターンを限定せずに、幅広いタイプのプログラムの自動生成を可能にするための技術を提供する。 - 特許庁
As a result, there is obtained the layout of a dummy pattern group wherein the insertion of the dummy patterns is performed effectively while suppressing increase of the data amount required therefor. これにより、データ量の増加を抑えた上で効果的にダミーパターンを挿入したダミーパターン群のレイアウトを得る。 - 特許庁
To provide a technology advantageous in measurement accuracy of residual film thickness of a pattern formed on a substrate by an imprint device. インプリント装置により基板に形成されたパターンの残膜厚を計測する精度の点で有利な技術を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which the repair of a defect of a wiring pattern can be made efficiently. 配線パターンの欠陥修正の効率化を図ることができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁
To obtain a positive photoresist composition which ensures improved balance between the dense and coarse patterns of a resist pattern and improved line edge roughness. レジストパターンの密パターンと粗パターンのバランスが改良され、ラインエッジラフネスを改良されたポジ型フォトレジスト組成物を得る。 - 特許庁
The target method is normalized so that respective return statements related to the illegal pattern return a constant Boolean value (104). イリーガル・パターンに関連した各リターン・ステートメントが一定のブール値を返送するようにターゲットメソッドを正規化する(104)。 - 特許庁
Then the magnification of a lens system 160 is adjusted to the irreducible visual field and a final image of the pattern is picked up with high resolution. 次に、レンズシステム160の倍率を、この最低視界にあわせ、高解像度のパターンの最終画像が取込まれる。 - 特許庁