「pattern」を含む例文一覧(50000)

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  • A marker (a figure of a black triangle) is additionally inscribed beside a recognition candidate by a character pattern inside the user dictionary among recognition candidates.
    認識候補のうち、ユーザ辞書中の文字パターンによる認識候補の横にはマーカー（黒三角の図形）を付記する。 - 特許庁
  • A resist pattern 18 formed on a terminal part 40A of a signal line is restricted on the wires of the terminal part 40A.
    信号線の端子部４０Ａに形成するレジストパターン１８を当該端子部４０Ａの配線上に制限する。 - 特許庁
  • Terminal electrodes 6 and 7 are formed into form of a conductor pattern, on at least one of front and rear surface of the chip part.
    積層チップ部品の表裏面の少なくとも一方に、導体パターンにより端子電極６、７を形成する。 - 特許庁
  • The terminal section has a terminal pattern 216, formed by the same MoW layer as the capacity line of the TFT array section.
    この端子部は、ＴＦＴアレイ部の容量線と同じＭｏＷ層にて形成される端子パターン２１６を備える。 - 特許庁
  • Figure 6 is a figure showing one example of device identification information formed in a first pattern sheet, X-coordinate and Y-coordinate.
    図６は、第１パターンシートに形成された装置識別情報と、Ｘ座標と、Ｙ座標の一例を示す図である。 - 特許庁
  • To obtain a wood flour-containing thermoplastic rod-like body, which develops no surface wrinkles even under bent state and has a beautiful wood grain pattern.
    折り曲げても表面にしわもなく、美しい木目模様を有する木粉入り熱可塑性棒状体を得ること。 - 特許庁
  • NEW SULFONIUM COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE COMPOUND AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
    新規なスルホニウム化合物、該化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
  • To accurately achieve overlapping corresponding to a direction required for accuracy even if a pattern is to be formed over a plurality of layers.
    複数の層に亘ってパターンを形成する際にも、精度上必要な方向に応じて高精度に重ね合わせる。 - 特許庁
  • To write a bar-code as a marking pattern on light sensitive material by using a laser beam focused in a shape of a spot.
    スポット状に集光したレーザービームを用いて、感光材料にマーキングパターンとしてバーコードを形成可能とする。 - 特許庁
  • Further, when the template is shifted, the measured pattern is similarly shifted and detected, so that the relative distance is appropriately detected.
    また、テンプレートがずれた場合は計測パターンも同様にずれて検出され、相対距離が適切に検出できる。 - 特許庁
  • MASK PATTERN FOR SEMICONDUCTOR DEVICE FABRICATION, METHOD OF FORMING SAME, AND METHOD OF FABRICATING FINELY PATTERNED SEMICONDUCTOR DEVICE
    半導体素子の製造用のマスクパターンとその形成方法、及び微細パターンを有する半導体素子の製造方法 - 特許庁
  • The obstacle determining part 38 checks the pattern, lateral move quantity of the preceding car, the prescribed time, etc.
    よって、障害物判断部３８によって、そのパターン、及び先行車の横方向移動量、所定時間等を調べる。 - 特許庁
  • PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING FORMING METHOD OF FINE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCED BY THE METHOD
    微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法および当該方法により製造した半導体装置 - 特許庁
  • A logic circuit is divided into a plurality of cell regions, A and B, and a wiring pattern is first determined for each cell region.
    論理回路を複数のセル領域Ａ，Ｂに分割し、最初に各セル領域毎に配線パターンを決定する。 - 特許庁
  • When a fuel cell is collected from a market, the manufacturing information can be obtained by reading out the joining material pattern 16.
    燃料電池を市場から回収した際に、この接合剤パターン１６を読み取ることで製造情報を得る。 - 特許庁
  • This enhances the emission efficiency of the h-line of the discharge lamp 1 and allows formation of a resist pattern having a trapezoid cross section.
    このようにすると、放電ランプ１のｈ線の発光効率が高まり、台形断面のレジストパターンに形成できる。 - 特許庁
  • The three-dimensional pattern is formed by pressing the napped portions of the napped fabric with a polyurethane resin to form dent portions.
    ポリウレタン樹脂によって立毛布帛の立毛部を抑え凹部を形成させることによって立体模様を形成する。 - 特許庁
  • An etching-stop film 106a and a hard mask pattern are formed on the first interlayer insulating film and the contact plugs.
    第１の層間絶縁膜及びコンタクトプラグの上部にエッチング停止膜１０６ａ及びハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁
  • To reliably remove an aggregate of nano-particles from an ink, thereby forming a pattern excellent in functionality.
    インクからナノ粒子の集合体をより確実に取り除き、これによって機能性に優れたパターンを形成可能とする。 - 特許庁
  • This pattern is basically a three character sequence representing stdin, stdout and stderr of newcommand.
    このパターンは基本的に 3 つの文字からなるシーケンスで、newcommand の標準入力、標準出力、標準エラー出力を表す。 - JM
  • The bits 9-16 specify a mask to select the bits to look at and the bits 17-23 specify the bit pattern to look for.
    第 9-16 ビットは注目すべきビットを選択するためのマスクを指定し、第 17-23 ビットは探すべきビットパターンを指定する。 - JM
  • Imperial Prince's colors and the patterns were the same as those for subjects, sometimes the pattern with a round chrysanthemum mark was being used for the hereditary Imperial family in the modern times.
    親王は臣下に同じだが、近世に世襲親王家では菊の丸文の類を使用することもあった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • A certain conformity found in the writing pattern of the edicts might be due to the fact that the edicts were written following such model phrases.
    文面がほぼ同じ形で固定したのは、このような文例に従って詔が作られたためと考えられる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • CERAMIC GREEN SHEET HAVING CIRCUIT PATTERN FORMED ON ITS SURFACE AND SINTERABILITY, CERAMIC GREEN SHEET, AND METHOD OF MANUFACTURING MULTILAYERED CERAMIC SUBSTRATE
    表面に回路パターンが形成された焼結性を有するセラミックグリーンシート及び多層セラミック基板の製造方法 - 特許庁
  • The manufacture of the sand mold using this pattern is performed by using an aquatic binder and can be profitably performed with a microwave irradiation.
    この模型を用いた砂型の製造は、水性バインダーを使用し、マイクロ波照射により有利に行なうことができる。 - 特許庁
  • The magnetization distribution image is determined based on the magnetization distribution image data M_xy determined for each electronic diffraction pattern D_xy.
    磁化分布像は、電子回折図形Ｄ_ｘｙ毎に求められた磁化分布像データＭ_ｘｙに基づいて得られる。 - 特許庁
  • The optical diffraction grating or hologram pattern 13 can be press-molded after the ferromagnetic material thin film layer is formed.
    光回折格子またはホログラムパターン１３は、強磁性材薄膜層を形成してから型押ししたものであってもよい。 - 特許庁
  • Wiring (45a and 45b) are formed by etching the conductive film using a gas containing halogen, with the resist pattern as a mask.
    レジストパターンをマスクとして、ハロゲンを含むガスを用いて導電膜をエッチングすることにより、配線(45a,45b)を形成する。 - 特許庁
  • The bump electrode 8s for the source electrode is formed like a longer band pattern than the other bump electrodes 8g and 8d.
    ソース電極用のバンプ電極８ｓは、他のバンプ電極８ｇ，８ｄよりも長い帯状のパターンとなっている。 - 特許庁
  • To provide a crayon capable of drafting a reflex-reflective pattern that is superior in visibility, namely a reflex-reflective crayon.
    視認性に優れた再帰反射性の図柄を書くことができるクレヨン、すなわち再帰反射性クレヨンを提供する。 - 特許庁
  • NEW SULFONIC ACID SALT AND DERIVATIVE THEREOF, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST MATERIAL AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOACID GENERATOR
    新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
  • The headers of the respective PES packets are recorded with ID indicating the video packet, audio packet, or pattern data packet.
    各ＰＥＳパケットのヘッダには、ビデオパケット、オーディオパケット、またはパターンデータのパケットであることを表すＩＤを記録する。 - 特許庁
  • SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, PATTERN MEASURING METHOD USING THE SAME, AND APPARATUS FOR CORRECTING DIFFERENCE BETWEEN SCANNING ELECTRON MICROSCOPES
    走査型電子顕微鏡及びそれを用いたパターン計測方法並びに走査型電子顕微鏡の機差補正装置 - 特許庁
  • The Mach-Zehnder interferometer 4 has a core layer 7 formed so that a specified waveguide pattern is formed in a clad layer 6.
    マッハツエンダー干渉計４は、クラッド層６中に所定の導波路パターンを成すようにコア層７を形成して成る。 - 特許庁
  • Then, pattern exposure is performed by selectively irradiating the resist film 102 with the exposure light formed of the extreme ultraviolet rays.
    その後、レジスト膜１０２に、極紫外線からなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。 - 特許庁
  • To obtain a negative-type photosensitive polyimide precursor composition giving a good pattern with an alkali developing solution.
    アルカリ現像液によって良好なパターンが得られるネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物を得ることができる。 - 特許庁
  • To provide a polybenzoxazole precursor composition developable with an aqueous alkali solution and having positive pattern forming ability.
    アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリベンゾオキサゾール前駆体組成物を提供する。 - 特許庁
  • Then a tin plating layer 34 is formed by electroless tin plating to cover the exposed surface of the wiring pattern 3.
    その後、無電解錫めっきにより露出する配線パターン３の表面を覆うように錫めっき層３４を形成する。 - 特許庁
  • The pattern 8 is made of combustible resin material of foamable polystyrene, etc., and formed as the same shape as the finish product of the casting.
    模型８は、発泡ポリスチレン等の可燃性の樹脂材からなり、鋳物の最終製品と等しい形状である。 - 特許庁
  • To provide a board antenna of thinned type by forming an antenna pattern and an antenna circuit on a multilayer circuit board.
    アンテナパターンとアンテナ回路とを多層回路基板に形成することにより薄型化を図った基板アンテナを提供する。 - 特許庁
  • To vary the arrangement of photographs with the lapse of time as a photograph layout pattern, when displaying digital photographs.
    デジタル写真を表示する場合に、写真レイアウトパターンとして、写真の配置が時間と共に変化するものを実現する。 - 特許庁
  • Substantially, only a diffraction pattern of the defective perovskite type composite oxide is detected in power X-ray diffraction.
    粉末Ｘ線回折において、実質的に上記欠陥ペロブスカイト型複合酸化物の回折パターンのみが検出される。 - 特許庁
  • A classifying part 8 classifies a speech pattern inputted from a microphone 1 being a perceptual sensor while dynamically generating a class.
    分類化部８は、知覚のセンサであるマイク１から入力した発話パターンを動的にクラスを生成しながら分類する。 - 特許庁
  • A diffraction grating pattern demarcated by plural grooves is formed in part of the surface of the 2nd antireflection film.
    第２の反射防止膜の表面の一部に、複数の溝により画定された回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING DRUG RELEASING STENT HAVING NANOSTRUCTURE PATTERN AND DRUG RELEASING STENT PRODUCED BY THE METHOD
    ナノ構造パターンを有する薬物放出用ステントの製造方法及びこれにより製造した薬物放出用ステント - 特許庁
  • The high beam light distribution pattern PH has high illuminance parts PHR1, PHL1 and low illuminance parts PHR2, PHL2.
    ハイビーム用配光パターンＰＨは、高照度部ＰＨＲ１、ＰＨＬ１および低照度部ＰＨＲ２、ＰＨＬ２を有する。 - 特許庁
  • MONOMER FOR PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    フォトレジスト架橋剤用単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および半導体素子 - 特許庁
  • To provide a photomask blank and a glass substrate for photomask blank capable of producing a photomask having high pattern precision, and the photomask.
    パターン精度の高いフォトマスクを製造できるフォトマスクブランク及びフォトマスクブランク用ガラス基板及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁
  • In the ion implantation process (S12), ions are implanted in a pattern region 1A exposed from the opening 2A of the resist mask 2.
    イオン注入工程（Ｓ１２）は、レジストマスク２の開口２Ａから露出するパターン領域１Ａにイオンを注入する。 - 特許庁
  • The photo-resist pattern is then removed by the photoresist remover containing, as main components, monoethanolamine and dimethylacetamide.
    次に、フォトレジストパターンをモノエタノールアミン及びジメチルアセトアミドを主成分に含有するフォトレジスト除去液により除去する。 - 特許庁
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