「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 837 838 839 840 841 842 843 844 845 .... 999 1000 次へ＞- When each color toner sticking amount is detected, the photosensor 3 detects the reflected light from each color reference pattern toner 2.
次に、各色トナーの付着量を検知するとき、フォトセンサ３が各色の基準パターントナー２の反射光を検出する。 - 特許庁 - The user can design a decoration pattern put to the cake by vector graphics using the drawing software.
ユーザは、このドローソフトを用いることにより、ケーキに付するデコレーション模様をベクタグラフィックスにより設計することができる。 - 特許庁 - From June 18, 1860, until August 15, 1861, a total of 9491 Manen Oban with the hallmarks of '吉, 宇, き' (yoshi, u, ki) and '吉, 安, 大' ('yoshi, yasu, dai) in the noshime pattern were minted.
同年4月29日から文久元年7月10日までは熨斗目で「吉・宇・き」および「吉・安・大」合計9,491枚である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - The mirror is a Mirror with an TLV Pattern and a Four Sacred Animal Design with an inscription, 'Seiryu Sannen' (third year of Seiryu, or 235) (Seiryu, or Qinglong is the name of the era of the Emperor Ming of Wei Dynasty of China).
鏡は方格規矩四神鏡で、「青龍三年」（魏の明帝の年号で235年）の銘がはっている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - DEVICE FOR INJECTING LIQUID CONTAINING METAL PARTICULATES, AND LINE PATTERN MANUFACTURED BY DEVICE FOR INJECTING LIQUID CONTAINING METAL PARTICULATES
金属微粒子含有液噴射装置、及び、金属微粒子含有液噴射装置によって製作されるラインパターン - 特許庁 - The evaluation of the rule base OPC is performed by comparing the actual measurement data of the gate pattern for evaluation and the simulation data.
評価用ゲートパターンの実測データと、シミュレーションデータを比較することによって、ルールベースＯＰＣの評価を行なう。 - 特許庁 - The pattern is transferred to a photoresist 6 on a semiconductor wafer 5 by reduced projection exposure using the photomask M.
このフォトマスクＭを用いた縮小投影露光処理によって半導体ウエハ５上のフォトレジスト６にパターンを転写する。 - 特許庁 - Since the illuminance I is specified, based on a vision result of a test pattern, an illuminometer is not needed.
照度Ｉはテストパターンの視覚結果に基づいて特定することが可能であるため、照度計を用意する必要はない。 - 特許庁 - The light absorbing layer 2 is patterned by water treatment, using the photoresist layer 3 with the formed diffraction grating pattern as a mask.
回折格子パターンが形成されたフォトレジスト層３をマスクにして、水処理にて光吸収層２をパターニングする。 - 特許庁 - To obtain an antenna system which varies its radiation pattern shape as an antenna and allows miniaturization without using a dedicated antenna element.
専用のアンテナ素子を用いず、アンテナとしての放射パターン形状を可変でき、かつ小型化可能なアンテナ装置を得る。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF NANO PATTERN AND CARBON NANO TUBE WITH BIO NANO ARRAY USING SELF-ASSEMBLY OF ORGANIC SUPRAMOLECULE AND UV ETCHING
有機超分子の自己集合及びＵＶエッチングを用いたナノパターン及びカーボンナノチューブ−バイオナノアレイの製作方法 - 特許庁 - To provide a technique for printing a circuit pattern with improved fine line reproducibility using electrophotography development method.
細線再現性に優れた回路パターンを電子写真現像方式により印刷することができる技術の提供。 - 特許庁 - CALIXRESORCINARENE DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING CALIXRESORCINARENE DERIVATIVE, NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD
カリックスレゾルシンアレン誘導体、当該カリックスレゾルシンアレン誘導体の製造方法、ネガ型レジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - A silicon nitride film 4 is subjected to isotropic etching by using a polyimide film 5 on which a specified pattern is formed as a mask.
所定のパターンが形成されたポリイミド膜５をマスクに用いてシリコン窒化膜４に対して等方性エッチングを行う。 - 特許庁 - A wiring pattern 17 of a flexible circuit substrate F is formed on the upper surface of a flxible polyimide substrate 8.
フレキシブル回路基板Ｆにおいて、可撓性を有するポリイミド基板８の上面に配線パターン１７が形成されている。 - 特許庁 - The first alignment mark 1 includes a line pattern 1L containing lines 1L_1, 1L_2, ..., 1L_9, the width of which increase in one direction.
第１アライメントマーク１は、幅が一方向に増大する線１Ｌ_１，１Ｌ_２，…，１Ｌ_９を含むラインパターン１Ｌを有している。 - 特許庁 - In the aluminum vapor deposition part 6, a hologram pattern 5' formed by the hologram forming layer 5 can maintain the brightness.
アルミ蒸着部６において、ホログラム形成層５により形成されるホログラム図柄５’は輝度を保持することができる。 - 特許庁 - By assembling plural pieces of metal pieces for wiring 30 into a molded product of synthetic resin 40, a prescribed wiring pattern is formed.
合成樹脂成型品４０に、配線用金属片３０を複数片組み付けて所定の配線パターンを形成する。 - 特許庁 - The second alignment mark 2 includes a space pattern 2S containing gaps 2S_1, 2S_2, ..., 2S_9, the width of which increase in one direction.
第２アライメントマーク２は、幅が一方向に増大する間隙２Ｓ_１，２Ｓ_２，…，２Ｓ_９を含むスペースパターン２Ｓを有している。 - 特許庁 - SILICON COMPOUND HAVING CYCLIC STRUCTURE CONTAINING FLUORINE AND SILICONE RESIN, RESIST COMPOSITION USING THE SAME, AND PATTERN FORMING METHOD
含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法 - 特許庁 - It is forbidden for a lower-ranking samurai in kachu (family-related communities which existed in the late Muromachi and Azuchi-Momoyama periods) to wear clothes embroidered with ayara (twill weave, pattern of diagonal stripes) or nishiki (brocade) because there has been no precedent of this.
諸家中ニ至リ郎従・諸卒ノ綾羅錦繍ノ飾服ハ古法ニ非ズ、制禁セシムル事。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - When Hama area covering the area in front of Higashi-Maizuru Station was developed, a road system was laid out in a grid pattern following Kyoto City.
その際、現在の東舞鶴駅前にあたる浜地区は、京都市に倣って碁盤目の道路網を形成している。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - In the process of winning for varying a pattern display device of the pachinko machine, the operation stops till the winning at a step S210.
当該パチンコ機において行なわれる始動入賞処理では、まずＳ２１０にて、始動入賞があるまで待機する。 - 特許庁 - The pattern filter 12 is supported by parallel leaf springs 17 movably along the optical axis of the projection optical system 10.
パターンフィルタ１２は平行板ばね１７により投影光学系１０の光軸に沿って移動可能に支持されている。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus capable of carrying out proper dark shading correction not susceptible to the effect of a peculiar pattern.
特異パターンの影響を受けにくい適切なダークシェーディング補正を行うことができる撮像装置を提供する。 - 特許庁 - The thin film pattern 102-2 of the second layer is arranged at a position not to be laid on top of the stamp region 105-1 of the first layer.
２層目の薄膜パターン１０２−２は１層目のスタンプ領域１０５−１に重ならない位置に配置される。 - 特許庁 - To provide a micro-patterning culture substrate which can micro-pattern cells using a simple method, and to provide a method for producing the same.
簡便な方法で細胞のマイクロパターニングが可能なマイクロパターニング培養基板及びその作成方法を提供する。 - 特許庁 - Optical and electronic components 21, 22, 23, 20 for effecting pattern recognition are integrated in the measuring device.
パターン認識を実施する光構成要素および電子構成要素２１、２２、２３、２０が、測定装置内で結合される。 - 特許庁 - To provide attractive display of presentation in a pattern display device of a game machine offering a variable display game.
本発明は、可変表示ゲームを行う遊技機の図柄表示器において、面白味のある演出表示を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having a wide depth-of-focus range (DOF) and a method for formation of a resist pattern.
焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus using a plurality of line heads in which exposure elements are arranged in a staggered pattern, and an image forming method.
露光素子を千鳥状に配列したラインヘッドを複数用いた画像形成装置および画像形成方法。 - 特許庁 - After the winning of the variable probability state, when the loss continues up to the given frequency, the specific variation pattern is outputted.
また確変当り状態後に、外れ状態が所定回数連続した場合には特定変動パターンを出力する。 - 特許庁 - To provide a game machine capable of realizing a display condition which is not constrained by partitions for every pattern display region.
図柄表示領域毎の区切りに拘束されない表示態様を実現することができる遊技機を提供する。 - 特許庁 - In the addition part 535, the multiplied results are added, and an added result is supplied to the pattern cancellation/common-mode addition part of the poststage.
加算部５３５では，乗算結果が加算され，加算結果は，後段のパターンキャンセル／同相加算部に与えられる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a wiring board, by which dielectric breakdown in a mask pattern when an exposure mask is used can be prevented.
露光マスクを用いる際にマスクパターンにおける静電破壊を防止し得る配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To easily generate an optional piece of bit pattern data for test to be used for a memory test of a FIFO memory.
ＦＩＦＯメモリのメモリ試験に使用する任意の試験用ビットパターンデータの生成を容易に行うことを可能にする。 - 特許庁 - To provide a wiring pattern forming method capable of preventing the occurrence of foreign substance residue on a peripheral part of a substrate.
基板の周縁部において異物残りが発生することを防止できる配線パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To cause changes when a print is copied, without using a special form on which a specific pattern is previously printed.
特殊な模様が予め印刷された専用用紙を用いずに、印刷物が複写された場合に変化を生じさせる。 - 特許庁 - Then, when the time shortening flag is not set, it is determined to make the big winning advance announcement by an advance announcement pattern 1.
そして、時間短縮フラグがセットされていなければ大当り予告を予告パターン１で行うことに決定する。 - 特許庁 - To create a running speed pattern from classified running data which is obtained by accurately classifying running data in short sections.
小区間内での走行データを精度よく分類し、分類後の走行データから走行速度パターンを生成すること。 - 特許庁 - A class code is generated based on an additional information class, the featured values and pattern data indicating the position of a transmitting/thinning pixel.
付加情報クラスと特徴量と伝送／間引き画素の位置を指示するパターンデータに基づいて、クラスコードが生成される。 - 特許庁 - To provide a resin molding having a burnt color pattern on a surface, and free from a crack and peeling, and a method of manufacturing the same.
表面に焼き色模様を備え、ひび割れや剥れのない樹脂成形品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, the surface of the resin film substrate or the surface of the hardcoat layer is hollowed to form a concavo-convex pattern to be roughened.
これにより、樹脂フィルム基材の表面、又はハードコート層の表面が凹まされて凹凸状となり、粗面化する。 - 特許庁 - To provide trunks improved in a feeling when worn, capable of being easily subjected to pattern layout, simply sewed, and rapidly dried after washing.
着心地が向上し、生地への型入れが容易で、縫製が簡単で、洗濯後の乾きの良い、トランクスを提供する。 - 特許庁 - To provide a picture pattern display device, with which the control of display position is facilitated, in a simple and compact structure, and a game machine.
表示位置の調整が容易であり、また、簡易でコンパクトな構造の図柄表示装置および遊技機を提供する。 - 特許庁 - To prevent deviation of a printing pattern caused by the elongation of the thin portion of a mask through tension of a silk gauze or the like from developing.
紗張り等を行うことでマスクの薄い部分が伸びてしまい印刷パターンにずれが生じることを防止する。 - 特許庁 - HALFTONE-TYPE EUV MASK, HALFTONE-TYPE EUV MASK BLANK, PRODUCTION METHOD OF HALFTONE-TYPE EUV MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法 - 特許庁 - To provide an electronic music device capable of performing automatic accompaniment of natural flow while reducing the time and the effort of producing an accompaniment pattern.
伴奏パターン制作の手間を減らしつつ、自然な流れの自動伴奏を行える電子音楽装置を提供する。 - 特許庁 - A leadless sensor 33 converting magnetism to an electric signal is connected to the pattern 37 and fixed to the auxiliary substrate 31.
磁気を電気信号に変換するリードレスセンサー３３を補助回路パターン３７に接続して補助基板３１に固定する。 - 特許庁 - Moreover, after the pickup unit 17 is adjusted and fixed, the pattern of the signal lines needed only for adjustments is cut off.
そして、集積光ピックアップユニット１７の調整固着後、調整のみに必要な信号線のパターンを切り取る。 - 特許庁
- 特許庁
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