「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 835 836 837 838 839 840 841 842 843 .... 999 1000 次へ＞- The dimension of the silicon oxide film 13 in the widthwise direction is larger than that of the amorphous silicon film pattern 10 in the widthwise direction.
シリコン酸化膜１３の幅方向の寸法は、アモルファスシリコン膜パターン１０の幅方向の寸法よりも大きい。 - 特許庁 - To provide a resin for photoresist which can form a resist coating with a uniform thickness and can form a minute pattern with excellent precision.
膜厚の均一なレジスト塗膜を形成でき、微細なパターンを精度よく形成できるフォトレジスト用樹脂を得る。 - 特許庁 - Here, the image includes a character to be visually recognized, a drawing, a design pattern or a picture video.
ここにいう画像とは、視覚により認識可能な文字、描画、模様パターンあるいは写真の映像を含むものである。 - 特許庁 - To allow detail color tone measurement, and allow color tone inspection for an inspection object having a pattern of plural colors.
詳細な色調計測を可能にし、複数色の図柄を有する検査対象物の色調検査を可能にする。 - 特許庁 - The memory cell 10 has a memory cell active region 20 having a minute plane pattern width and a memory cell element isolation region 18.
メモリセル部１０は、微細な平面パターン幅のメモリセル活性領域２０及びメモリセル素子分離領域１８を有する。 - 特許庁 - A waveform pattern 23 is formed on the surface (a light-incidence surface 21) of the transparent base material 20 on the organic EL layer side.
透明基材２０のうち、有機ＥＬ層側の面（光進入面２１）に波形パターン２３が形成されている。 - 特許庁 - The pixel electrode 112 is connected to the source electrode 107 at the top of the protruding pattern 115 through a contact hole 105.
画素電極１１２は、コンタクトホール１０５を介して凸パターン１１５の頂面でソース電極１０７と接続する。 - 特許庁 - A pattern 11 for measuring precision in overlapping is constituted of four line patterns 12 provided along each side of a square.
重ね合わせ精度測定用パターン１１を、正方形の各辺に沿って設けた４つのラインパターン１２から構成する。 - 特許庁 - SILICA-BASED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING SILICA-BASED INSULATING COATING FILM HAVING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT HAVING THE COATING FILM
シリカ系感光性樹脂組成物、パターンを有するシリカ系絶縁被膜の形成方法及びそれを備える電子部品 - 特許庁 - The transfer part includes a hologram forming layer, a reflective pattern layer and the information accepting layer in this sequence from the substrate side.
転写部は、基材側から、ホログラム形成層、反射性パターン層および情報受容層をこの順に有する。 - 特許庁 - The frame 9 is made of a metal, such as copper and formed with a copper foil pattern, the same as wiring leads 5.
この補強枠９は銅などの金属からなり、銅箔パターンによって配線リード５と同様に形成されている。 - 特許庁 - A face detection part 7 detects a person face from images by use of the detection area and the face detection pattern.
顔検出部７は、上記の検出領域と顔検出パターンを用いて映像中から人物の顔を検出する。 - 特許庁 - Then the copper thin film 3 and the metal thin film 2 are removed by chemical etching except an area below the conductor pattern 5.
続いて、導体パターン５下の領域を除いて銅薄膜３および金属薄膜２を化学エッチングにより除去する。 - 特許庁 - To grasp a traffic amount and a traffic pattern between network components of different levels such as a host, a segment and a sub-network.
ホスト，セグメント，サブネットワーク等の異なるレベルのネットワーク構成要素間でのトラフィックパターンおよびトラフィック量を把握する。 - 特許庁 - By separating the base material for the back surface 2 from the film substrate 6, a minute pattern is formed on the film substrate 6.
そして、裏面用基材２をフィルム基材６から分離させることで、フィルム基材６上に精細パターンを形成する。 - 特許庁 - To generate a power supply waveform of a complicated pattern, as a power supply voltage for testing a semiconductor device, in a short time and with high accuracy.
半導体装置のテスト用電源電圧として、複雑なパターンの電源波形を短時間で、高精度に生成する。 - 特許庁 - To provide an object recognizing method using depth information for suppressing a task by focusing to a pattern.
パターンに焦点を合わせて、タスクを抑制するための、奥行き情報を用いる対象物認識手法を提案する。 - 特許庁 - Exposed both sides surfaces of a first pattern 311 of the first length setting layer 310 are recessed by selective side surface etching.
第１長さ設定層３１０の第１パターン３１１の露出した両側面を選択的側面エッチングでリセスする。 - 特許庁 - METHOD OF PREDICTING LINE WIDTH ROUGHNESS AND RESIST PATTERN FAILURE, PROGRAM, APPARATUS, AND USING THE SAME IN LITHOGRAPHY SIMULATION PROCESS
ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - 特許庁 - Dispersion parameters of the pattern data 323b of the gate electrode are extracted from a dispersion parameter table 254 for every edge.
ゲート電極のパターンデータ３２３ｂのばらつきパラメータを、ばらつきパラメータテーブル２５４から端辺ごとに抽出する。 - 特許庁 - Liquid leakage from an object to be inspected is determined by a liquid leakage detector 7 with a signal received from the pattern detection electrode 15.
液漏れ検出器７は、パターン検出電極１５からの信号を受けて被検査物の液漏れを判定する。 - 特許庁 - A pattern 12 having marks arranged along a circumference at equal intervals is provided to each photosensitive drum 1.
各感光体ドラム１には、円周に沿って同一間隔で構成されたマークを有するパターン１２が設置されている。 - 特許庁 - To provide a pattern forming member which is suitably employed for measurement of synchronous accuracy between a mask stage and a substrate (substrate stage).
マスクステージと基板（基板ステージ）の同期精度の計測に好適に用いることができるパターン形成部材を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified type photoresist composition for obtaining a pattern having an excellent shape and line edge roughness.
優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF FILM PATTERN, AND MANUFACTURING METHODS USING THE SAME, OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRON EMISSION ELEMENT, ELECTRON SOURCE AND IMAGE DISPLAY DEVICE
膜パターンの製造方法、それを用いた電子デバイス、電子放出素子、電子源及び画像表示装置の製造方法 - 特許庁 - To realize an accurate exposure pattern by exactly obtaining optimum exposure corresponding to the change of the sensitivity of a resist.
レジストの感度変化に対応した最適露光量を正確に求めることで、高精度の露光パターンを行うこと。 - 特許庁 - To provide a photomask whose defect quality can be ensured, while forming a gradation pattern in a small area of pixel size.
ピクセルサイズの小さな領域に階調パターンを形成しながら、欠陥品質保証が可能なフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - In the process for forming the cavity 25, the SiGe layer 11 is etched while etchant is in contact with the dummy pattern DP.
空洞部２５を形成する工程では、ダミーパターンＤＰにエッチング液を触れさせながらＳｉＧｅ層１１をエッチングする。 - 特許庁 - A prescribed stable pattern is obtained by forming the light reflection film 16 into prescribed shapes of letters or logo marks.
光反射フィルム１６を所定の文字やロゴマーク等に形成すれば、安定した一定形状の図柄が得られる。 - 特許庁 - Changing of a pattern shape of the electrode 1a of the coil antenna in the antenna substrate 1 results in the function of a reinforced plate.
アンテナ基板１におけるコイルアンテナの電極１ａのパターンの形状の変更をもって補強板の役目をさせる。 - 特許庁 - A selection means 11 selects the block, where the alignment pattern corresponding to the semiconductor device which is to be exposed is formed.
選択手段１１は、露光しようとする半導体装置に対応する露光パターンが形成されたブロックを選択する。 - 特許庁 - The received test pattern is examined in order to make sure that the voice encoding/decoding operation of the TGW is performed normally.
そして、その受信試験パターンに基づいて、ＴＧＷの音声符号化／再生動作の正常性を確認する。 - 特許庁 - Successively, an aluminum film 6 is formed on the hardening positive type photoresist 5 (Fig.c) to pattern the aluminum film 6 (Fig.d, Fig.e).
続いて、硬化ポジ型フォトレジスト５の上にＡｌ膜６を形成し（図１（ｃ））、Ａｌ膜６をパターニングする（図１（ｄ）、（ｅ））。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE FILM OBTAINED BY USING THIS, ADHESION SHEET, ADHESIVE PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
感光性接着剤組成物、これを用いて得られる接着フィルム、接着シート、接着剤パターン、及び半導体装置 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
感光性樹脂組成物、パターン並びにその製造方法、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置及び半導体素子 - 特許庁 - A polished face 4 is formed to the woody pattern resin molding 1 by polishing at least a part of the surface.
木質調樹脂成形品１には、少なくともその表面の一部を研磨して研磨処理面４を形成する。 - 特許庁 - A filter forms a predetermined barrier pattern according to regulations of the mode and separates the several-direction parallax image signals from each other.
前記モードの規則によって、フィルタが所定のバリアパターンを形成し、前記複数方向の視差映像を分離する。 - 特許庁 - In the case of generating a frame by using the frame generating sheet 40, no sheet formed with a special pattern or the like is required.
フレーム生成用シート４０を用いたフレームの生成では特殊なパターンが形成されているシートなどは不要である。 - 特許庁 - RECORDING METHOD OF SERVO PATTERN OF MAGNETIC DISK, AND DISK DRIVE, MAGNETIC DISK AND COMPUTER-READABLE MEDIUM UTILIZING THE SAME
磁気ディスクのサーボパターンの記録方法，それを利用したディスクドライブ，磁気ディスクおよびコンピュータで読み取り可能な媒体 - 特許庁 - To provide a configuration of efficiently executing detection processing of an electronic watermark pattern form an image where an image slippage takes place.
画像ずれの発生した画像からの電子透かしパターンの検出処理を効率的に実行する構成を提供する。 - 特許庁 - A part of the contact path 171 serves as a pattern of required circuit wiring by the first layer metal wiring layer 17.
接続経路１７１の一部は、第１層目の金属配線層１７による必要な回路配線のパターンとして働く。 - 特許庁 - With a resist pattern 7b as a mask, the etching of the storage node interlayer insulating film 9 is performed to the stopper film 10.
レジストパターン７ｂをマスクとして、まず、ストレージノード層間絶縁膜９のエッチングをエッチングストッパ膜１０まで行う。 - 特許庁 - A plurality of layers of semiconductor chips 11, 21, and 31 are sequentially laminated upon a substrate 1 on which a wiring pattern 2 is provided.
配線パターン２が配設された基板１に、複数層の半導体チップ１１，２１および３１が順次実装される。 - 特許庁 - At least one stator or rotor surface in the boundary region includes a pattern of inverted turbulators 99, 101, 108.
境界領域内の少なくとも１つのステータ又はロータ表面は、逆タービュレータ（９９、１０１、１０８）のパターンを含む。 - 特許庁 - Thereafter, by peeling off the non-adhesive sheet 55, a concave-convex pattern is formed on an outer surface of the adhesive resin layer 83.
この後、非接着性シート55を引き剥がすことで、接着剤樹脂層83の外表面に凹凸パターンが形成される。 - 特許庁 - A stress distortion formation film 24 is formed and further a third resist pattern 25 is formed on a semiconductor substrate 11.
半導体基板１１の上に、応力歪み生成膜２４を形成し、さらに、第３のレジストパターン２５を形成する。 - 特許庁 - ETCHING METHOD, METHODS OF MANUFACTURING PIEZOELECTRIC DEVICE AND PIEZOELECTRIC OSCILLATING PIECE UTILIZING THE SAME, AND STRUCTURE OF ELECTRIC CORROSION INHIBITION PATTERN
エッチング方法およびこれを利用した圧電デバイスと圧電振動片の製造方法、ならびに電喰抑制パターンの構造 - 特許庁 - This olefin-based resin decorative sheet is produced by printing a decorative pattern with an olefin-based resin emulsion on an olefin-based resin sheet.
オレフィン系樹脂シートに、オレフィン系樹脂エマルジョンで装飾模様を印刷してなるオレフィン系樹脂装飾シートである。 - 特許庁 - To provide a semiconductor element having an electrostatic discharge protection pattern which protects a memory device and the like from the impact of electrostatic discharge.
静電気放電による衝撃からメモリ素子等を保護する静電気放電保護パターンの半導体素子を提供。 - 特許庁 - Then by developing the photoresist 12, only the exposed region 12a is dissolved and a reverse tapered resist pattern 14 is obtd.
この後、フォトレジスト１２を現像すると、露光領域１２ａだけが溶解し、逆テーパー型のレジストパターン１４が得られる。 - 特許庁
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