「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 931 932 933 934 935 936 937 938 939 .... 999 1000 次へ＞- The RF transmitting antenna 43 is formed as a stereoscopic antenna by assembling a pattern antenna 44 with the antenna bobbin 38.
ＲＦ発信アンテナ４３は、パターンアンテナ４４がアンテナボビン３８に組み付けられることによって立体アンテナとして形成される。 - 特許庁 - The investment casting pattern is formed by forming a metal-made first core element including at least one recess.
インベストメント鋳造模型は、少なくとも１つのリセスを含む金属製の第１のコア要素を形成することによって形成される。 - 特許庁 - The camera 20 images the object 100 onto which the lattice pattern is projected, to thereby acquire two-dimensional image data of the object 100.
カメラ２０は、その格子パターンが投影された対象物１００を撮像し、対象物１００の二次元の画像データを得る。 - 特許庁 - To provide a data processor capable of properly discovering pattern failure, etc., of a circuit element or a substrate of a memory, etc.
メモリ等の回路素子、あるいは基板のパターン不良等を適切に発見することのできるデータ処理装置を提供すること。 - 特許庁 - A sole pressure pattern detecting portion 31 compares the distribution of the sole loads with a standard model (the history and duration of detected patterns).
ソール圧パターン検出部３１では、足裏荷重の分布を基準モデル（履歴検知パターンおよび持続検知パターン）と比較する。 - 特許庁 - To enable data compression with high efficiency, and improve reproducibility of a half-tone thin line and reproducibility of a half-tone mesh pattern.
データ圧縮を効率よく行うことができ、中間調細線の再現性、中間調メッシュパターンの再現性を改善する。 - 特許庁 - TRANSMITTANCE MEASURING INSTRUMENT, PHOTOMASK TRANSMITTANCE INSPECTION DEVICE, TRANSMITTANCE INSPECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PATTERN TRANSFER METHOD, AND PHOTOMASK PRODUCT
透過率測定装置、フォトマスクの透過率検査装置、透過率検査方法、フォトマスク製造方法、パターン転写方法、フォトマスク製品 - 特許庁 - At this time, the first metal layer 22 in the multilayer body is etched selectively into a predetermined pattern using etchant for the metal layer.
この際、積層体の第１金属層２２は、金属層用エッチング液を用いて所定パターンで選択的にエッチングされる。 - 特許庁 - Thereafter, the emitter contact layer 7 and the emitter layer 6 are removed sequentially by ICP system dry etching using the resist pattern 9 as a mask.
その後、レジストパターン９をマスクとして、ＩＣＰ方式ドライエッチングにより、エミッタコンタクト層７とエミッタ層６とを順次除去する。 - 特許庁 - METHOD FOR EXTRACTING PROFILE OF PATTERN ON PHOTOMASK, PROFILE EXTRACTION DEVICE, METHOD FOR GUARANTEEING PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトマスクのパターンの輪郭抽出方法、輪郭抽出装置、フォトマスクの保証方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To provide an ultrasound transmitting method for forming broadband chirp waves without using a complicated driving pattern or the like.
複雑な駆動パターン等を用いることなく広帯域のチャープ波を形成することができる超音波送信方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image processing apparatus capable of saving toner without lowering the image quality of character images and pattern images.
文字画像と絵柄画像に対して画像品質を損なわずにトナーをセーブすることができる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - The amount of toner stuck to the test pattern image is detected to calculate a toner sticking amount when the line area ratio is 100%.
このテストパターン像のトナー付着量を検出して、ライン面積率が１００％のときのトナー付着量を算出する。 - 特許庁 - A resist mask 3 of a remaining pattern is selectively formed on a film 2 to be made etching on a semiconductor substrate 1 through exposure and development.
半導体基板１上の被エッチング膜２上に残しパターンのレジストマスク３を、露光、現像により選択的に形成する。 - 特許庁 - The resist pattern widths of the formed resist patterns can be measured using, for example, SEM (electron microscope).
形成された前記２種類のレジストパターンのレジストパターン幅寸法は、例えばＳＥＭ（電子顕微鏡）等によって測定されればよい。 - 特許庁 - To maintain an on-track state without performing a tracking servo control using a servo pattern which is formed on a discrete track part.
ディスクリートトラック部に形成されているサーボパターンを使用するトラッキングサーボ制御を行うことなく、オントラック状態を維持する。 - 特許庁 - The computer system outputs the operation conformation sound pattern which the user selected only when the user correctly inputs the password.
ユーザからパスワードが正しく入力される場合のみ、コンピュータシステムは、ユーザが選んだ操作確認音のパターンを出力する。 - 特許庁 - The calculated range signal patterns RngBufPos[0], RngBufPos[m] are compared with the range signal pattern in failure respectively (S41, S42).
そして算出したレンジ信号パターンＲｎｇＢｕｆＰｏｓ[0]，ＲｎｇＢｕｆＰｏｓ[m]と、故障時レンジ信号パターンとをそれぞれ比較する（Ｓ４１，Ｓ４２）。 - 特許庁 - An annular dummy pattern 20 is provided to enclose the isolation region 10 in an inactive region which exceeds a prescribed size.
所定の大きさを超える非活性領域の中には、分離領域１０を取り囲むように環状のダミーパターン２０を設ける。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of applying planarization processing with high planarity to a pattern of a silicon oxide film.
シリコン酸化膜のパターンに対して平坦性の高い平坦化処理が可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The mask 1 for forming resist pattern has a slit 4 so formed as to have one side which is shorter than the wavelength of exposure light.
レジストパターンを形成するマスク１において、マスクに、露光光の波長よりも短い一辺を有するスリット４を形成した。 - 特許庁 - The electronic device is formed, for example, by laminating an epitaxial semiconductor layer on the improved crystal, performing pattern formation and metallization.
改良結晶上に、例えばエピタキシャル半導体層の設層、パターン形成及び金属化を行い電子装置を形成する。 - 特許庁 - To provide a technology for normally forming a membrane on an isolated conductive pattern by an electroless plating method.
孤立した導体パターン上に無電解めっき法を使用して膜を正常に形成することができる技術を提供する。 - 特許庁 - A polysilicon film turning to an electrode film and an insulating film 120 are formed on a silicon substrate 100 and worked into a transfer electrode pattern.
シリコン基板１００上に電極膜となるポリシリコン膜と絶縁膜１２０を形成し、転送電極パターンに加工する。 - 特許庁 - To elucidate a gene pattern of cataract found in ddY-series mice and elucidate the location of a causing gene on a chromosome.
ｄｄＹ系マウスに見出された白内障の遺伝様式及び原因遺伝子の染色体上での位置を明らかにする。 - 特許庁 - To provide transfer foil provided with magnetic information corresponding to an optical diffraction grating or a hologram pattern and a magnetic information forming method.
光回折格子またはホログラムパターンに応じた磁気情報を有する転写箔と磁気情報形成方法を提供する。 - 特許庁 - To surely insulate an interposer from the pattern of an antenna without interposing any insulating layer when joining the interposer to the antenna.
アンテナにインターポーザを接合する際に絶縁層を介在させることなく、アンテナのパターンに対してインターポーザを確実に絶縁する。 - 特許庁 - Dictionary information 18b to be used for translating processing or pattern database 18c dedicated to speaking sentence is prepared in a storage device 18.
記憶装置１８には翻訳処理で用いる辞書情報１８ｂや発言文専用パターンデータベース１８ｃが用意されている。 - 特許庁 - A stacked electronic component 1A includes a plurality of stacked ceramic sheets 2A1 and 2A2 and a conductive pattern 4A.
本発明の積層型電子部品１Ａは、積層されている複数のセラミックシート２Ａ１、２Ａ２および導電パターン４Ａを備える。 - 特許庁 - There are also provided a photosensitive dry film, a photosensitive laminated film and a resin pattern using a resin composition containing a polyamide resin having a specific structure.
特定の構造を有するポリアミド樹脂を含む樹脂組成を用いた、感光性ドライフィルム、感光性積層フィルム、樹脂パターン。 - 特許庁 - An alignment pattern AP formed on a substrate mounted on a stage is imaged by a camera to acquire picked up image data.
ステージ上に載置された基板上に形成されたアライメントパターンＡＰをカメラにより撮像して撮像画像データを取得する。 - 特許庁 - To provide a system and a method of performing micro-deposition of small droplets of fluid material for forming a characteristic pattern on a substrate.
基板上に特徴パターンを形成するた流体材料の小滴をマイクロデポジションするシステムおよび方法の提供。 - 特許庁 - To provide a method for vein pattern image correction that can implement a high authentication accuracy and contactless vein authentication system.
認証精度が高く、非接触型の静脈認証システムを可能にする、静脈パターンの画像補正方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, a flat-panel X-ray detector (FPD) 3 can be manufactured easily without breakdown of the read pattern.
その結果、読み出しパターンを破壊することなく容易にフラットパネル型Ｘ線検出器（ＦＰＤ）３を製造することができる。 - 特許庁 - A correlator 10 calculates a correlation value V between a time-base waveform pattern stored in a corresponding storage unit 20 and a reception signal.
相関器１０は、対応する記憶部２０に記憶された時間軸波形パターンと、受信信号との相関値Ｖを算出する。 - 特許庁 - The lactone ring, contained in the formed resist pattern 102a, is opened by exposure to an aqueous acrylic acid solution 105.
続いて、形成されたレジストパターン１０２ａに含まれるラクトン環をアクリル酸水溶液１０５にさらすことにより開環させる。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING RESIN FILM OF DESIRED PATTERN ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, SEMICONDUCTOR CHIP, SEMICONDUCTOR PACKAGE, AND RESIST IMAGE STRIPPER
半導体基板上に所望のパターンの樹脂膜を形成する方法、半導体チップ、半導体パッケージ、及びレジスト像剥離液 - 特許庁 - In a diffractive multifocal lens, the diffraction phase structure of a diffraction pattern has a structure expressed by formula (1).
回折パターンの回折位相構造が、下記式により表される構造を有することを特徴とする回折型多焦点レンズ。 - 特許庁 - The exterior member is manufactured by giving a decorative pattern to a surface of a body of a synthetic resin-made member.
合成樹脂製の部材本体の表面に装飾模様を施して外装部材を製造する外装部材の製造方法。 - 特許庁 - To provide an embroidery data producing device which stitches an embroidery design pattern that matches the image of the music which a user likes.
ユーザが嗜好する音楽のイメージにマッチングする図柄の刺繍模様を縫製する刺繍データ作成装置を提供する。 - 特許庁 - A cured layer 2a is formed on the surface of the acrylic resist pattern 2 on a substrate 1 by using ultraviolet rays and electronic beams.
基板１上のアクリル系レジストパターン２の表面に、紫外線あるいは電子ビームを用いて硬化層２ａを形成する。 - 特許庁 - The antenna switching control part 2 controls an antenna switching part 3, and connects each transceiver circuit with each antenna according to the pattern.
アンテナ切り替え制御部２はアンテナ切り替え部３を制御し、そのパターンに従って、各アンテナと各送受信回路を接続する。 - 特許庁 - To provide a brushless DC motor which does not need to change the mounting position of a magnet position sensor, regardless of the magnetization pattern of a magnet.
マグネットの着磁パターンに拘らずマグネット位置センサの取り付け位置を変更しなくてよいブラシレス直流電動機を得る。 - 特許庁 - In forming the pattern, drive of the ionizer 45 is first started and the ions are supplied to the vicinity of the surface of the substrate 9.
パターンを形成する際には、まず、イオナイザ４５の駆動が開始され、イオンが基板９の表面近傍に供給される。 - 特許庁 - To actualize scheduling which generates no partiality of a scheduling pattern as scheduling in which logical computer having different service ratios are present.
異なるサービス比の論理計算機が存在するスケジューリングでスケジューリングパターンの偏りが発生しないスケジューリングを実現すること。 - 特許庁 - PROCESSING LIQUID AND REMOVING METHOD FOR ALKALI-SOLUBLE POLYMER RESIN LAYER, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND CIRCUIT BOARD MANUFACTURING METHOD
アルカリ可溶性樹脂層処理液、アルカリ可溶性樹脂層除去方法、レジストパターンの形成方法及び回路基板の製造方法 - 特許庁 - To provide a method for carrying out simulation in an actual element configuration by creating a netlist reflecting a layout pattern of elements.
素子のレイアウトパターンを反映したネットリストを作成することで実際の素子構成でシミュレーションを行う方法を提供する。 - 特許庁 - The system further comprises an interferometer configured to generate an interference pattern between the local pulse and the remote pulse.
システムは、さらに、ローカルパルスと上記遠隔パルスとの間に干渉パターンを生成するように構成された干渉計を含む。 - 特許庁 - An anisotropic etching is performed to a single-crystal silicon film using a hard mask HM to form a single-crystal silicon pattern.
ハードマスクＨＭを用いて単結晶シリコン膜について異方性エッチング処理を実施し、単結晶シリコンパターンを形成する。 - 特許庁 - This surface treatment agent for the resist pattern contains: polymer and/or oligomer having a nucleophilic functional group; and a solvent.
求核性官能基を有するポリマーおよび/またはオリゴマーと溶剤を含有することを特徴とするレジストパターン表面処理剤。 - 特許庁
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