「pattern」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 933 934 935 936 937 938 939 940 941 .... 999 1000 次へ＞- The upper electrodes of the capacitance elements C1, C2 are formed of a common conductor pattern Me2a and made to be at a floating potential.
容量素子Ｃ１，Ｃ２の上部電極は共通の導体パターンＭｅ２ａにより形成されて浮遊電位とされている。 - 特許庁 - In addition, the linear pattern 13 of the face 12a side is silk screen-printed in the form of a lenticular lens using an ultraviolet-curable ink.
加えて、表面１２ａ側の線状パターン１３を、紫外線硬化インキを用いてレンチキュラーレンズ状にシルクスクリーン印刷する。 - 特許庁 - The plan view of sidewalls 33 of the semiconductor layer of the wafer, which are sectioned by each trench 32, is a hexagonal pattern 30.
該トレンチ３２によって区画される半導体層の側壁３３は上方から見て６角形のパターン３０を構成する。 - 特許庁 - Occurrence of moire pattern is effectively suppressed when the angle of inclination θ is formed at an angle from 10° to 35°.
尚、傾斜角度θは、１０°から３５°までの角度で形成したときにモワレパターンの発生を効果的に抑えることができる。 - 特許庁 - A lower conductive pattern is made to serve as one of electrodes, and insulating material is attached to defective parts through an electrodeposition method.
下層の導電パターンを一方の電極として、電着法により絶縁性材料を欠損欠陥部分に付着させる。 - 特許庁 - When developed, the plating resist pattern is formed on the upper side of the base metal layer 15 except for its periphery 5a.
次に、現像すると、下地金属層１５の上面においてその外周部５ａを除く部分にメッキレジストパターンが形成される。 - 特許庁 - To provide a substrate for a display panel where the electrodes is less likely to peel off, regardless of minute electrode pattern.
微細化された電極パターンであっても、電極の剥離が生じにくいディスプレーパネル用基板を提供することを課題とする。 - 特許庁 - The golf club head 10 has fine bumps 17 having a prescribed height which are formed on the face 11 in a prescribed pattern.
ゴルフクラブヘッド１０は、フェイス面１１に、所定の高さを有する微小隆起部１７を所定のパターン状に形成する。 - 特許庁 - An internal electrode pattern 20 and a step difference accommodation layer 31 are formed in one chip area Q1 on a ceramic green sheet 11.
セラミックグリーンシート１１上の一チップ領域Ｑ１に内部電極パターン２０及び段差吸収層３１を形成する。 - 特許庁 - The anisotropic conducting film 22 makes electrical continuity only between electrode parts 2a to 4a of the components 2 to 4 and the conducting metal pattern 23'.
異方性導電膜２２は部品２〜４の電極部２ａ〜４ａと導電金属パターン２３’との間のみを導通させる。 - 特許庁 - The cleaning liquid contains acetic acid, inorganic acid, a fluorine compound, and deionized water, and the method for forming a metallic pattern uses the same.
酢酸、無機酸、フッ素化合物、及び純水を含む洗浄液及びこれを用いた金属パターンの形成方法である。 - 特許庁 - SILPHENYLENE-CONTAINING PHOTOCURABLE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR ELEMENT OBTAINED USING THE METHOD
シルフェニレン含有光硬化性組成物、それを用いたパターン形成方法およびその方法により得られる光半導体素子 - 特許庁 - To provide a laser beam irradiation apparatus capable of easily changing the dimension of a rectangular irradiation pattern or the distance between irradiation patterns.
矩形の照射パターンの寸法や照射パターン同士の間隔を容易に変更可能なレーザビーム照射装置を提供する。 - 特許庁 - The ferromagnetic layers may have different magnetic characteristics, and may have an optical diffraction lattice or a hologram pattern 13.
強磁性体層は磁気特性が異なるものであってもよく、光回折格子またはホログラムパターン１３を有していても良い。 - 特許庁 - In a second aspect, at lest one spectral energy conditioning pattern can be applied to a conditioning crystallization reaction system.
第二の様態では、少なくとも１つのスペクトル・エネルギー・コンディショニング・パタンをコンディショニング結晶化反応系に印加することができる。 - 特許庁 - Wiring grooves and the holes are formed in the insulating films 11, 7 using the resist pattern formed on the organic reflection preventing film.
有機系反射防止膜上に形成されたレジストパターンにより、絶縁膜１１，７等に配線溝とホールが形成される。 - 特許庁 - The upper face of the rutile crystal TiO_2 is irradiated with ions accelerated in the state that a mask 3 is formed at a desired pattern.
ルチル型結晶ＴｉＯ_2板の上面に所望のパターンでマスク３を形成した状態で加速したイオンを照射する。 - 特許庁 - For example, the estimate vector is brought into a zero vector for the pixels corresponding to the repetitive pattern or the region including the pixels.
例えば、前記繰り返し模様に対応する画素あるいは該画素を含む領域に対して、前記推定ベクトルを０ベクトルにする。 - 特許庁 - The panel substrate 1 is pressed against the pattern 13 from the surface 5a side in a state that a film substrate material 15 is dissolved in water.
フィルム基材１５が水に溶解した状態で、パネル基体１をその表面５ａ側から模様１３に押し当てる。 - 特許庁 - Then, the resist pattern 24 containing the surface altered layer 24a is removed by using a resist-removing liquid with monoethanolamine as a main constituent.
次に、表面変質層２４ａを含むレジストパターン２４をモノエタノールアミンを主成分とするレジスト剥離液を用いて剥離する。 - 特許庁 - To realize a high-accuracy patterning by substantially eliminating the influences of a local flare to a pattern to be exposed in lithography.
リソグラフィーにおいて露光されるパターンに対するローカルフレアの影響を実質的に除去し、高精度のパターニングを実現する。 - 特許庁 - To improve the retrieval accuracy by effectively retrieving an image having a feature in a gradation, pattern or texture like a photograph image.
写真画像のようなグラデーションや模様、テクスチャに特徴がある画像を有効に検索し、検索精度を向上させること。 - 特許庁 - POLYMERIZABLE COMPOSITION, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE LAYER, PERMANENT PATTERN, WAFER LEVEL LENS, SOLID STATE IMAGING ELEMENT AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法 - 特許庁 - To simply manufacture a shaping sheet at low cost when a decorative sheet is manufactured from a draft of a pattern with large difference between recesses and projections.
凹凸差の大きな柄を有する原稿から化粧板を製造するときに、低コストで簡易に賦型シートを製造する。 - 特許庁 - To easily make a mask capable of forming a thin film pattern of pixels of an organic EL element with accuracy adaptable to high-precision pixels.
有機ＥＬ素子の画素をなす薄膜パターンを高精細画素に対応できる精度で成膜可能なマスクを容易に作製する。 - 特許庁 - To provide a resist pattern slimming treatment method in which a constant slimming amount can be obtained without reference to the kind of a resist material.
レジスト材料の種類によらず、一定のスリム量を得ることができるレジストパターンのスリミング処理方法を提供する。 - 特許庁 - In a region 202 of a pixel corresponding to a non-delivering nozzle, a quantization processing is performed based on a void correcting dot pattern ECB.
不吐出ノズルに対応する画素の領域２０２では抜け補正ドットパターンＥＣＢに基づいて量子化処理が行われる。 - 特許庁 - To easily manufacture a one-way diffusion body even if the shape of the diffusion body is made large in size and the body has a complicated groove pattern.
形状が大型化したり、複雑な溝のパターンを持つ場合であっても、一方向拡散体を容易に作製すること。 - 特許庁 - To make the shape observation and dimension inspection of very fine pattern possible in an electron beam inspection device of a scanning electron microscope for example.
走査形電子顕微鏡などの電子ビーム検査装置において、微細なパターンの形状観察や寸法検査を可能とする。 - 特許庁 - To provide a substrate inspection device capable of more efficiently performing four-terminal measurement for a high-density wiring pattern.
高密度の配線パターンに対してもより効率よく四端子測定を行うことのできる基板検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a reel for a film carrier tape which can prevent damage of a photoresist and prevent inferiority of a wiring pattern.
フォトレジストの損傷を防止することができて、配線パターン不良を防止することができるフィルムキャリアテープ用リールを提供する。 - 特許庁 - A solid-state imaging element chip 10A is flip-chip-mounted to the wire pattern 12a exposed from the resin housing 14A.
樹脂筐体１４Ａから露出した配線パターン１２ａに対して固体撮像素子チップ１０Ａをフリップチップ実装する。 - 特許庁 - Thereafter, a mask layer M is formed by performing an etching process such that the organic films JM1 and JM2 and the resist pattern PRp are etched.
その後、その有機膜ＪＭ１，ＪＭ２，レジストパターンＰＲｐをエッチングするエッチング処理を実施して、マスク層Ｍを形成する。 - 特許庁 - After the pattern formation is completed, on the surface of the material, an electrode is formed generally by electroless metal plating.
パターン形成が完了した後、この材料の表面には一般に、無電解金属めっきによって電極が形成される。 - 特許庁 - PHOTORESIST POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHOTORESIST COMPOSITION USING THE POLYMER, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
フォトレジスト重合体とその製造方法、これを利用したフォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁 - High-speed data communication is attained by the self-synchronization Manchester coding while other data pattern for frame synchronization is not needed.
自己同期型マンチェスターコーディングにより、高速のデータ通信が可能であり、フレーム同期のための別途のデータパターンが不要になる。 - 特許庁 - By the lift-off method using the resist pattern RP4a, the source and drain electrodes aligned with the gate electrode GE2 are formed.
このレジストパターンＲＰ４ａを用いたリフトオフ法により、ゲート電極ＧＥ２に整合したソース・ドレイン電極を形成する。 - 特許庁 - The filter 10 includes an insulation substrate 12 on which pattern electrodes 14, 16, 18, 20 and lands 22, 24, 26, 28, 30 are formed.
ラダー型フィルタ１０は、パターン電極１４，１６，１８，２０とランド２２，２４，２６，２８，３０が形成された絶縁体基板１２を含む。 - 特許庁 - A resonance circuit is formed of the capacitor, an inductance 450 and a pattern line, and with the inductance lowered, an output signal is detected.
容量、インダクタンス、パターン線とで共振回路が形成され、インピーダンスダンスを下げた状態で、出力信号を検出する。 - 特許庁 - ORGANIC SEMICONDUCTOR PATTERN, PATTERNING METHOD OF ORGANIC SEMICONDUCTOR LAYER, ORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DISPLAY
有機半導体パターン及び有機半導体層のパターニング方法、有機半導体装置及びその製造方法、並びに表示装置 - 特許庁 - A base material plating layer 26 and a gold plating layer 28 are sequentially formed by electroless plating on a board wiring pattern 24 on a board 12.
基板１２上の基板配線パターン２４上に、無電解メッキにより下地メッキ層２６、金メッキ層２８を順次形成する。 - 特許庁 - The printer controller suppresses a toner mounting amount with respect to the separated line pattern section by a toner mounting amount control function (processing 303).
プリンタコントローラは、分離されたラインパターン部に対して、トナー載り量制御機能（処理３０３）によって、トナー載り量を抑える。 - 特許庁 - To provide a photomask which can transfer patterns of desired pattern sizes by correcting the mask patterns of the photomask in a microunit.
フォトマスクのマスクパターンを微小単位で補正し、所望パターン寸法のパターンを転写することができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁 - An inspection pattern 10 drawn on the photomask with the rectangular patterns 1 to 6 becomes a rectangle when the linearity correction is proper.
これらの矩形パターン１〜６によりフォトマスクに描画された検査パターン１０は、リニアリティ補正が適正であれば矩形になる。 - 特許庁 - To provide a golf ball having a dimple pattern for reducing air resistance at high speed while increasing buoyancy at low speed.
高速度において空気抵抗が小さく、低速度に於いて浮力を増加させるディンプルパターンを持つゴルフボールを提供する。 - 特許庁 - To precisely form a catalyst layer into an arbitrary pattern without using a resist so that the patterned surface can be electroless-plated.
無電解めっき方法を可能とするための触媒層を、レジストを用いることなく正確に任意のパターンに形成する。 - 特許庁 - By selectively etching a chrome film 23 with the resist pattern 33 after adjustment as a mask, the optical grating is formed.
この調整後のレジストパターン３３をマスクとしてクロム膜２３を選択的にエッチングすることにより、光学格子を形成する。 - 特許庁 - The liquid crystal molecule in the image forming layer 3 is oriented along the grooves of the grid-like pattern of the oriented layer 2 and fixed by polymerization.
像形成層３の液晶分子は、配向層２の格子様パターンの溝に沿って配向し、重合によって固定される。 - 特許庁 - METHOD FOR SMOOTHING SURFACE AND LOST WAX PRECISION CASTING METHOD USING RESIN PATTERN HAVING SURFACE SMOOTHED BY THIS METHOD
表面平滑化法及び該方法によって平滑化した表面を有する樹脂模型を用いたロストワックス精密鋳造法 - 特許庁 - A light shielding pattern 52 having a high reflectance is formed on the surface of a reticle substrate 51 to obtain the objective reticle (photomask) R.
レチクル（フォトマスク）Ｒは、レチクル基板５１の表面に高反射率を有する遮光性パターン５２を形成して構成される。 - 特許庁
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