「patterned layer」を含む例文一覧(1139)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 次へ＞- To provide a good showing transparent conductive film with a patterned transparent conductive layer, for suppressing a dissimilarity between a pattern portion and a pattern opening portion, and to provide a touch panel using the same.
透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部との相違が抑制され、見栄えの良好な透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。 - 特許庁 - After bonding, the sapphire growth substrate is removed by the substrate removing technology, and the InAlGaN layer is patterned and etched and a current injection type light emitting element is completed.
ボンディングの後、サファイア成長基板（３０）は、基板除去技術を使って除去され、その後それらのＩｎＡｌＧａＮ層がパターニング及びエッチングされて電流注入型発光素子が完成する。 - 特許庁 - The elastic element 130 is arranged on the second surface 110b and further encloses the second patterned metal layer 114, while being brought into contact with the lower mold chase 220 and arranged between it and the substrate 110.
弾性要素１３０は、第２表面１１０ｂ上に配置されるとともに、第２のパターン化金属層１１４を囲み、下側モールドチェイス２２０と接触させ、基板１１０との間に配置される。 - 特許庁 - With the photosensitive film 47 as a mask, the second metal layer 45 is patterned so as to have a width (W2) narrower by about 1-4 μm than the photosensitive film width (W1) by an isotropic wet etching method ((b) in Fig.5).
感光膜４７をマスクとして第２金属層４５を等方性のウェットエッチング方法で感光膜の幅（Ｗ１）よりも１μｍ乃至４μｍ程度小さな幅（Ｗ２）にパターニングする（図５（ｂ））。 - 特許庁 - OLEDs are patterned into a marker, and it is combined with an outer layer comprising a high-scattering, nonabsorbing film provided on an OLED luminescent region and a high-absorbing film provided on a nonluminescent region.
ＯＬＥＤをパターン化して標識とし、ＯＬＥＤ発光領域上に設けた高散乱性・非吸収性皮膜と非発光領域上に設けた高吸収性皮膜とからなる外層と組合わせる。 - 特許庁 - In a second mode, the colored acrylic syrup pattern paint is sprayed on the article to be coated to form a desired pattern and a reinforcing layer comprising FRP is provided on the patterned article to be coated to produce an FRP product.
本発明の第２は、被塗装物に着色アクリルシロップ模様塗料を吹き付け所望の模様を形成し、その上にＦＲＰからなる補強層を設けるＦＲＰ製品の製造方法である。 - 特許庁 - To prevent leak and short circuit of a high polymer electroluminescent element caused by scratch and adhesion of dust on the surface of a high polymer light emitting layer, a pinhole, and a clearance between patterned pixels in a process for manufacturing the element.
高分子エレクトロルミネッセンス素子製造工程における高分子発光層表面の傷やゴミ付着、また、ピンホールやパターニング画素間の隙間を原因とする、素子のリークや短絡を防止する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head, which is capable of easily lifting-off a resist layer patterned by an electron beam, a method for manufacturing a magneto-resistive element aggregate, and a method for manufacturing a magnetic head slider.
電子ビームでパターニングしたレジスト層を容易にリフトオフできる薄膜磁気ヘッドの製造方法、磁気抵抗効果素子集合体の製造方法、及び磁気ヘッドスライダの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The liquid repellent layer 12 may be arranged before patterning the resin film 11 or be formed on the surface of the patterned resin film 11 by low-pressure plasma less than 1 Pa after patterning.
撥液層１２は、樹脂膜１１をパターニングする前に配置しておいてもよいし、パターニング後、１Ｐａよりも低圧のプラズマによる表面処理で、パターニングした樹脂膜１１の表面に形成してもよい。 - 特許庁 - To provide a resin transfer material, free of remaining of a resin layer in unwanted portions and capable of attaining reliable pattern formation, when being patterned after transfer, and capable of improving reliability.
転写後において、パターニングしたときに、不必要な部分に樹脂層が残存せず、確実なパターン形成を達成することができ、信頼性を向上させることのできる、樹脂転写材を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an EL element through photolithography method preventing mixing of colors between an edge portion of a patterned light-emitting part and a different light-emitting layer deposited thereon afterwards, and preventing pixels from getting narrower.
パターン形成された発光部のエッジ部分と後に積層する異なる発光層との混色を防止し、画素細りを防止するフォトリソグラフィー法によるＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To improve an insulating property between adjacent first electrodes and reduce side-etched portions when a piezoelectric body layer is patterned by a wet etching method in an inkjet head manufacturing method.
インクジェットヘッドの製造方法において、隣接する第1電極層間の絶縁性を向上させるとともに圧電体層をウェットエッチング法でパターニングする際におけるサイドエッチングされる部分を減らす。 - 特許庁 - The phase shifting mask has a mask substrate substantially transparent to the energy beam used and a patterned phase shifting layer disposed on the mask substrate and having openings therein exposing the mask substrate.
この位相シフト・マスクは、使用されるエネルギー・ビームに対しほぼ透明なマスク基板と、マスク上に付着されマスク基板を露出させる開口をその中に有するパターン化された位相シフト層とを備える。 - 特許庁 - Then, the wiring layer 13 is patterned and wiring 13a is formed by performing dry etching by using chlorine gas with the auxiliary mask 15a and remaining photoresist 17a as the mask.
つぎに、補助マスク１５ａおよび残留しているフォトレジスト１７ａをマスクとして塩素系ガスを用いたドライエッチングを行うことにより、配線層１３をパタニングして配線１３ａを形成する。 - 特許庁 - The suitable materials for the patterned metal layer 102 include, but are not limited to, platinum, molybdenum, tungsten, tantalum, nickel, titanium, copper, chromium, gold, aluminum, silver or other conductive materials appropriate for the operating temperature.
パターン化金属層１０２に好適な材料には、限定はしないが、白金、モリブデン、タングステン、タンタル、ニッケル、チタン、銅、クロム、金、アルミニウム、銀、または動作温度に適合する他の導電性材料が含まれる。 - 特許庁 - To provide a transfer sheet which keeps a patterned metal thin film excellent in corrosion resistance, wrinkles and adhesion defect hardly occur during producing and prevents wrinkles or cracks from occurring in a transfer layer under a high humidity environment.
パターン化された金属薄膜が耐腐食性に優れ、製造時にシワや密着不良などが生じ難く、高湿度環境下で転写層にシワやひび割れが発生しない転写シートを提供する。 - 特許庁 - By the above processes, the wiring layer 18 is patterned so that certain isolation is performed while installing the predetermined pattern in the predetermined region 10a which runs along the dicing line DL of the bottom of the opening 10w.
こうして、所定のパターンを有しつつ、かつ開口部１０ｗの底部のダイシングラインＤＬに沿った所定の領域１０ａで確実に分離するように、配線層１８がパターニングされる。 - 特許庁 - Then after placing a resist 27 on the polysilicon 7, the gate 7c and the gate oxide film 6 of the peripheral transistor 50 are patterned by using the resist 27 as a mask, and the electrode layer 7b of the second layer and the insulating film 5 are removed to form a contact hole 12.
そして、ポリシリコン７の上にレジスト２７を配置したのち、レジスト２７をマスクとして、周辺トランジスタ５０のゲート７ｃ及びゲート酸化膜６をパターニングすると共に、２層目の電極層７ｂ及び絶縁膜５を除去してコンタクトホール１２を形成する。 - 特許庁 - In the machining system of the capacitance type touch panel, two conductive layers are individually patterned by applying the laser beam to the conductive layers inside a preliminarily sticking transparent conductive film by using an adhesive layer having an ultraviolet ray absorbing layer.
本発明の静電容量式タッチパネルの加工方式は、紫外線吸収層を有する粘着層を用いて、予め貼り合わされた透明導電性フィルムの内部の導電層にレーザ光を照射し、二層の導電層を個別にパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁 - This decorative sheet for a flooring material is provided with a picture-patterned layer and a surface protecting layer in this order on a rigid film having at least a 100-500 μm thickness, wherein the rigid film has ≥1,000 MPa tensile modulus measured according to the provision of JIS K6734.
少なくとも厚みが100〜500μmの硬質フィルム上に、絵柄模様層、及び表面保護層を順に有する床材用化粧シートであって、硬質フィルムのＪＩＳ Ｋ６７３４の規定に従って測定した引張り弾性率が1000MPa以上である床材用化粧シート。 - 特許庁 - The coating composition can provide enhanced resolution of a patterned overcoated photoresist layer and includes the use of a low-activation temperature thermal acid generator, as well as, multiple thermal treatment to process a layer of the underlying coating composition.
本発明の好ましいコーティング組成物および方法は、パターン化されたオーバーコートしたフォトレジスト層の解像度の向上を提供することができ、下地のコーティング組成物の層を処理するため、多重の熱処理と共に低活性化温度熱酸発生剤の使用を含む。 - 特許庁 - An electrodeposition resist layer 107 is formed by electro-depositing an electrodeposition resist on the surface of the metallic film 106, the electrodeposition resist layer 107 is patterned by a photolithography, thus an electrodeposition resist pattern 171 is formed in the region facing the metallic pattern 141 of a mirror part 131.
金属膜１０６の表面に電着レジストを電着することで、電着レジスト層１０７を形成し、電着レジスト層１０７をフォトリソグラフィーによりパターニングし、ミラー部１３１の金属パターン１４１と対向する領域に、電着レジストパターン１７１を形成する。 - 特許庁 - This decorative sheet for a flooring material is provided with a picture-patterned layer and a surface protecting layer in this order on a rigid film having at least a 100-500 μm thickness, where the rigid film has ≥1,000 MPa tensile modulus measured according to the provision of JIS K6734.
少なくとも厚みが100〜500μmの硬質フィルム上に、絵柄模様層、及び表面保護層を順に有する床材用化粧シートであって、硬質フィルムのＪＩＳ Ｋ６７３４の規定に従って測定した引張り弾性率が1000MPa以上である床材用化粧シート。 - 特許庁 - In addition, in a method of manufacturing a light-emitting device, the first substrate provided with the material layer which is patterned by the above method is irradiated with second light, whereby the material layer can be evaporated onto a third substrate which is a deposition target substrate.
また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 - 特許庁 - An n^- type doped GaN diode of >1 μm thickness is arranged on the n^+ type doped GaN diode, patterned into a plurality of thin and long fingers, a metal layer is arranged on n^- type doped GaN layer, and a Schottky junction is formed in between them.
１μｍを超える厚さを有するｎ−型ドープしたＧａＮダイオードを、複数の細長形の指にパターン化した前記ｎ＋型ドープＧａＮダイオード上に配設し、金属層をｎ−型ドープＧａＮ層上に配設し、それとの間にショットキー接合を形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a patterned medium which can efficiently fill magnetic substance deep into fine pores, even if a sputtering method is employed for filling the magnetic substance into the fine pores of a porous layer, has very few impurities and has a magnetic substance layer of a high coercive force.
多孔質層の細孔への磁性体の充填にスパッタ法を用いても細孔の奥まで効率よく磁性体を充填することができ、不純物が極めて少なく、保磁力の高い磁性体層を有するパターンドメディアの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The second AlAs layer 60 and first GaN layer 53 are patterned, a recess 53a and a projection 53b are formed, the surfaces of the first and second AlAs layers 59 and 60 are oxidized, and bottomand top-surface epitaxial masks 61 and 56 that are made of an oxide film are formed.
第２のＡｌＡｓ層６０及び第１のＧａＮ層５３をパターニングして、凹部５３ａと凸部５３ｂとを形成した後、第１，第２のＡｌＡｓ層５９，６０の表面部を酸化させて、酸化膜からなる底面，頂面エピタキシャルマスク６１，５６を形成する。 - 特許庁 - Since the catalyst layer absorbs the light ray of specific wavelength which cures the plating resist, the light ray hitting the plating resist does not cause halation at the interface with the catalyst layer and the plating resist is patterned into an accurate shape capable of forming a metal pattern into an accurate shape.
メッキレジストを硬化させる特定波長の光線を触媒層が吸収するので、メッキレジストを露光する光線が触媒層との界面でハレーションを発生せず、メッキレジストを正確な形状にパターニングできるので金属パターンも正確な形状に形成できる。 - 特許庁 - The method of fabricating the CMOS image sensor includes the steps of providing a substrate in which a predetermined process has completed; forming a patterned block layer on top of a region of the substrate where the photodiode is to be formed; using mask to implant ions into a remaining region except the region where the photodiode is to be formed, leaving the patterned block layer; and removing the mask.
本発明のＣＭＯＳイメージセンサの製造方法は、所定の工程が完了した基板を用意するステップと、該基板のフォトダイオードの形成される領域の上部にパターニングされたブロック層を形成するステップと、該パターニングされたブロック層を残した状態で、前記フォトダイオードの形成される領域を除く残りの領域に対して、マスクを用いたイオン注入を行うステップと、前記マスクを除去するステップとを含む。 - 特許庁 - The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.
また、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁 - In this lighting system 30, a positive electrode 303 constituted of a transparent electrode is patterned linearly, a luminous layer 311 and an alkaline earth metal layer 307 are laid all over the illumination area in top view, and a reflection electrode layer 308 and a photo-absorbing layer 309 are substantially conformed to the linear pattern of the positive electrode 303.
照明装置３０は、透明電極にて構成される陽極３０３を線状にパターニングして構成し、発光層３１１及びアルカリ土類金属層３０７を照明領域全域に跨って平面視ベタ状に構成するとともに、反射電極層３０８及び光吸収層３０９を陽極３０３の線状パターンに略一致させて構成した。 - 特許庁 - After a poly-Si layer 4 is located on a silicon substrate 1 including an upper surface of a field-oxide film 3, the poly-Si layer 4 is patterned, thereby, the poly-Si layer 4a remains in a region constituting a gate electrode in a MOSFET-formed region and a poly-Si layer 4b also remains in a poly-Si resistive-element-formed region.
フィールド酸化膜３の上を含むシリコン基板１の上にＰｏｌｙ−Ｓｉ層４を配置したのち、Ｐｏｌｙ−Ｓｉ層４をパターニングすることで、ＭＯＳＦＥＴ形成領域のうちゲート電極を構成する領域においてＰｏｌｙ−Ｓｉ層４ａを残すと共に、Ｐｏｌｙ−Ｓｉ抵抗体形成領域においてＰｏｌｙ−Ｓｉ層４ｂを残す。 - 特許庁 - In this pneumatic radial tire, belt ply for forming a belt 2 wound on a crown part of a carcass 1 of a radial structure is formed by putting covering rubber 10 on a wire layer 9 formed by arranging a longitudinal wave wire 7 having an oval cross section, and patterned in a waveform bending in the minor axis direction, and a transverse wave wire 8 patterned in a waveform bending in the major axis direction.
ラジアル構造のカーカス１のクラウン部に巻装されるベルト２を形成するベルトプライが、断面小判形で短軸方向に屈曲する波形に型付けした縦波ワイヤ７と長軸方向に屈曲する波形に型付けした横波ワイヤ８を配列して形成されたワイヤ層９に被覆ゴム１０を被覆してなる空気入りラジアルタイヤ。 - 特許庁 - After a conductor 30 is dry etched, a heater substance layer 22 is deposited on the upper part thereof and connected electrically with the conductor 30 and then the heater substance layer 22 is patterned by dry etching to form a heater 20.
コンダクタ３０をドライエッチングした後でその上部にヒータ物質層２２を蒸着してコンダクタ３０と電気的に連結し，かつ，このヒータ物質層２２をさらにドライエッチングによってパターニングし，ヒータ２０を形成することを特徴とする，インクジェットプリントヘッドおよび製造法が提供される。 - 特許庁 - The inside of the through hole 5 which is formed in a recessed type wherein the copper foil 3 is made to be a bottom is filled with filling resin 7, the copper foil 3 is so patterned that a region in the copper foil 3 is positioned immediately above the filling resin 7 remains, a surface side wiring layer 8 is formed, and a build-up layer BU is formed.
次に、銅箔３を底部とする凹状に形成されたスルーホール５内に充填樹脂７を充填したのち、、銅箔３の充填樹脂７直上の領域が残留するように、銅箔３をパターニングして表面側配線層８として、ビルドアップ層ＢＵを形成する。 - 特許庁 - Further, the light-shielding layer 3 is patterned to form a light-shielding pattern 3a, and the shifter layer 2 is subjected to dry etching with chlorine, using ICP(inductively coupled plasma) type dry etching apparatus, to form a phase shift pattern 2a for obtaining shift mask 100 of the invention.
さらに、遮光層３をパターニング処理して遮光パターン３ａを形成し、さらに、シフター層２をＩＣＰ（誘電結合プラズマ）タイプのドライエッチング装置を用いて塩素によるドライエッチングにてエッチングし、位相シフトパターン２ａを形成し、本発明の位相シフトマスク１００を得る。 - 特許庁 - The invention relates to the patterned magnetic recording medium including a plurality of magnetic recording layers arranged at predetermined regular intervals on a substrate, wherein the magnetic recording layer is a multi-layer and includes a means of suppressing magnetic interaction between the magnetic recording layers.
基板上に所定間隔をおいて配列された複数の磁気記録層を備えるパターン化された磁気記録媒体であって、磁気記録層は、多層であり、かつ磁気記録層の間の磁気的相互作用を抑制する手段を備えることを特徴とするパターン化された磁気記録媒体である。 - 特許庁 - A flexible printed wiring board 1 is provided with a first polyimide system resin layer 3 to support a copper foil on one surface of the copper foil 2 patterned corresponding to the circuit, and a second polyimide system resin layer 5 to coat and protect the circuit on the other surface of the copper foil 2.
フレキシブルプリント配線板１は、回路に応じてパターニングされた銅箔２の一方の面に銅箔２を支持する第１のポリイミド系樹脂層３が形成されるとともに、銅箔２の他方の面に上記回路を被覆して保護する第２のポリイミド系樹脂層５が形成されてなる。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a patterned medium type magnetic recording medium having a smooth surface and excellent signal characteristics and reliability without reducing corrosion resistance, even when tape burnishing is performed after protective layer formation and lubricant application on a magnetic recording layer having a discrete track formed thereon.
ディスクリートトラックが形成された磁気記録層に保護層形成および潤滑剤塗布後にテープバーニッシュを行っても、耐腐食性を低下させることなく、平滑な表面を有し、かつ、信号特性や信頼性に優れたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The connecting terminal is manufactured by using a patterned conductive connecting material including a resin composition layer and a metal foil pattern layer formed by arranging solder foils or tin foils so as to have the same pattern as at least a part of a pattern formed by each end surface of a plurality of electrodes.
また、樹脂組成物層と、複数の電極の各端面が形成するパターンの少なくとも一部と同じパターンを有するように半田箔又は錫箔が配列されてなる金属箔パターン層とを含むパターン化導電接続材料を用いて接続端子を製造する。 - 特許庁 - To provide a patch transfer medium which can easily transfer the patch onto a transfer object and which contains a hologram forming layer and a colored reflective patterned layer that enables authenticity judgement in simple manner in addition to abrasion resistance and solvent resistance protecting the surface of the medium even with many repeated uses.
被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なホログラム形成層及び有色反射パターン層を有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁 - The terminals opposing each other are electrically connected by using a patterned conductive connecting material including a resin composition layer and a metal foil pattern layer formed by arranging solder foils or tin foils so as to have the same pattern as at least a part of a pattern formed by each end surface of a plurality of terminals.
樹脂組成物層と、複数の端子の各端面が形成するパターンの少なくとも一部と同じパターンを有するように半田箔又は錫箔が配列されてなる金属箔パターン層とを含むパターン化導電接続材料を用いて対向する端子間を電気的に接続する。 - 特許庁 - In the electronic member 1, the circuit 30 with patterned metal body 31 is fixed to an insulating base material 10 via the bonding agent layer 20, and this bonding agent layer 20 placed in contact with the adjacent metal body 20 is divided with each other.
本発明の電子部材１は、金属体３１がパターン形成された回路３０が接着剤層２０を介して絶縁性基材１０に固定されたものであり、隣接する金属体３１に接する接着剤層２０が互いに分断されていることを特徴とする。 - 特許庁 - A plane layer 2 in an adjacent region (B) under a forming region of a wiring pattern (T) 6 for measurement is so patterned that the percentage of residual copper matches that of the plane layer 2 in an adjacent region (A) under a forming region of a signal wiring pattern (S) 1 of a measuring object.
測定用配線パターン（Ｔ）６の形成領域下の近傍領域（Ｂ）におけるプレーン層２は、その残銅率が、測定対象の信号配線パターン（Ｓ）１の形成領域下の近傍領域（Ａ）におけるプレーン層２の残銅率と合うようにパターニングされている。 - 特許庁 - A layer (low-reflection layer) 3a with optical reflectivity lower than that of bus lines 4a, which is patterned in the same shape as the bus lines 4a, is provided so as to cover the bus lines 4a in a buffer film 3 formed between a viewing side glass substrate 2 and an insulating film 4 where the bus lines 4a are disposed.
視認側のガラス基板２とバスライン４ａを設けた絶縁膜４との間に形成したバッファ膜３に、バスライン４ａと同形状にパターニングされた、バスライン４ａよりも光反射率が低い層（低反射層）３ａを、バスライン４ａを覆うように設けている。 - 特許庁 - This matter has a semi-transparent film 2, a base layer 4, which is formed on the film and shows black-based color, and a coating film 6, which is formed on the base layer and in which a pearl pigment is dispersed so as to be patterned that the pearl pigment density to the direction of a film thickness varies within a pattern.
半透明のフィルム２と、フィルム上に形成された、黒色系の色を呈する下地層４と、下地層の上に、膜中にパール顔料が分散され、膜厚方向のパール顔料の濃度がパターン内で異なるようにパターニングされた塗工膜６とを有することを特徴とする。 - 特許庁 - Namely, a polycrystalline silicon film 4 is first patterned similar to a conventional device, an Al film is formed on a layer insulating film 9 in contact with the polycrystalline silicon film, and heat treatment is then conducted to substitute a polycrystalline silicon film 4 in the layer insulating film 9 with Al.
即ち、先ず従来と同様に多結晶シリコン膜４をパターン形成し、層間絶縁膜４上に多結晶シリコン膜と接触するようにＡｌ膜を形成した後、熱処理することにより、層間絶縁膜９内の多結晶シリコン膜９をＡｌで置換する。 - 特許庁 - Afterwards, a metal film is formed on the surface protecting film 7 including the inside of the opening 8, and the metal film is patterned, thereby forming an anode electrode 9a in contact with the p-type diffusion layer 6 and an outer peripheral electrode 9b in contact with the n-type epitaxial layer 2 exposed in the outer periphery of the chip.
その後、開口部８の内部を含む表面保護膜７上にメタル膜を成膜し、メタル膜をパターニングすることによって、ｐ型拡散層６に接するアノード電極９ａおよびチップの外周部に露出したｎ型エピタキシャル層２に接する外周電極９ｂを形成する。 - 特許庁 - Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern.
第２ＨＣＤ−ＳｉＮ膜９からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜（第３ＴｉＮ膜１３）を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム（構造体パターン）１３ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a thin film solar cell, and its fabricating method, in which the transparent electrode layer in a solar cell formed on one side of a substrate can be patterned without causing any damage on a thin film semiconductor layer and surface efficiency of the solar cell is enhanced while reducing the cost of fabrication process.
基板片面形成型太陽電池における透明電極層のレーザパターニングを薄膜半導体層の損傷なしに可能とし、太陽電池の面積効率の向上および製造プロセスの低コスト化を図った薄膜太陽電池とその製造方法を提供する。 - 特許庁
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