「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 16 17 18 19 20 21 22 23 24 .... 78 79 次へ＞- To provide a method for manufacturing a resist pattern for obtaining a favorable pattern by the double patterning method.
ダブルパターニング法により良好なパターンを得ることができるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To protect the channel region of a semiconductor film against radiation damage when patterning by plasma etching.
プラズマエッチングによりパターニングするとき、半導体膜のチャネル領域が放射ダメージを受けないようにする。 - 特許庁 - The topography measurement device measures topography of at least one mechanical element of the patterning device PD.
トポグラフィー計測デバイスは、パターニング用デバイスPDの少なくとも１つの機械要素のトポグラフィーを計測する。 - 特許庁 - At least one of the patterning supporter and the substrate supporter is moved by the electromagnetic actuator.
パターニング支持体と基板支持体のうちの少なくとも一方が、電磁アクチュエータによって動かされる。 - 特許庁 - Patterning is applied on the first conductive layer in the logical operation circuit area based on the resist layer processed by patterning while the gate electrode of an insulation gate electric field effect transistor is formed in the logical operation circuit area and a dummy layer is formed above the element separating area in the logical operation circuit area based on the stopper layer processed by patterning.
パターニングされたレジスト層に基づいてロジック回路領域内の第１導電層をパターニングし、ロジック回路領域内に絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成し、パターニングされたストッパ層に基づいてロジック回路領域内の素子分離領域の上方にダミーゲート層を形成する。 - 特許庁 - After injecting boron ions 7 into the polysilicon germanium film 6, patterning is performed, and a gate electrode 6a is formed.
ポリシリコンゲルマニウム膜６にボロンイオン７を注入した後、パターニングしてゲート電極６ａを形成する。 - 特許庁 - CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PATTERNING AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE RESIST COMPOSITION
架橋剤、ネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品 - 特許庁 - To provide a patterning method for reducing imperfect patterns of a semiconductor device due to contamination.
本発明は、異物による半導体装置のパターン不良を低減するためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - By patterning the source-drain layer 24, a source region 24a and a drain region 24b are formed.
ソース・ドレイン層２４をパターニングすることにより、ソース領域２４ａおよびドレイン領域２４ｂを形成する。 - 特許庁 - A WSi film is formed on the amorphous Si film 7, and patterning is carried out so that a gate electrode can be formed.
非晶質Ｓｉ膜７上にＷＳｉ膜を形成し、パターンニングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁 - MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
多数個取り配線基板およびその製造方法ならびに配線基板およびその製造方法 - 特許庁 - Next, a mask film 91 is formed on the surface of a substrate 10, and patterning is performed for a gate trench 21.
次に，基板１０の表面にマスク膜９１を形成し，ゲートトレンチ２１用のパターニングを行う。 - 特許庁 - MULTI-LAYER PRINTED WIRING SUBSTRATE, PATTERNING METHOD THEREFOR, AND INSPECTION APPARATUS USING CHECK LAND
多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置 - 特許庁 - To provide a method of processing a substrate, by which in double patterning according to LLE, a hydrophobic treatment can be readily conducted on a peripheral portion of the substrate without dissolving or transubstantiating a first resist pattern before execution of a second patterning processing after formation of the first resist pattern in a first patterning processing.
ＬＬＥによるダブルパターニングにおいて、１回目のパターニング処理により１回目のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニング処理を行う前に、１回目のレジストパターンを溶解又は変質させずに、基板の周縁部に対して容易に疎水化処理を行うことができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a self-assembly nano-structure, and then forming a porous dielectric layer.
自己集合ナノ構造をパターン化しそして多孔性誘電体層を形成する方法を提供する。 - 特許庁 - The patterning device imparts the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.
パターン化デバイスは、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与する。 - 特許庁 - To enable the patterning of a light emitting layer of an organic electroluminescent element with high precision without swelling a printing plate.
印刷版の膨潤がなく、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層の高精細なパターニングを可能とする。 - 特許庁 - To provide a dry etching gas which allows for patterning of a contact hole, or the like, having a high aspect ratio.
高アスペクト比のコンタクトホールなどのパターンを形成することが可能となるドライエッチングガスを提供する。 - 特許庁 - A lithography apparatus comprises an illumination system, patterning means, a substrate table, a projection system, a detector, and a controller.
照射システムと、パターン化手段と、基板テーブルと、投影システムと、検出器と、制御器とから構成される。 - 特許庁 - To provide a lithography device and a method for detecting contamination of a patterning device and removing contaminants.
パターニングデバイスの汚染を検出し、汚染物質を除去するリソグラフィ装置および方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD AND MATERIAL FOR PATTERNING OF POLYMERIZABLE, AMORPHOUS MATRIX WITH ELECTRICALLY ACTIVE MATERIAL DISPOSED THEREIN
電気活性材料が内部に配置された重合性非晶質母材のパターン化方法および材料 - 特許庁 - OBSERVATION METHOD FOR ULTRAVIOLET PHOTOLYSIS PROCESS IN MONOMOLECULAR FILM, CONTROL METHOD FOR SURFACE DECOMPOSITION DEGREE, AND PATTERNING METHOD
単分子膜の紫外線分解過程の観測方法、表面分解度の制御方法及びパターニング方法 - 特許庁 - Another method for epitaxially depositing a silicon layer over the SiGe layer prior to patterning is provided.
パターニングの前にＳｉＧｅ層上にシリコン層をエピタキシャルに堆積する別の方法が提供される。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition and a method of patterning a semiconductor element using the composition.
ネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The 2nd pole part 220 having a track width W20 is formed by a patterning process of photolithography.
トラック幅Ｗ２０の第２のポール部２２０を、フォトリソグラフィによるパターンニング工程によって形成する。 - 特許庁 - By doing this, it becomes possible to perform the typical patterning on a large amount of the cloth P in a good efficiency.
このようにすれば、効率よく大量の布Ｐに定型的な模様付を行うことが可能となる。 - 特許庁 - To provide a lithography projection apparatus which is constructed so as to project patterns from a patterning device to a substrate.
パターニングデバイスから基板へとパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁 - Patterning is performed such that an opening 17 is formed in the gate electrode forming region of the polysilicon film 15.
パターニングは、ポリシリコン膜１５のゲート電極形成領域に開口部１７が形成されるように行う。 - 特許庁 - The patterning of the front electrode layer and the semiconductor layer is executed using a laser emitting infrared ray.
前側電極層および半導体層のパターン加工が、赤外放射を発するレーザによって行われる。 - 特許庁 - In the manufacturing method of optical waveguide, patterning of the core shapes is performed by irradiation with direct laser beams.
コア形状のパターニングを、直接レーザー光の照射により行う光導波路の製造方法である。 - 特許庁 - To provide a method for patterning a front-side electrode layer made of zinc oxide of a photovoltaic module.
光起電モジュールの酸化亜鉛製の前側電極層をパターン加工するための方法を提供する。 - 特許庁 - A light patterning system comprises an illumination system that supplies a beam of radiation having a certain wavelength λ.
光パターニング・システムは、一定の波長λを有する放射ビームを供給する照明系を備える。 - 特許庁 - After patterning is carried out the patterned amorphous silicon films are irradiated with a laser beam in a certain direction so as to turn to poly-crystal silicon films.
パターニング後に、一方向にレーザ光を照射して結晶化し、多結晶シリコン膜を得る。 - 特許庁 - The objective multistage structure, that is, a Fresnel lens is then formed by masking, patterning and etching.
この後、マスキング、パターニング、およびエッチングの各手法を用いて、前記構造すなわちレンズが形成される。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR PATTERNING MASTER DISK FOR NANOIMPRINTING PATTERNED MAGNETIC RECORDING DISK
パターン化された磁気記録ディスクをナノインプリントするためのマスタ・ディスクをパターン化するためのシステム及び方法 - 特許庁 - To provide lithography equipment constituted such that a pattern is transferred on a substrate from a patterning device.
パターニング装置から基板上にパターンを転写するように構成されたリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for forming a pattern for patterning a thin film by an easy low-cost apparatus configuration.
簡易で低コストな装置構成により薄膜をパターニングできるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - The projections 17 formed on the TFT side on the surface of the pixel electrode 12 are formed by patterning a novolac photoresist film.
第１の突起物の側面の、第1の電極の表面に対する接触角は３０°以上である。 - 特許庁 - A resist layer is formed on the whole surfaces of the memory area and the logical operation circuit area while patterning is applied on the resist layer.
メモリ領域とロジック回路領域との全面にレジスト層を形成し、レジスト層をパターニングする。 - 特許庁 - A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.
このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁 - To control an etching speed of a ZnO-based transparent conductive film at a speed suitable for patterning.
ＺｎＯ系透明導電膜のエッチング速度を、パターニングに適した速度に制御することを課題とする。 - 特許庁 - To avoid damaging a magnetoresistive effect element when patterning an electrode lead layer and narrow the effective playback track width.
電極リード層のパターニングの際に磁気抵抗効果素子にダメージを与えることがないようにする。 - 特許庁 - To provide a transfer apparatus which attains high accuracy patterning and allows an apparatus cost to be reduced.
高精度のパターニングが達成できるとともに、装置の低価格化が図れる転写装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a semiconductor film in manufacturing of a transistor array which is used in a display device.
表示デバイスに使用するトランジスタアレイの製造における半導体膜のパターニングを提供すること。 - 特許庁 - LENGTH MEASURING METHOD BY LASER BEAM PROPAGATING THROUGH SOLID, AND METHOD OF EXPOSURE AND PATTERNING BY USING THE SAME LASER BEAM
固体を伝搬するレーザ光による測長方法及びそのレーザ光による露光とパターニング方法 - 特許庁 - To provide an electrode panel for a PDP aiming at fine patterning and reduction of electric resistance, and prevented from defective adhesion between respective layers.
微細パターン化および電気抵抗値の低減化を図り、各層間の密着不良を防止する。 - 特許庁 - To easily fabricate overhanging barriers and to facilitate patterning of cathodes on an organic EL element.
オーバーハング形状を有する隔壁を簡易に製作し、有機ＥＬ素子の陰極のパターニングを容易にする。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an optically anisotropic film with which simple and easy orientation patterning can be realized.
簡便かつ容易な配向パターニングを実現できる光学異方性フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - To provide a touch panel where patterning of a conductive film can be attained without deteriorating transparency and durability.
透明性や耐久性を劣化させることなく導電膜のパターニングが可能なタッチパネルを提供する。 - 特許庁
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