「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 17 18 19 20 21 22 23 24 25 .... 78 79 次へ＞- To provide a thin film patterning apparatus which is capable of performing a patterning process without using a photolithography process and permits simplification of fabricating processes and to provide a method of fabricating color filter array substrate using the thin film patterning apparatus, with respect to the method of fabricating a color filter array substrate provided with an overcoat layer particularly having a flat surface.
本発明は、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To enable to carry out high-speed patterning of a transparent electrode without being accompanied by drainage treatment or the like.
排液処理などを伴うことなく高速で透明電極のパターニングを行うことを可能にする。 - 特許庁 - ETCHING METHOD USING ADVANCED-PATTERNING-FILM IN CAPACITIVELY-COUPLED HIGH-FREQUENCY PLASMA DIELECTRIC ETCHING CHAMBER
容量結合高周波プラズマ誘電体エッチングチャンバにおけるアドバンスドパターニングフィルムを用いたエッチング方法 - 特許庁 - To provide a method of improving a uniformity between elements in a patterning device using a mirror array.
ミラーアレイを用いるパターニングデバイスにおいて要素間の均一性を向上させる方法を提供する。 - 特許庁 - This technique can improve the line-end pattern definition and improve the manufacturability and a patterning process window.
この技術は、配線の端部パターンの形成を改良し、生産性とパターニング工程ウィンドウを改善する。 - 特許庁 - A substrate or a patterning device used for lithography equipment and a lithography device manufacturing method are presented.
リソグラフィ装置に使用する基板またはパターニングデバイス、およびリソグラフィデバイス製造方法が提示される。 - 特許庁 - To provide a slider bar for a thin-film magnetic head capable of suppressing the occurrence of warping, and performing highly accurate patterning.
反りの発生を抑制し、高精度でパターニングできる薄膜磁気ヘッド用スライダバーを提供する。 - 特許庁 - Then, based on these designs, the patterning mask and the isolation-film removing mask are formed realistically.
そして、これら設計に基づいて、現実に、パターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクを形成する。 - 特許庁 - Then, a hole section 15a and a wiring groove 15b are successively subjected to patterning to the second interlayer insulating film 15.
次に、第２の層間絶縁膜１５に孔部１５ａ及び配線溝１５ｂを順次パターニングする。 - 特許庁 - To provide a method of forming an oxide film pattern and a patterning method for a semiconductor device using it.
酸化膜パターンの形成方法及びこれを用いた半導体素子のパターニング方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an improved magnet assembly for use by a support holding a substrate or patterning device.
基板あるいはパターニングデバイスを支持する支持体のための改善された磁石アセンブリを提供すること。 - 特許庁 - To manufacture a low-cost and large-area electroluminescent element allowing accurate patterning and color-coding.
高精度なパターニングおよび塗り分けが可能であり、低コストで大面積の電界発光素子を製造する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning and fabricating poled dielectric microstructures in dielectric materials.
誘電体材料に分極反転誘電体微小構造をパターン化し製造する方法を提供する。 - 特許庁 - The equipment 20 for patterning a functional film comprises a liquid drop ejection head 23, and a laser light irradiation head 24.
機能性膜パターン形成装置２０は、液滴吐出ヘッド２３とレーザ光照射ヘッド２４を備える。 - 特許庁 - To pattern in a stable form of an unexposed part for fine patterning.
より微細なパターニングにおける非露光部分を安定した形状でパターニングすることを可能とすること。 - 特許庁 - The present invention includes a circuit board divided from the multiple patterning circuit board and a module that uses this circuit board.
この多数個取り回路基板から分割された回路基板と、この回路基板を用いたモジュール。 - 特許庁 - To provide a machining method and a machining apparatus that can control a patterning shape, and has superior machining precision.
パターンニング形状を制御でき、かつ、加工精度に優れた加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL LIGHTING
有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子、有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁 - ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL LIGHTING, AND ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE
有機電界発光素子、有機ＥＬ表示装置、有機ＥＬ照明および有機薄膜パターニング用基板 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system IL to provide a beam of radiation and a support structure for supporting a patterning device.
装置は、放射ビームを供給する照明システムと、パターニング・デバイスを支持する支持構造とを含む。 - 特許庁 - The resist film 4 on the side faces 1c, 1d is exposed from the opening 8a to apply patterning to the resist film 4.
開口８ａから側面１ｃ、１ｄ上のレジスト膜４を露光し、レジスト膜４をパターニングする。 - 特許庁 - PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE, SUBSTRATE OF ORGANIC LIGHT-EMITTING DIODE, AND METHOD OF PATTERNING SUBSTRATE
有機発光ダイオード用感光性樹脂組成物、有機発光ダイオード基板及びそのパターン形成方法 - 特許庁 - The halftone phase shift mask 20 is obtained by patterning the halftone phase shift mask blank 10.
さらに、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス１０をパターニング処理してハーフトーン型位相シフトマスク２０を得る。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE OF ORGANIC EL ELEMENT PATTERNING, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC EL ELEMENT, AND ORGANIC EL ELEMENT
有機ＥＬ素子のパターンニング方法及び装置、有機ＥＬ素子の作成方法、並びに、有機ＥＬ素子 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING HARD-TO-ETCH MATERIAL FILM, AND INK JET HEAD USING THE SAME AND ITS MANUFACTURING METHOD
難エッチング材料膜のパターン形成法、また、その膜を用いたインクジェットヘッドおよびその形成法 - 特許庁 - FLUORINE-CONTAINING COMPOUND, FLUORINE-CONTAINING POLYMER, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING SAME
含フッ素化合物、含フッ素高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - TRANSPARENT ELECTRODE AND ITS PATTERNING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME
透明電極及び透明電極のパターニング方法及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁 - Then, a photoresist film 18 is formed on the insulation film 16, and then the photoresist film 18 is subjected to patterning.
続いて、絶縁膜１６上にフォトレジスト膜１８を成膜し、次いでフォトレジスト膜１８をパターニングする。 - 特許庁 - A microcapsule including an etching agent is disposed in a prescribed position on a surface of a substrate and patterning is performed.
基板の表面上の所定部位に、エッチング剤を内包するマイクロカプセルを配してパターニングを行った。 - 特許庁 - Formation of the contour shape and patterning of the electrode films of desired shapes are carried out by laser machining.
輪郭形状形成、及び所望の形状の電極膜のパターン形成をレーザー加工によって行う。 - 特許庁 - The lithographic device includes a lighting system adjusting radiation beams and a support supporting a patterning device.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システム、及びパターニングデバイスを支持する支持体を含む。 - 特許庁 - METAL OXIDE-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, METAL OXIDE-CONTAINING FILM-FORMED SUBSTRATE, AND PATTERNING PROCESS
金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁 - The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern.
パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線のビームにパターンを形成するように構成される。 - 特許庁 - The bank structure 106b is obtained by performing patterning to the 2nd photoresist layer 106a by a back exposure system.
背面露光方式により、第２フォトレジスト層１０６ａをパターニングしてバンク構造１０６ｂにする。 - 特許庁 - An island-like semiconductor film (sub-island) comprising a single island or a plurality of islands is formed by patterning.
アイランドを単数または複数含む島状の半導体膜（サブアイランド）をパターニングによって形成する。 - 特許庁 - To obtain a method for patterning a resist which is capable of forming the patterns of finer semiconductor integrated circuits.
さらに微細な半導体集積回路のパターンを形成することができるレジストのパターニング方法を得る。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, TREATMENT DEVICE FOR PHOTOMASK SUBSTRATE, AND THIN FILM PATTERNING METHOD
フォトマスクの製造方法、パターン転写方法、フォトマスク基板用処理装置、及び薄膜パターニング方法 - 特許庁 - LAMINATE FOR PRINTED WIRING BOARD, PATTERNING METHOD OF MULTILAYER METAL WIRING EMPLOYING IT, AND METAL THIN FILM
プリント配線板用積層体、それを用いた多層金属配線パターン形成方法及び金属薄膜 - 特許庁 - A lithography apparatus comprises an illumination system which adjusts a radiation beam, and a support which supports a patterning device.
リソグラフィ装置が、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを備える。 - 特許庁 - Disconnection of wiring is prevented by patterning the wiring on the surface where no tensile stress is applied.
引っ張り応力のかからない面で配線をパタニングすることで、配線の断線を防ぐことができる。 - 特許庁 - This lithography device comprises a patterning device MA for giving a pattern onto the section of a beam of radiation to form a patterned beam of radiation, a washing unit CU positioned to wash the patterning device MA on that place, and/or a detection unit positioned to detect patterning device contamination on the moment.
リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン化された放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを含み、パターニングデバイスをその場で洗浄するように配置構成された洗浄ユニットおよび／またはパターニングデバイスの汚染物をその場で検出するように配置構成された検出ユニットも含む。 - 特許庁 - Related to the core, a thin plate of a core material (magnetic body) is bonded to the separate substrate through a junction material, for patterning.
コアは別基板に接合材を介してコア材（磁性体）の薄板を付着させて、パターニングする。 - 特許庁 - The target area may be a transparent area of an aperture diaphragm and/or an operation area of a patterning device.
目標エリアは絞りの透過領域及び／またはパターニング用デバイスの動作領域であってもよい。 - 特許庁 - To precisely and easily determine the lighting condition of a reticle in a lithography step of patterning a substrate.
基板をパターニングするリソグラフィ工程におけるレチクルの照明条件を高精度かつ容易に決定する。 - 特許庁 - The lithography apparatus also includes the bending mechanism structured to add a bending torque to the clamped patterning device, and this bending mechanism has a force/torque actuator structured to cause a clamp force added to the patterning device by the support clamp to act on the clamped patterning device with virtually no reduction of the force.
リソグラフィ装置はさらに、クランプされたパターニングデバイスに曲げトルクを加えるように構成された曲げ機構を有し、曲げ機構は支持クランプによってパターニングデバイスに加えられたクランプ力を実質的に減少させることなしにクランプされたパターニングデバイスに作用するよう構成された力／トルクアクチュエータを備える。 - 特許庁 - To obtain a high sensitivity radiation sensitive composition having such a resolution as to enable very fine patterning.
非常に微細なパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度な感放射線性組成物を得る。 - 特許庁 - The patterning device can form patterned radiation beams by providing a pattern to the cross section of radiation beams.
パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができる。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERN TRANSCRIPTION, METHOD OF PATTERNING ON FABRIC, AND SHEET FOR PATTERN TRANSCRIPTION TO BE USED THEREFOR
パターンの写し取り方法、布地へのパターン付け方法、およびそれに用いられるパターン写し取り用シート - 特許庁 - To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
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