「patterning」を含む例文一覧(3921)

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  • Then, the second film is subjected to patterning so as to form an opening in a position corresponding to a fame to be formed.
    次に、形成すべきフレームに対応する位置に開口部が形成されるように、第２の膜がパターニングされる。 - 特許庁
  • Then, a first Al wiring connected to the tungsten plug 48 is formed by vapor depositing and patterning an Al film.
    しかる後、Ａｌ膜を蒸着しパターニングして、タングステンプラグ４８に接続される第１Ａｌ配線を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for patterning a metal foil with high precision without requiring etching.
    エッチングを必要とせず、かつ精度の良いパターンを得ることができる金属箔パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a vapor deposition method in which a high precision patterning is possible by a proximity vapor deposition method using a laser.
    レーザーを用いる近接蒸着法による、高精細なパターニングが可能な蒸着方法を提供すること。 - 特許庁
  • A color filter is formed by forming a light shielding layer on one substrate (101, 102) and by coating and patterning a color layer film (103, 104).
    一方の基板に光遮蔽層を形成し（101,102）、色層膜を塗布しパターニングして（103,104）、カラーフィルタを形成する。 - 特許庁
  • A first gate 12 is formed by patterning a polysilicon film deposited on the major surface of a substrate 1.
    まず、基板１の主面上に堆積したポリシリコン膜をパターニングすることによって第１ゲート１２を形成する。 - 特許庁
  • A SiO_2 film 15 (the insulating film) is formed on the semiconductor film 11, and patterning is applied to the SiO_2 film 15.
    半導体膜１１上にＳｉＯ_２膜１５（絶縁膜）を形成し、このＳｉＯ_２膜１５をパターニングする。 - 特許庁
  • PATTERNING METHOD FOR ULTRATHIN FILM CONTAINING TELLURIUM OXIDE AND ULTRATHIN FILM CONTAINING TELLURIUM OXIDE OBTAINED BY THE METHOD
    テルル酸化物を含む超薄膜のパターニング方法及びこれによって得られたテルル酸化物を含む超薄膜 - 特許庁
  • These alloys are high in acid resistance, so it is hard to cause pattern elongation by sidewall oxidation at patterning.
    これら合金は耐酸化性が高いので、パターニングの際に側壁酸化によるパターン伸長を生じにくい。 - 特許庁
  • ANODE FOR LITHIUM METAL POLYMER SECONDARY BATTERY MADE OF ANODE CURRENT COLLECTOR WITH SURFACE PATTERNING
    表面パターニングされた負極集電体からなるリチウム金属ポリマー二次電池用の負極及びその製造方法 - 特許庁
  • To mutually connect electrodes divided into plural sections without causing poor insulation and luminescence patterning.
    複数に分割された電極間の接続を絶縁不良や発光パターン不良を発生させることなく行う。 - 特許庁
  • Then wiring 33 is obtained by patterning the laminated film of the films 34, 35, and 36.
    その後、チタン膜３４とアルミニウムを含む膜３５、窒化チタン膜３６との積層膜をパターニングして配線３３を得る。 - 特許庁
  • To provide a silicon thin film formation method by the CVD method for eliminating the need for a patterning process after a thin film is formed.
    薄膜形成後のパターニング工程が不要な、ＣＶＤ法によるシリコン薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method of lithography patterning which is capable of correcting defects of conventional techniques.
    従来技術が有していた欠点を改善させることが可能なリソグラフィパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • In addition, the back drum 1 has a plurality of through holes 1A arranged toward the back of the patterning surface X of the rubber part 3.
    ゴム部３の型取り面Ｘの背面方向に向かい設けられた、複数個の貫通孔１Ａを有する。 - 特許庁
  • To provide a method for easily and immediately patterning a polymer material layer on a support, in mounting a micro battery.
    マイクロバッテリー実装に関し、ポリマー材料層を支持部に簡易かつ即座にパターニングする方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive composition for obtaining a resin film with excellent patterning performance, heat resistance or the like.
    パターニング性能および耐熱性等に優れた樹脂膜が得られる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
  • The sticking region 808 is set to be an ink droplet trapping region, for example, a hydrophilic region, by patterning, for example.
    付着先領域８０８は例えばパターニングにより液滴捕捉領域例えば親水性領域としておく。 - 特許庁
  • The lithographic apparatus includes a shutter system constructed and arranged to mask out parts of a patterning device or a substrate from a beam of radiation.
    リソグラフィ装置は、パターニングデバイスもしくは基板の一部を放射ビームからマスクするシャッタシステムを備える。 - 特許庁
  • A dummy pattern 16 is disposed on a periphery of a wiring 15 having an isolated patterning (e.g. a penetrating through hole pattern).
    孤立パターニング（たとえば貫通スルーホールパターン）を含む配線１５の周辺にダミーパターン１６を配置する。 - 特許庁
  • To provide an in-mold patterning transfer film capable of preventing glitter by preventing unevenness from being formed on the surface of a resin molded product.
    樹脂成形品の表面に凹凸が形成されることがないようにしてギラツキを防止することができる。 - 特許庁
  • Thereafter, patterning is applied on the scheduled region of forming a fine inner lead to form the fine inner lead unit 22.
    導体板のファインインナーリード形成予定領域をハーフエッチングして、周辺領域よりも、板厚を薄くする。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method capable of patterning a thin film with high accuracy by a simple method at a low cost.
    簡易で低コストな手法により薄膜を高精度にパターニングできるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
  • The laser irradiation device includes a laser generator 211 for patterning, and a laser generator 212 for preheating.
    本発明に係るレーザ照射装置は，パターニング用レーザ発生器２１１と，予熱用レーザ発生器２１２とを備える。 - 特許庁
  • The present invention provides a patterning device configured to pattern a beam of radiation comprising a controller and an array of stepped mirrors.
    制御部と段差付きミラーのアレイとを備え、放射ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスが用いられる。 - 特許庁
  • A lithographic apparatus includes: an illumination system; a support part configured to support a patterning device; and a projection system.
    照明システム、パターニング装置を支持するように構成された支持部、及び投影システムを備えるリソグラフィ装置。 - 特許庁
  • To provide a box which is capable of protecting a lithography patterning device against external contaminants and making its throughput optimal.
    外部汚染から保護し、装置スループットが最適になるリソグラフィ・パターニング装置を搬送するボックスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a lithography apparatus comprising an illumination system, a patterning system, a projection system, and a combining system.
    照明システムと、パターン形成システムと、投影システムと、組合せシステムとを備えるリソグラフィ装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a laser patterning device and a method which can narrow a scribe width and narrow a scribe pitch.
    スクライブ幅の狭幅化とスクライブピッチの狭ピッチ化を可能にしたレーザパターニング装置および方法を提供する。 - 特許庁
  • The patterning device is configured to pattern a beam of radiation according to a desired pattern.
    このパターン形成装置は、所望のパターンに従って放射ビームにパターンを形成するように構成されている。 - 特許庁
  • Patterning is performed on the auxiliary floating gate electrode to form a floating gate electrode 130a on the upper part of the active region.
    予備フローティングゲート電極をパターニングして活性領域の上部にフローティングゲート電極130aを形成する。 - 特許庁
  • An applicator, such as a humidifier is provided to provide molecules, such as water molecules, to clamp area of the patterning device.
    給湿器などの供給器が設けられて、水分子などの分子をパターニングデバイスのクランプ領域に提供する。 - 特許庁
  • First pattern layers 14a are formed above a worked layer 13 on a semiconductor substrate by patterning resist.
    半導体基体上の被加工層１３の上に、レジストをパターニングして第１のパターン層１４ａを形成する。 - 特許庁
  • DOUBLE PATTERNING OPTIMIZATION METHOD AND SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE
    ダブルパターニング最適化方法及びシステム、パターン形成方法及びシステム、露光装置、並びにデバイス製造方法 - 特許庁
  • Further, using the copper powder obtained in this way, an electric circuit is formed on an electric circuit board by patterning.
    また、このようにして得られた銅粉末を用いて、電気回路基板上に電気回路をパターンニング形成する。 - 特許庁
  • METHOD FOR FORMING SURFACE ENERGY DIFFERENCE BANK, PATTERNING METHOD, BANK STRUCTURE, ELECTRONIC CIRCUIT, ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
    表面エネルギ差バンクの形成方法、パターンの形成方法、バンク構造、電子回路、電子デバイス、および電子機器 - 特許庁
  • To provide a pattern-processing machine capable of patterning a typical pattern simply, rapidly and in a large amount.
    定型的な模様を簡単にかつ高速でしかも大量に付することができる模様付加工機を提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR PRODUCING PHOTOMASK, METHOD FOR PATTERNING LAYER OR LAYER STACK, AND RESIST STACK ON MASK SUBSTRATE
    フォトマスクを製造する方法、層叉は層積層体をパターニングする方法、及びマスク基板上のレジスト積層体 - 特許庁
  • To improve a petterning precision when patterning an electrode for display like a pixel electrode in an electro-optical device.
    電気光学装置における画素電極等の表示用電極をパターニングする際に、そのパターニング精度を高める。 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING MOLD FOR PATTERNING LOWER CLADDING LAYER OF WAVELENGTH FILTER AND OF MANUFACTURING WAVEGUIDE-TYPE WAVELENGTH FILTER USING THE MOLD
    波長フィルターの下部クラッド層のパターン作製用モールド及び導波管型波長フィルターの製造方法（ＭＥＴＨＯＤＯＦＭＡＮＵＦＡＣＴＵＲＩＮＧＭＯＬＤＦＯＲＰＡＴＴＥＲＮＩＮＧＬＯＷＥＲＣＬＡＤＤＩＮＧＬＡＹＥＲＯＦＷＡＶＥＬＥＮＧＴＨＦＩＬＴＥＲＡＮＤＯＦＭＡＮＵＦＡＣＴＵＲＩＮＧＷＡＶＥＧＵＩＤＥ−ＴＹＰＥＷＡＶＥＬＥＮＧＴＨＦＩＬＴＥＲＵＳＩＮＧＴＨＥＭＯＬＤ） - 特許庁
  • Because a pattern mask used at the electroless plating is not the monomolecular film itself, stable and fine patterning can be carried out.
    無電解めっき時のパターンマスクが、単分子膜そのものではないために安定で微細なパターニングが可能となる。 - 特許庁
  • The patterning device includes a first pattern on a first region and a second pattern on a second region.
    パターニングデバイスは、第１の領域の上の第１のパターンおよび第２の領域の上の第２のパターンを含む。 - 特許庁
  • A patterning of the organic semiconductor layer is effectively carried out thereby without damaging any substrate and organic semiconductor substance.
    これにより、基板及び有機半導体物質の損傷なしに効果的に有機半導体層をパターニングできる。 - 特許庁
  • The copper foil is subjected to patterning, inner leads A1 and B2 are formed, and electroless tin plating is formed on a surface.
    銅箔をパターニングし、インナーリードＡ１及びインナーリードＢ２を形成し、表面に無電解スズメッキを形成してある。 - 特許庁
  • METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL AGGREGATE OBTAINED BY PATTERNING ORIENTED CARBON NANOTUBE AND FIELD EMISSION TYPE COLD CATHODE
    配向性カーボンナノチューブのパターン化された柱形状集合体および電界放出型冷陰極の製造方法 - 特許庁
  • To obtain a high sensitivity positive type radiation sensitive composition having such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.
    サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁
  • The sides 30a, 30b of the guard ring 30 are subjected to anisotropic wet etching after patterning by plasma etching.
    ガードリング３０の側面３０ａ，３０ｂは、プラズマエッチングによってパターニングされた後、異方性ウエットエッチングされている。 - 特許庁
  • Furthermore, the lower layer resist film 2 is subjected to patterning by dry etching by using the upper layer silylation pattern 6 as a mask.
    さらに、この上層シリル化パターン６をマスクとしたドライエッチング処理により、下層レジスト膜２をパターニングする。 - 特許庁
  • These two have completely different patterning but no difference is seen in their internal morphology so it seems that they are considered the same.
    この２つは模様が全然違うのだが、内部形態に差が見られず同一とみなされているようです。 - Tanaka Corpus
  • These two have completely different patterning but no difference is seen in their internal morphology so it seems that they are considered the same.
    この２つは模様が全然違うのだが、内部形態に差が見られず同一とみなされているようです。 - Tatoeba例文
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