「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 21 22 23 24 25 26 27 28 29 .... 78 79 次へ＞- To obtain a fine pattern having an excellent form by preventing the occurrence of a pattern defect by a double patterning method.
ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - To realize fine patterning and reduction of ON resistance in an MOSFET for high frequency amplification having a drain offset region.
ドレインオフセット領域を有する高周波増幅用ＭＯＳＦＥＴにおいて、微細化およびオン抵抗低減を図る。 - 特許庁 - To provide a developing apparatus and a developing method which can improve the patterning precision of a resist development and have high reliability.
レジストの現像のパターニング精度を向上させ、信頼性の高い現像装置及び現像方法を提供する。 - 特許庁 - Contact holes 103 to 106 are obtained by exposing the film through the first light transmitting part 101 of a photomask 100 and performing patterning.
フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁 - RED CONVERSION FILTER, ITS PATTERNING METHOD, MULTI-COLOR CONVERSION FILTER CONTAINING THE RED CONVERSION FILTER AND ORGANIC EL DISPLAY
赤色変換フィルタおよびそのパターニング方法、該赤色変換フィルタを含む多色変換フィルタおよび有機ＥＬディスプレイ - 特許庁 - Patterning at the 1st stage determines an n-channel well region 34 and the end of an opposite gate electrode 39.
第１段階目のパターニングによりＮ型ウェル領域３４側と反対側のゲート電極３９端が規定される。 - 特許庁 - To simplify a patterning process while improving the level of pattern precision of an organic semiconductor layer.
本発明によれば、有機半導体層のパターン精密度を改善しながら、パターニング工程を単純化することができる。 - 特許庁 - Moreover, patterning of the core electrode 13 is applied using a non-etching means such as screen printing, inkjet printing and laser beam machining.
また、コア電極１３を、スクリーン印刷やインクジェット印刷やレーザ加工等の非エッチング手段を用いてパターニングする。 - 特許庁 - To provide a method for efficiently manufacturing a pattern-formed body high-precision patterning.
本発明は、高精細なパターニングが可能なパターン形成体の効率的な製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To provide a resist-modifying composition suitably used in a pattern forming process for enabling a double patterning process.
ダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法に好適に用いられるレジスト変性用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a lithographic apparatus with reduced overlay errors resulting from higher-order distortions of a patterning device.
パターニングデバイスの高次歪みの結果として生じるオーバーレイエラーが低減されたリソグラフィ装置を提供することが望ましい。 - 特許庁 - In this way, comparatively thin substrates are handled in the subsequent patterning, electroplating, and other processes.
このようにして、後続のパターン化プロセスおよび電気めっきプロセス等において、比較的薄い基材を操作することができる。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for patterning a molding plate, capable of clearly forming a deeply engraving style uneven pattern.
深彫り調の凹凸模様を鮮明に形成することができる成形板の模様付け方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - When a two-layer gate electrode is formed by patterning the films, a side etching part is formed only on the upper layer metal thin film 6.
これらをパターニングして２層ゲート電極を形成するとき、上層金属薄膜６のみサイドエッチング部を形成する。 - 特許庁 - To suppress failure in patterning in a resist layer as much as possible in a method for manufacturing a chip size package type semiconductor device.
チップサイズパッケージ型の半導体装置の製造方法において、レジスト層のパターニングの不良を極力抑止する。 - 特許庁 - To obtain a photosensitive paste with which patterning with a high aspect ratio and high precision can be attained and in which peeling is not caused in baking.
高アスペクト比かつ高精度のパターン加工が可能であり、焼成時の剥離のない感光性ペーストを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of patterning a porous thin film which is formed by depositing a particulate material.
粒子状材料を堆積することによって形成された多孔性薄膜を効率良くパターニングする方法を提供する。 - 特許庁 - Contact holes 103 to 106 are formed by executing patterning by exposure through a first translucent part 101 of a photo mask 100.
フォトマスク１００の第１の透光部１０１を通して露光してパターニングしてコンタクトホール１０３〜１０６を得る。 - 特許庁 - This micro-patterning culture substrate comprises a cell culture substrate 2 and a water-soluble photocurable polymer 3, patterned on the cell culture substrate 2.
細胞培養基材２と、細胞培養基材２上にパターニングされた水溶性光硬化性ポリマー３とを備えた。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a laminated structure in which good patterning can be made in a superior form by preventing side etching.
サイドエッチングを防止して良好な形状にパターニングすることができる積層構造の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system that provides a beam of radiation and a support structure that supports a patterning structure.
該リソグラフィ装置は放射線のビームを供給する照明システムと、パターニング構造を支持する支持構造を配備する。 - 特許庁 - To obtain a positive type radiation sensitive composition having high sensitivity and such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁 - A silicon oxide layer 4 is formed on a polysilicon layer 3 in a step (b), and the patterning of the silicon oxide layer 4 is carried out in a step (c).
ポリシリコン層３上に酸化シリコン層４を形成し（図１（ｂ））、酸化シリコン層４をパターニングする（図１（ｃ））。 - 特許庁 - When a first patterning is performed, the position of the wafer W on a hot plate is detected in conducting after-exposure baking (S2).
１回目のパターニングにおいて、露光後ベークが行われる際に、熱板上のウェハＷの位置を検出する（Ｓ２）。 - 特許庁 - To provide a vertical cavity surface emission laser (VCSEL) which uses mode control and is formed by selective patterning of an upper side mesa structure.
上側メサ構造体の選択的パターニングにより形成された、モード制御を伴うＶＣＳＥＬを提供すること。 - 特許庁 - PATTERN AND PATTERNING METHOD, DEVICE AND ITS FABRICATING PROCESS, ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTRONIC APPARATUS, AND PROCESS FOR PRODUCING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
パターンとその形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PATTERNING ON LIGHT-SENSITIVE SURFACE BY USING MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM HAVING SPATIAL LIGHT MODULATOR
空間光変調器を有するマスクレスリソグラフィシステムを用いて光感応性表面にパターンをプリントする方法および装置 - 特許庁 - PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF PATTERNING THIN FILM USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL USING THE SAME
フォトレジスト組成物、これを利用した薄膜パターニング方法及びこれを利用した液晶表示パネルの製造方法 - 特許庁 - SILICON-CONTAINING FILM-FORMING COMPOSITION, SILICON-CONTAINING FILM, SILICON-CONTAINING FILM-FORMING SUBSTRATE AND PATTERNING METHOD USING THE SAME
ケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - On a semiconductor layer 130, gate electrodes 142a-142c are formed by patterning an electrode material formed as a film on the semiconductor layer 130.
半導体層１３０上に成膜した電極材をパターニングしてゲート電極１４２ａ〜１４２ｃを形成する。 - 特許庁 - METHOD OF PATTERNING CATALYST LAYER FOR SYNTHESIS OF CARBON NANOTUBE AND METHOD OF FABRICATING FIELD EMISSION DEVICE USING THE METHOD
炭素ナノチューブの合成のための触媒層のパターニング方法及びそれを利用した電界放出素子の製造方法 - 特許庁 - Nickel layers 4 are formed by electroforming using a chromium film layer 2 being exposed by the patterning of resists 3 as an electrode (c).
レジスト３のパターニングにより露出したクロム膜層２を電極として、電鋳によりニッケル層４を形成する（ｃ）。 - 特許庁 - In patterning the semiconductor layer, the power of the laser is reduced to prevent the front electrode layer from being damaged.
半導体層のパターン加工の際に、レーザの出力が、前側電極層を傷めることがないように小さくされる。 - 特許庁 - To provide a micro-patterning culture substrate which can micro-pattern cells using a simple method, and to provide a method for producing the same.
簡便な方法で細胞のマイクロパターニングが可能なマイクロパターニング培養基板及びその作成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning an insulating layer, the insulating layer manufactured by the method and a display element comprising the insulating layer.
絶縁層のパターニング方法、前記方法によって製造された絶縁層及びそれを含む表示素子を提供する。 - 特許庁 - A cooling means (4) is arranged inside the patterning roll (3) which is provided near the ejection port of the mold for extrusion molding.
押出成形用金型の吐出口付近に設けられた模様付けロール（３）の内部に冷却手段（４）が配設される。 - 特許庁 - Further, the need for patterning is eliminated unlike metal such as aluminum, so advantage of easy manufacture is obtained.
また、アルミニウム等の金属とは異なり、パターニングの必要も無いため、容易に製造することができるという利点もある。 - 特許庁 - To enhance a residual color rate after developing processing, and to restrain a shape from being changed caused by thermal sagging in accompaniment to heat treatment after patterning.
現像処理後の残色率を高め、パターニング後の熱処理に伴なう熱ダレによる形状変化を抑制する。 - 特許庁 - The method carries out a patterning by forming a low-resistance metal film 5 and a low-dielectric constant film 7 and then dry-etching using a resist 9.
低抵抗金属膜５、低誘電率膜７を成膜した後、レジスト９を用いてドライエッチングし、パターニングする。 - 特許庁 - To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.
サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁 - This system comprises a device for patterning, a projection stem, a controller of the substrate position, and a part for compensating the inflation of a substrate position base.
このシステムは、パターニング用デバイスと、投影系と、基板位置コントローラと、基板位置ベースの膨張補償部と、を備える。 - 特許庁 - Further, additional processes and a novel poling setup for improving and implementing the patterning and fabrication method are also disclosed.
更に、本パターン化−製造方法を改良し実施するための追加のプロセス及び新規なポーリングセットアップを開示する。 - 特許庁 - And since the warping of the resin substrate can be prevented, there is a benefit in performing the succeeding processes such as patterning of the metal film or the like.
また、樹脂基板の反りが防止されるので、金属膜のパターニングなど後の工程を行う上でメリットがある。 - 特許庁 - The SiGe layer is then allowed to contact and couple to an insulator on a second substrate for patterning and displacement.
ＳｉＧｅ層は、その後、第２の基板上の絶縁体に接触結合することによってパターニングされ、転位される。 - 特許庁 - Then, a line-shaped conductive layer pattern 122 extending in a first direction is formed by patterning the conductive layer 120.
次に、導電層１２０をパターニングして第１方向に延長する線形の導電層パターン１２２を形成する。 - 特許庁 - COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE HAVING THE SAME
着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a composite substrate capable of patterning a thin film of a functional material substrate without etching.
機能性材料基板の薄膜をエッチングすることなくパターニングできる複合基板の製造方法の提供を図る。 - 特許庁 - Subsequently, a resist film is formed on the reflection preventing film and, thereafter, a resist mask 160 is formed through patterning by photolithography.
次に、反射防止膜上に、レジスト膜を形成した後、フォトリソグラフィによりパターニングして、レジストマスク１６０を形成する。 - 特許庁 - Precise patterning of the electrode films and machining of the contour shape of the sensor vibrator are carried out in sequence or at the same time.
また、電極膜の精密なパターン形成とセンサ振動体の輪郭形状加工を順次または同時に行う。 - 特許庁 - To provide a new patterned warp knitted fabric by carrying out patterning by knitting on a warp knitted fabric having bulkiness.
嵩高性を保有させた経編地に編成による柄出しを行って、斬新な柄出しの経編地を提供すること。 - 特許庁
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