「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 57 58 59 60 61 62 63 64 65 .... 78 79 次へ＞- An emitter lead-out electrode 10a, to be connected to a base layer, is formed by forming a second silicon material layer on an insulation film 8 with a connection hole 9 formed on the insulation film 8 on a base layer 7 in a state of embedding, and patterning it.
ベース層７上の絶縁膜８に形成された接続孔９を埋め込む状態で、絶縁膜８上に第２のシリコン系材料層を形成し、これをパターンニングしてベース層に接続されるエミッタ取り出し電極１０ａを形成する。 - 特許庁 - To provide a mask for vapor deposition, which can cope with highly precise patterning by correcting nonuniformity such as a temperature change and a temperature distribution due to an effect of radiant heat, in order to remove the adverse effect of the radiant heat on pattern location accuracy.
蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除すべく、その輻射熱の影響による温度変化や温度分布等の不均一化を是正して、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁 - The phase shift mask is formed by scanning an alignment groove with an electron beam, the groove patterned in a halftone film by using an alignment mark for a photomask, and then patterning a light shielding film by exposure to an electron beam to remove the scanning track.
フォトマスク用アライメントマークを用いてハーフトーン膜にパターニングされたアライメント用溝部を電子ビームによりスキャンした後、スキャン跡を除去するように電子ビーム露光を用いて遮光膜をパターニングすることにより位相シフトマスクを形成する。 - 特許庁 - A device like this is provided by performing ion-implantation, for example of boron, with an amorphous silicon film 3, and then patterning to form island-like semiconductor films 4a and 4b, and selectively implanting, for example, boron or phosphorous into either of them.
このような装置は、非結晶シリコン膜３に例えばボロンのイオン注入を行った後、パターニングして島状の半導体膜４ａ、４ｂを形成し、いずれか一方に選択的に例えばボロン又はリンを注入することで得ることができる。 - 特許庁 - To provide a fluorene-containing resin which is a thermosetting or radiation curing functional epoxy resin, having a high hardness of cured material, heat resistance and electric characteristics in high levels and a low contraction rate on curing, and excellent in patterning property.
熱硬化性あるいは放射線硬化性の機能性エポキシ樹脂であって、その硬化物が高硬度であり、高いレベルでの耐熱性および電気特性を有し、硬化時の収縮率が低く、パターニング性に優れた樹脂を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a flexible type of element substrate for liquid crystal display device capable of patterning and forming a columnar spacer which has sufficient adhesiveness for a part corresponding to a black matrix according to photolithography without generating any malfunction.
何ら不具合が発生することなく、フォトリソグラフィに基づいてブラックマトリクスに対応する部分に十分な接着性が得られる柱状スペーサをパターン化して形成できるフレキシブルタイプの液晶表示装置用素子基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a process before isolation of the gate electrodes 10n, 10p by patterning gate electrode material, thermal treatment of high temperature of at least 700°C is made not to perform, so that the interdiffusion of dopant in a process before gate electrode formation is prevented.
また、ゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１０ｎ、１０ｐを分離する以前の工程では、７００℃以上の高温の熱処理を行わないようにすることで、ゲート電極形成前の工程における不純物の相互拡散を防止する。 - 特許庁 - The seal part 130 for charging liquid crystal between a TFT array substrate 110 and a counter substrate 120 while holding the substrates at predetermined intervals is formed by using an on-chip spacer 131 which is formed to a given height by using patterning by photolithography.
ＴＦＴアレイ基板１１０と対向基板１２０との間を所定の間隔に維持しその基板間に液晶を封止するシール部１３０を、フォトリソグラフィによるパターニングを用いて所定の高さに形成されたオンチップスペーサ１３１で形成する。 - 特許庁 - To provide a composition with less waveguide loss against a light having a wavelength ranging from visible rays to near infrared rays, and excellent in crack resistance and with excellent patterning property when applying radiation, and to provide an optical waveguide composed of the composition.
可視域から近赤外域に亘る広範囲の波長を有する光について、導波路損失が少なく、しかも耐クラック性や、放射線照射によるパターニング性等に優れた組成物、及び該組成物からなる光導波路を提供する。 - 特許庁 - Hereby, as in a structure in which a Si layer, a silicon germanium layer, and a Si layer are stacked sequentially, when the silicon germanium layer is introduced as an intermediate layer, it is possible to pattern only the silicon germanium layer without patterning the upper layer or the lower layer.
これにより、Ｓｉ層／シリコンゲルマニウム層／Ｓｉ層が順次積層された構造のようにシリコンゲルマニウム層が中間層として導入された時、上部層や下部層のパターニングなしにシリコンゲルマニウム層のみを選択的にパターニングできる。 - 特許庁 - To provide a partial graining method capable of forming gloss parts and grained pattern parts partially with excellent adhesion by performing easily and intentionally controlled patterning.
容易に且つ意図的に制御した模様付けを行って部分的に光沢部分とシボ模様部分とを形成することができ、密着性にも優れたものとすることができる部分的シボ模様付け方法及び部分的シボ模様付け化材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied.
多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method for highly accurately performing patterning when performing pattern-forming by using a flexible substrate, and to provided an electronic element and an organic electroluminescent element each having a pattern-formed layer using the method.
可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁 - To provide an organic EL element with a barrier rib, capable of accurately patterning an organic layer such as a light emitting layer using a coating system, and capable of preventing disconnection of an electric wire, and also to provide a method of manufacturing the same.
本発明は、隔壁を有し、塗布方式により発光層などの有機層を精度良くパターニングすることが可能であり、電極の断線を防ぐことが可能な有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - Adjacent buried-back films 42 and 43 after the patterning of the magnetic multilayer film 14 is deposited by a series of manufacturing processes comprising a deposition step of a first stage, a step for etching back the deposited film and a deposition step of a second stage.
磁性多層膜１４のパターン加工後の隣接する埋め戻し膜４２，４３の堆積を，第１段階の堆積工程と，続けて堆積した膜をエッチバックする工程と，第２段階の堆積工程からなる一連の製造プロセスによって形成する。 - 特許庁 - To provide a display, in which even when pitch between wiring are made small by high definition, area of a terminal connected to an IC driver and the prescribed area for a contact hole in the terminal can be secured, and in which patterning of wiring can be performed.
高精細化によって配線間のピッチが小さくなった場合であっても、ＩＣドライバと接続する端子の面積、および端子におけるコンタクトホールのための所定の面積を確保でき、配線のパターニングを可能とした表示装置の提供。 - 特許庁 - To provide a printing plate capable of achieving excellent display characteristics free from printing failures such as a color mixture during patterning of an organic luminous layer of an organic electroluminescent element, and to provide an organic electroluminescent element.
有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光層をパターニング形成する場合において、混色等の印刷不良がなく、良好な表示特性を実現可能な印刷版および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的とする - 特許庁 - The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 electrically connected to the light emitting unit 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated in the light emitting unit 4.
第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁 - To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.
有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The width of the cores 2a, 3a are each controlled by patterning a silicon layer, i.e., a semiconductor layer formed on one surface of a substrate 1, and are designed so that both side surfaces of the first core 2a and those of the second core 3a continue smoothly.
各コア２ａ，３ａは、基板１の一表面側に形成された半導体層たるシリコン層をパターニングすることにより幅寸法が規定されて第１のコア２ａの両側面と第２のコア３ａの両側面とがそれぞれ滑らかに連続する。 - 特許庁 - To provide a polyimide resin-containing negative photosensitive resin composition which unnecessitates the use of an organic solvent as a developer and can be developed with only an aqueous alkali solution, and to provide a reaction development patterning method using the photosensitive resin composition.
現像液として有機溶媒の使用を不要とし、アルカリ水溶液のみにより現像可能なポリイミド樹脂含有ネガ型感光性樹脂組成物および該感光性樹脂組成物を使用する反応現像画像形成法を提供する。 - 特許庁 - The patterning process includes a first etching process for etching the processed film in a first etching condition and a second etching process for etching further the processed film in a second etching condition different from the first etching condition.
このパターニング工程は、第１のエッチング条件で前記被処理膜のエッチングを行なう第１エッチング工程、および、第１のエッチング条件とは異なる第２エッチング条件で前記被処理膜のエッチングを更に行なう第２エッチング工程を含む。 - 特許庁 - To provide a high registration mask substrate, an exposure device and a patterning method using them capable of accurately measuring the deformation degree of the mask substrate by providing a detecting means for detecting the deformation degree of the mask substrate on the mask substrate.
マスク基板上にマスク基板の変形度を検知する検知手段を設けたことにより、正確なマスク基板の変形度が測定でき、合わせ精度の高いマスク基板と露光装置およびそれを用いたパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁 - Inspection electrodes 31a are formed on the through-holes 22 by carrying out electrolytic plating by using the conductive layer 12 for a plating electrode, and a wiring layer 12a is formed by peeling off the insulation sheet 21 and by applying a patterning process to the conductive layer 12 100 to provide the inspection table.
導体層１２をめっき電極にして、電解めっきを行い、貫通孔２２に検査電極３１ａを形成し、絶縁シート２１を剥離して、導体層１２をパターニング処理して配線層１２ａを形成し、検査治具１００を得る。 - 特許庁 - To provide a conductive patterning composition having photosensitivity which can be patterned by a photolithographic method and which can develop the conductivity by heat treatment at a relatively low temperature and to provide a method for manufacturing a conductive pattern film by using the composition.
フォトリソグラフィー法によりパターニングすることができる感光性を有し、かつ比較的低温の加熱処理で導電性を発現させることができる導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法を得る。 - 特許庁 - To provide an ink jet printer capable of highly reliably printing or patterning, by preventing occurrence of nozzle plugging due to evaporation of a solvent when using an ink containing a volatile solvent such as a water-based ink or a solvent-based ink.
本発明は、水性インクや溶剤インク等、揮発する溶媒の入ったインクを用いる場合の、溶媒の蒸発によるノズル詰まりの発生を防止し、高信頼なプリント、或いはパターニングを行う事の出来るインクジェットプリンタを提供する事を課題とする。 - 特許庁 - The ink channel has an ink channel 11 which supplies the recording head 1 with ink ejected therefrom for patterning, and an ink channel 12 used for measuring the quantity of ink ejected from the recording head 1.
インク流路は、パターン形成時に記録ヘッド１から吐出するインクを記録ヘッド１に供給するパターン形成用インク流路１１と、記録ヘッド１から吐出する吐出インク量の測定に供される測定用インク流路１２とを有する。 - 特許庁 - Then the scanning portion of each laser beam is decided, so that the portion may be irradiated twice with laser beams having different scanning directions in at least a portion obtained by patterning and the semiconductor film is partially crystallized so that the scanning portions may be hit by the beam spots.
そして、少なくともパターニングすることで得られる部分に、走査方向の異なるレーザー光を２回照射するように、各レーザー光の走査部分を定め、該走査部分にビームスポットがあたるように、半導体膜を部分的に結晶化する。 - 特許庁 - To manufacture a plate for forming an oil film by using a rigid material and to constitute the whole of an apparatus for applying patterning films with a rigid material so as to enhance the durability and to continuously form various oil masking patterns stably.
オイル膜を形成するためのプレートをリジッドな素材で作製することを可能にし、パターニング膜塗布装置を全てリジッドなもので構成することにより、耐久性を向上させ、安定して多種類のオイルマスキングパターンを連続して形成させる。 - 特許庁 - The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.
方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁 - The hologram exposure device 100 is used for manufacturing at least one substrate 33 and the oblong multiple patterning hologram optical element including a plurality of holograms 13 arranged in an array in the longitudinal direction on the substrate 33.
本発明のホログラム露光装置１００は、少なくとも一つの基材３３と、この基材３３上に一列に縦方向に並んで配置された複数のホログラム１３とを含む細長状の多面付けホログラム光学素子１５を製造するために用いられる。 - 特許庁 - Then, the array substrate is manufactured by performing the patterning of a transparent conductive film 13 having the same pattern as that of the pixel electrode 8 with the resist pattern 13 as a mask, ion-irradiating the transparent conductive film 10 and forming the transparent conductive pattern 13.
そして、前記レジストパターン１１をマスクとして、前記透明導電膜１０にイオン照射することによりパターニングを行い、前記画素電極８と同じパターンの透明導電パターン１３を形成することによりアレイ基板が製造できる。 - 特許庁 - To prevent needless grooves from being formed on the surface of a substrate and to prevent needless cavities from being generated in an imbedded oxide film by covering the exposed edge region of the imbedded oxide film formed by patterning with a nitride film.
パターン形成した埋込み酸化膜のエッジ領域を窒化膜にて覆うことにより露出させず、これにより基板本体の表面に不要な凹溝が形成されたり、或いは埋込み酸化膜に不要な空洞が形成されるのを防止する。 - 特許庁 - The ink is stably formed on the resin letterpress printing plate 104 from an anilox roll 101, and therefore, the ink can be uniformly supplied to an anilox roll 101 with a doctor roll 102 by supplying the ink selectively to a desired patterning effective area.
アニロックスロール１０１から樹脂凸版１０４にインキを安定形成するために、所望のパターニング有効領域に選択的にインキ供給することで、ドクターロール１０２を用いてアニロックスロール１０１に均一にインキを供給することが可能となる。 - 特許庁 - Finally, a TFT(thin-film transistor) is manufactured by forming an island-like silicon film by performing patterning through the use of the crystalline silicon film 304 as an active layer and forming a gate electrode on the island-like silicon film, and then implanting an N-type impurity into the crystalline island-like silicon film by an ion doping method.
この結晶性珪素膜を活性層とし、パターニングし島上珪素膜を作製しこの上にゲート電極をつけ、前記結晶性を有する島状珪素膜にイオンドーピング法でN型不純物をいれＴＦＴを作製した。 - 特許庁 - The transmission information printed at the lower part of the receipt 3 and to be displayed after release of the receipt is formed by skipping a printing process to a base material sheet 10 by patterning of an adhesive layer 7 to be used for pasting the receipt.
本発明は、受領票３下部に記載された受領票剥離後に表示される伝達情報を、受領票貼り付けに使用する接着層７をパターニングすることにより、基材シート１０への印刷工程を省略して形成する。 - 特許庁 - Protrusion layers 12 each of which is to be a portion of a spacer are formed on a color filter layer 11 by patterning the translucent material disposed on the color filter layer 11 while leaving the translucent material 11E disposed in the insides of the aperture parts HR, HG and HB.
そして、開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢ内に配置された透光性材料１１Ｅを残しつつ、カラーフィルタ１１上に配置された透光性材料をパターニングして、このカラーフィルタ１１上にスペーサの一部となる突起層１２を形成する。 - 特許庁 - After the patterning, a side wall 305 is formed on the side surface of the core material film so that the side surfaces of the removal scheduled portion and the residual portion are covered by the side wall, and the interval of the predetermined distance between the residual portion and the scheduled portion is blocked by the side wall.
パターニングの後に芯材膜の側面に側壁305を形成して除去予定部分および残存部分の側面を側壁で覆うとともに残存部分と除去予定部分との間の所定距離の間隙を側壁で閉塞する。 - 特許庁 - Paints 4, 5 are sprayed on the washing place molded from FRP comprising SMC in a granular state under a low atomizing pressure to apply a patterning coating to the washing place and the coated washing place is coated with a transparent layer to which resin beads 6 are added to manufacture the patterned washing place.
ＳＭＣからなるＦＲＰの洗い場において、少なくとも霧化圧を低下させ塗料４、５を粒子状に噴霧することにより模様塗装を施し、樹脂ビーズ６を添加した透明層でコートして模様付き洗い場とする。 - 特許庁 - By a sample which is determined as a superior product by a destruction inspection, the standard value of a step height of a projection part of a embedding formed film 49 in correspondence to a groove width L1 and a depth D of a monitor patterning groove 42a and a film thickness t of the embedding formed film 49 is set.
破壊検査により良品と判定された試料により、モニタパターン用の溝４２ａの溝幅Ｌ_1 ，深さＤと埋め込み成膜４９の膜厚ｔとに応じた埋め込み成膜４９凸部のステップ高さを標準値を設定する。 - 特許庁 - In producing processes for the electrode substrate including a patterning process for the transparent conductive film after etching treatment for a transparent conductive laminate, the transparent conductive film is crystallized after an etching treatment, instead of before the etching treatment.
透明導電積層体をエッチング処理して該透明導電膜をパターニングする工程を含む電極基板の製造方法において、エッチング処理以前は透明導電膜を結晶化させず、エッチング処理後に透明導電膜を結晶化させる。 - 特許庁 - At the time of exposing a drain electrode constituting the laminate structure of a metallic film in a lower layer and an aluminum film in an upper layer, the exposure of only a partial region is changed, a region whose resist thickness is thinner than the other region is formed, then patterning is carried out as usual.
下層の金属膜と上層のアルミ膜の積層構造をなすドレイン電極の露光時に一部領域のみ露光量を変えることによりレジスト厚が他よりも薄い領域を形成した後に、通常どおりのパターニングを行う。 - 特許庁 - To provide an accurate and efficient method of manufacturing a resin sheet with color filter by which the position of patterning is prevented from deviating in lamination of the color filter and to provide a resin sheet with color filter.
カラーフィルター付き樹脂シートの製造方法において、カラーフィルターを積層する際にパターニングの位置ずれを防止し精度よく効率的なカラーフィルター付き樹脂シートの製造方法、およびカラーフィルター付き樹脂シートを提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring substrate effectively suppressed in occurrence of warpage and penetration of water into space between insulating layers and a method of manufacturing the same, and to provide a wiring substrate suppressed in occurrence of warpage and a method of manufacturing the same.
反りの発生および絶縁層の層間への水分の浸入が効果的に抑制された多数個取り配線基板およびその製造方法、ならびに反りの発生が抑制された配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste capable of ensuring excellent patterning property of lines without the effects of pattern forming conditions and even under severe developing conditions including a long developing time or the like, and to provide a baked object pattern formed by using the photosensitive paste.
パターンの形成条件に影響されること無く，しかも現像時間が長いなどの厳しい現像条件であっても，優れたラインのパターニング性を確保し得る感光性ペースト、及びそれを用いて形成した焼成物パターンを提供すること。 - 特許庁 - A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.
コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁 - The oscillation axis 36a of the holder oscillating part 34 is almost perpendicular to a drawing direction (direction of an arrow AR4) of the patterning tool 60, and extends in a direction (direction of an arrow AR5) almost perpendicular to the blade length direction (direction of an arrow AR3) of the blade edge 61a.
ホルダ揺動部３４の揺動軸３６ａは、パターニングツール６０の延伸方向（矢印ＡＲ４方向）と略垂直であり、かつ、刃先６１ａの刃渡り方向（矢印ＡＲ３方向）と略垂直な方向（矢印ＡＲ５方向）に延びる。 - 特許庁 - To provide a composition of an intermediate layer material for a three-layer resist process, which is soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free from problems of a tailing pattern during patterning the upper layer resist, peeling of the pattern and line edge roughness, and to provide a method for forming a pattern.
有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、パターン剥れ、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Therefore, when a length (d) of the valid region 24 held between both the terminal parts is 0.4 μm, width(w) is 0.6 μm, the fuse element can be made smaller than L/S=1.2 μm/0.8 μm of a minimum pattern rule specified in patterning ability.
このため、両端部に挟まれた実効領域２４の長さｄを０．４μｍとし、その幅ｗを０．６μｍとして、パターニング実力に規定された最小パターンルールのＬ／Ｓ＝１．２μｍ／０．８μｍより小さくすることが可能になる。 - 特許庁 - The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated by the light emitting device 4.
第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁
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