「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 58 59 60 61 62 63 64 65 66 .... 78 79 次へ＞- The layers 8 are subjected to peeling treatment to form metal conductor layers 9 in the holes 7 through electrolytic plating, the conductor layers 5 on both surfaces of the tape 11 are treated by patterning to form pad electrodes 5a and wiring patterns 5b on the upper and lower surfaces of the tape 11, and a film carrier is obtained.
保護層８を剥離処理して、電解めっきにより導通孔７内に金属導体９を形成し、両面の導体層５をパターニング処理してパッド電極５ａ及び配線パターン５ｂを形成して、フィルムキャリアを得る。 - 特許庁 - In the inkjet recording method, an initial speed of discharged ink droplets is 3 m/sec to 16 m/sec in the case of patterning a building material 70 using an inkjet recorder 1, and a carrying process and an inkjet recording process are included.
インクジェット記録装置１を用いて建築材７０を模様付けする場合において、吐出されたインク滴の初速が３ｍ／ｓｅｃ〜１６ｍ／ｓｅｃであるインクジェット記録方法であって、搬送工程と、インクジェット記録工程とを含む。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system for supplying a beam of radiation, a patterning system serving unit to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射線ビームを供給する照明系、放射線ビーム断面にパターンを与えるパターン付与装置、基板を支持する基板テーブル、およびパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系を含む。 - 特許庁 - To provide a method for producing artificial marble which can disperse/knead/mix a large granule patterning material uniformly into a resin composition for molding the artificial marble and can fit a high design pattern having a high-grade feel or a granite pattern to the artificial marble without lowering the strength of a product.
人造大理石成形用樹脂組成物に大粒柄材を均一に分散混練配合でき、しかも製品強度を低下させることなく高級感のある高意匠柄あるいはグラニット柄の人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁 - It enables manufacturing an imprint mold having two or more level differences without repeated coating of a photosensitive resin onto a board having level differences by carrying out two or more patterning procedures on a photosensitive resin.
本発明の構成によれば、感光性樹脂に対して複数回のパターニングを行うことにより、段差形状になった基板に再度感光性樹脂を塗布することなく、複数の段差構造を備えたインプリントモールドを製造することが出来る。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electro-optic device by which a shape in a corner portion of a device pattern can be reliably controlled upon forming a plurality of device patterns of a specified shape by patterning a film formed on a substrate for the electro-optic device.
電気光学装置用基板に形成された膜をパターニングして所定形状の複数のデバイスパターンを形成する際、デバイスパターンの角部分の形状を確実に制御することのできる電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an ink jet recorder, patterning arrangement and painting device which makes it enable to certainly make the speed of a drive frequency in the discharge of about 1 pl or less higher even in case the diameter of the discharge port is 30 μm or larger.
吐出口径が３０μｍの場合やこれよりも大きい吐出口の場合にも１ｐｌ程度以下の吐出における駆動周波数の高速化が確実に実現できるインクジェット記録装置、パターニング装置および塗装装置を提供すること。 - 特許庁 - The contact part of the encoder switch is formed by patterning with the electroconductive resin composition by a screen printing and an electroconductive particle of the electroconductive resin composition is an electric conductor obtained by forming a silver-coated film on the surface of a carbon bead and silver powder.
エンコーダスイッチの接点部分を、導電性樹脂組成物をスクリーン印刷法によりパターニングすることにより形成し、導電性樹脂組成物の導電性粒子を、カーボンビーズの表面に銀被膜がコーティングされた導体粉及び銀粉とした。 - 特許庁 - A patterning is made on a transparent conductive film laminate, which is made by laminating a transparent film layer of high refraction factor (a) 20 and a transparent metal film layer (b) 30 on a transparent substrate (A) 10, by a dry etching method by sputtering with an inert gas.
透明基体（Ａ）１０上に、透明高屈折率薄膜層（ａ）２０及び透明金属薄膜層（ｂ）３０を積層してなる透明導電性膜膜積層体を不活性ガスによるスパッタリングによりドライエッチング法でパターニングを行なう。 - 特許庁 - The first substrate 31 comprises the plurality of TFTs or the semiconductor circuit elements thereon, and a plurality of the TFTs or a portion of the circuit element groups are transferred to the second substrate having a thin film patterning thereon, which is the active matrix substrate.
第一の基板31上に形成された複数のTFT又は回路素子群と、前記複数のTFT又は回路素子群の一部を積載するための第二の基板と、前記第二の基板上のパターニングされた薄膜とを含むアクティブマトリクス基板とする。 - 特許庁 - An amorphous semiconductor film 105 for channel formation, an n-type semiconductor film 106 for the formation of source and drain regions and a conductive film 107 for the formation of source wiring and drain electrode are stacked (Fig. (A)), and then subjected to patterning operation with an identical photomask (Fig. (B)).
チャネルが形成される非晶質半導体膜１０５、ソース、ドレイン領域となるｎ型の半導体膜１０６及びソース配線及びドレイン電極となる導電膜１０７を積層し（図（Ａ））、同一のフォトマスクにてパターニングする（図（Ｂ））。 - 特許庁 - The process for fabricating the thin film transistor comprises steps of: coating the predetermined region on a substrate for forming the thin film transistor with liquid silicon material; and patterning the liquid silicon material thus applied into a desired pattern.
本発明は、基板上の、薄膜トランジスタを形成する所定の領域に液体シリコン材料を塗布する工程と、塗布された前記液体シリコン材料を、所望の形状にパターニングする工程と、を含む、薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To form a switching device by surely and easily forming wiring on a plastic board through patterning, and to provide a method of forming a liquid crystal display device electrode capable of coping with color moving images and a method of manufacturing a liquid crystal display device.
プラスチック基板上に、容易かつ確実に配線のパターニングを行うことによって、スイッチング素子を形成し、カラー動画に対応し得る液晶表示装置電極の形成方法、液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The electron beam lithography method comprising the steps of: forming a substrate and the mask blanks having a light-shielding film; applying a resist on the mask blanks; and patterning by using a first and a second terminal respectively having different shapes for the grounding of the mask blanks.
基板及び遮光膜を有するマスクブランクスを形成し、マスクブランクス上にレジストを塗布形成し、形状の異なる第１及び第２端子をマスクブランクスの接地に用いてパターニングを行うことを特徴とする電子線描画方法。 - 特許庁 - This color filter manufacturing method has the step of patterning on the resin film 200 formed on a transparent substrate 100 by using a laser ablation unit 4, and the step of cleaning the patterned resin film 200 by using a cleaning unit 6.
カラーフィルタの製造方法は、透明基板１００上に形成された樹脂膜２００をレーザアブレーション装置４によってパターニングするパターニング工程と、パターニングされた樹脂膜２００を洗浄装置６によって洗浄する洗浄工程とを備える。 - 特許庁 - A blank 10 with a light shielding film 21 and a regist layer 31 formed on a transparent substrate 11 is prepared, and a mask 20 having a light shielding pattern 21a and transmission regions 22 formed on the transparent substrate 11 is produced by carrying out a series of patterning procedures.
透明基板１１上に遮光膜２１及びレジスト層３１が形成されたブランク１０を準備し、一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上に遮光パターン２１ａ及び透過領域２２が形成されたマスク２０を作製する。 - 特許庁 - In the rubber blanket used for fine line patterning, the surface rubber of the rubber blanket has arithmetical mean roughness of a value of 0.05×Ra(p) to 4.5×Ra(p) with respect to arithmetic mean roughness Ra(p) of the surface of the printing body.
細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケットである。 - 特許庁 - By using this method, asymmetry in the edge shape of the resist patterning-formed second layer pattern 12 is moderated, which enables a highly accurate measurement of the overlap accuracy calculated by sensing the edge positions of the first layer pattern 11 and the second layer pattern 12.
これにより、レジストパターンで形成される第２層パターン１２のエッジ形状の非対称性が緩和され、第１層パターン１１と第２層パターン１２のエッジ位置を検出して算出する重ね合わせ精度を高精度に測定できる。 - 特許庁 - To provide a liquid drop ejector in which flushing can be carried out without damaging the productivity, and without having any adverse effect on film deposition or patterning while protecting the liquid drop ejector against contamination and its driving method, system and method for depositing a film, and the like.
生産性を損なうことなく、しかも製膜やパターニングに悪影響を及ぼしたり、装置を汚したりすることが防止されたフラッシングを可能とする、液滴吐出装置とその駆動方法、製膜装置と製膜方法などを提供する。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning multilayer wiring board which can mount electronic elements precisely and surely on each wiring board area by preventing first propagation of a crack occurred at a tip of dividing grooves of the mother substrate to an outer edge of the mother substrate and following propagation of the crack to wiring board areas.
母基板の分割溝の先端に発生した割れがまず母基板の外辺にまで進行し、続いて配線基板領域にも進行するため、各配線基板領域に電子素子を正確、且つ確実に搭載するのが不可能となる。 - 特許庁 - To provide an apparatus and method for manufacturing a color filter for liquid crystal display device which can be formed as a pattern by a photolithographic method in a single base of manufacturing line, can have layers that does not require patterning to be formed, and is suitable for small-lot production.
１基の製造ラインで、フォトリソグラフィ法によりパターンとして形成し、また、パターニングを要しない層を形成するとができ、且つ少量生産に好適な液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置、及び製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a chemical solution supplying apparatus, capable of suppressing the mixing of air bubbles into the discharged chemical solution, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of suppressing the occurrence of patterning failure resulting from the air bubbles mixed into the chemical solution.
吐出薬液に気泡が混入することを抑制することができる薬液供給装置、および薬液に混入した気泡に起因するパターン形成不良の発生を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To acquire a multilayer circuit board which reduces the mixed noise in the case of cross talk considered to be generated by the voltage of a main power source plain, and a sub-power source plain of the multilayer circuit board in the vicinity of a filter arranged in an adjacent layer, and to acquire a patterning method of the multilayer circuit board.
多層回路基板の主電源プレーンとサブ電源プレーンの電圧が隣接層に配したフイルタ近傍でクロストークとする場合に混入するノイズを低減する多層回路基板及び多層回路基板のパターニング方法を得る。 - 特許庁 - To provide a direct-write patterning method which can very easily and simply cope with the direct writing method from data from a computer in a bright room, even with printed boards having through-holes in the manufacturing technology of electronic circuits.
電子回路の製造技術において、極めて簡便に、かつ明室下で可能な、コンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができる直描作製方法であり、かつスルーホールを有する配線板も直描作製可能な方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method which can manufacture a poly crystalline silicon TFT array substrate high in reliability without generating defective displays, such as point defect by preventing the deviation of patterning resulting from thermal expansion or shrinkage of a glass substrate.
ガラス基板の熱膨張あるいは収縮に起因したパターニングのずれを防止し、点欠陥等の表示不良を生じることのない信頼性の高い多結晶シリコンＴＦＴアレイ基板を製造可能な製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To realize precision and efficient manufacture of a photospacer of a photospacer type color liquid crystal display device by patterning and forming the photospacer in a stage of forming the respective filter colored pattern layers of R, G, B, etc.
フォトスペーサー型カラー液晶表示装置におけるフォトスペーサーを、Ｒ、Ｇ、Ｂ等の各フィルタ着色パターン層の形成工程中にてパターン形成できるようにすることによって、フォトスペーサーの精度と効率的な作製を実現することにある。 - 特許庁 - To provide an ink jet unit ensuring highly reliable printing or patterning by preventing clogging of nozzle due to evaporation of solvent when aqueous ink or solvent ink containing an evaporating solvent is used.
本発明は、水性インクや溶剤インク等の蒸発する溶媒を用いたインクを用いる場合の溶媒の蒸発によるノズルつまりの発生を防止し、高信頼な印刷、あるいはパターニングを行うことのできるインクジェット装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - A plurality of upper layer wires 16 having protruding electrodes 17 are formed by patterning the metallic plate, then a plurality of semiconductor device having at least of the semiconductor constitutional body are obtained by cutting the sheet for forming the insulating layer.
次に、金属板をパターニングすることにより突起電極１７を有する複数の上層配線１６を形成し、この後、絶縁層形成用シートを切断して少なくとも前記半導体構成体を１つ含む複数の半導体装置を得る。 - 特許庁 - The method comprises laminating a fluorinated polymer layer 103 on substrates 101, 102, patterning the fluorinated polymer to form a relief pattern, and laminating an organic semiconductor or conductive material layer on the substrates 105, 106 using solution.
この方法は、基板１０１，１０２上のフッ素化ポリマー層１０３を積層し、リリーフパターンを形成するためにフッ素化ポリマーをパターン化し、溶液から基板１０５，１０６上に有機半導体又は導電性材料層を積層することを含む。 - 特許庁 - This formation method consists in forming a hydrophobic film 21 atop a glass substrate 2, patterning pixel electrodes 8 atop the hydrophobic film 21 and printing the respective pixel electrodes 8 and the entire surface of the hydrophobic film 21 exposed between the pixel electrodes 8 with color ink 11.
ガラス基板２の上面に疎水性膜２１を形成し、この疎水性膜２１の上面に画素電極８をパタンニングし、各画素電極８およびこれら画素電極８間に露呈した疎水性膜２１の全表面にカラーインク１１を印刷する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING NANO CARBON AND NANO CARBON MANUFACTURED BY THE METHOD, DEVICE FOR MANUFACTURING NANO CARBON, METHOD OF PATTERNING NANO CARBON AND NANO CARBON BASE MATERIAL PATTERNED BY USE OF THE METHOD AND ELECTRON EMISSION SOURCE USING THE PATTERNED NANO CARBON BASE MATERIAL
ナノカーボンの製造方法及びその方法を用いて製造されたナノカーボン、ナノカーボンの製造装置、ナノカーボンのパターン化方法及びその方法を用いてパターン化されたナノカーボン基材及びそのパターン化されたナノカーボン基材を用いた電子放出源 - 特許庁 - The polymer film patterning method includes applying polymer ink onto the substrate after forming a resist layer patterned on the substrate, and then separating the resist layer to remove the applied polymer ink therefrom.
ポリマー膜のパターニング方法において、基板上にパターニングされたレジスト層を形成後に、前記基板上にポリマーインクを塗布し、その後、前記レジスト層を剥離することで前記塗布されたポリマーインクを併せて除去することを特徴とするポリマー膜のパターニング方法。 - 特許庁 - Even if a defective part is generated at the first Schottky barrier electrode 30a when sputter film-forming or patterning Ti, Ti is so film-formed as to cover the defective part in the forming process of the second Schottky barrier electrode 30b.
Ｔｉをスパッタ成膜したりパタニングしたりするときに第一のショットキー障壁電極３０ａに欠損部分が生じても、第二のショットキー障壁電極３０ｂの形成工程において、欠損部分をカバーするようにＴｉが成膜される。 - 特許庁 - When etching a first inter-layer dielectric film 9, a XeF2 gas is used; when patterning a bit line 10 composed of a silicide film, a BrF3 is used; and when forming a storage node 12 composed of a polysilicon film, a BrCl gas is used.
シリコン酸化膜からなる第１層間絶縁膜９をエッチングする際にはＸｅＦ2 ガスを、シリサイド膜からなるビット線１０をパターニングする際にはＢｒＦ3 ガスを、ポリシリコン膜からなるストレージノード１２を形成する際には、ＢｒＣｌガスを用いる。 - 特許庁 - To provide a dyeing method for twill woven fabric, comprising making a patterning with variations between twill design texture and ground texture for expressing stereoscopic pattern, in particular enabling dyeing in unconventionally highly novel hue and feeling.
柄の立体をだす紋意匠織と地組織との変化で柄だしする紋織物に対する染色方法に関するものであり、特に、従来にない極めて斬新な色合い並びに風合いに染色し得る紋織物に対する染色方法を提供すること。 - 特許庁 - On the cut surface of the bar including the medium opposing surface 30, a resist solution is applied to form a resist layer 21, a mask is formed by patterning this resist layer 21, and a magnetic pole part is machined and formed by etching using this mask.
そして、バーにおける媒体対向面３０を含む切断面に、レジスト溶液を塗布してレジスト層２１を形成し、このレジスト層２１をパターニングしてマスクを形成し、このマスクを用いたエッチングによって磁極部分を加工、形成する。 - 特許庁 - To provide a mask for vapor deposition in which, even when it is influenced by heat, and its intra-plane temperature distribution is made uneven, the adverse influence by the unevenness of the temperature distribution can be eliminated as possible, and which can correspond to patterning with high precision.
蒸着用マスクが熱の影響を受けてその面内温度分布が不均一になる場合であっても、その温度分布の不均一さによる悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁 - On a wiring material lamination layer 12, a first insulating film 13 and a second insulating film 14 whose etching selectivity is different from that of the first insulating film 13 are formed into specified thickness, respectively, as hard masks for improving patterning accuracy (Fig. 1 (a)).
配線材料積層１２上にパターニング精度向上のためのハードマスク用として第１絶縁膜１３、さらにこの第１絶縁膜１３とはエッチング選択比の異なる第２絶縁膜１４を所定厚さ分だけ形成する（図１（ａ））。 - 特許庁 - This method for patterning the thin film consists in spraying an etching liquid ETL at a low flow rate from a direction approximately perpendicular to a liquid crystal panel substrate SUB1 formed by coating the conductive thin film with a resist mask of prescribed opening patterns while rotating the liquid crystal panel substrate at a high speed.
導電性薄膜を所定の開口パターンのレジストマスクで被覆した液晶パネル基板ＳＵＢ１を高速回転させながら当該液晶パネル基板に対して略直角な方向からエッチング液ＥＴＬを低流量スプレーする。 - 特許庁 - The patterning roller forms a cylindrical base surface as the outer reference surface for pattern formation, a plurality of washer-like projecting rows parallel to the circumference of the reference surface, and circular arc projections partially covering the groove parts interposed between the projecting rows.
模様付けローラーにあっては、模様形成外囲基準面としての円柱状基面とこの基面への円周方向に平行な複数の座金状凸条と凸条間に挟まれた溝部分を部分的に覆う円弧状突起を形成する。 - 特許庁 - Also, in the formation process of the protection film 31, the protection film 31 is formed so that the side face 27 of the pattern of the functional films 28 and 29 formed by the patterning process by wet etching can be covered with the formed protection film 31.
また、保護膜３１の形成工程では、ウエットエッチングによるパターニング工程において、パターニングによって形成された機能膜２８，２９のパターンの側面２７が、形成した保護膜３１によって覆われるように、保護膜３１を形成する。 - 特許庁 - In this way, since the first insulating film 2 can be etched with patterning accuracy of the resist 5 for KrF/ArF, the first insulating film 2 and the second insulating film having different film thicknesses can be separately formed on the substrate 1 while keeping high accuracy.
これにより、ＫｒＦ／ＡｒＦ用レジスト５のパターニング精度で第１の絶縁膜２をエッチングすることができるため、膜厚の異なる第１の絶縁膜２と第２の絶縁膜を基板１上に精度良く作り分けることが可能になる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a transparent conductive film for which, a thermal treatment at high temperature in the case of forming the transparent conductive film on a substrate is unnecessary, which can be formed on a plastic substrate with low thermal resistance, capable of simply and quickly patterning on demand.
基板上に透明導電膜を形成する場合の高温での熱処理を不要とし、耐熱性の低いプラスチック基板にも形成でき、しかも簡易・迅速にオンデマンドのパターニングが可能な透明導電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin film magnetic head, with which patterning accuracy, a sputtering film deposition distribution and/or an etching distribution can be improved, a wafer suction defect in a vacuum chuck or electrostatic chuck can be prevented, and a yield can be improved.
パターニング精度、スパッタ成膜分布及び／又はエッチング分布を向上させ、さらに、真空チャック又は静電チャックにおけるウエハの吸着不良を防止でき、歩留り改善を可能とする薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A shadow mask whose thickness is 500 μm or smaller and three times or less the minimum width of a mask portion and which is mounted on a frame having a plurality of opening portions existing therein is used for patterning at least one of a luminous layer and a second electrode.
厚さが５００μｍ以下で、かつ、マスク部分の幅の最小寸法の３倍以下であり、複数個の開口部が存在するフレームに取り付けられたシャドーマスクを用いて発光層もしくは第二電極の少なくとも一方をパターニングする。 - 特許庁 - Here, the horizontal alignment layer 42 forms an alignment layer material layer (photoresist) 42a on the side of the pixel electrode 9 of a precursor 10B, rubbing treatment is applied to it, the shielding film 13 is used a mask to be exposed and developed, and the horizontal alignment layer 42 is formed by patterning.
ここで水平配向膜４２は、前駆体１０Ｂの画素電極９側に配向膜材料層（フォトレジスト）４２ａを形成し、これにラビング処理し、遮光膜１３をマスクにして露光、現像し、水平配向膜４２をパターニングして形成する。 - 特許庁 - A wet-etching process is carried out for the residual substances 80, such as a heavy compound generated when patterning a second structure layer made of resin by an O_2 etching process together with a removal layer 93 located above a first structure layer 51 serving as an actuator structure 33.
Ｏ_2エッチングにより樹脂製の第２の構造層をパターニングした際に発生する重化合物などの残渣８０を、アクチュエータ構造３３となる第１の構造層５１の上方に位置する除去層９３と共にウェットエッチングする。 - 特許庁 - Sprocket holes 3 and conductor layers 5 are respectively formed at both ends of an insulating film tape 11 with adhesive layers and on both surfaces of the tape 11 along the longitudinal directions of both ends of the tape 11, the layer 5 on one side of the tape 11 is treated by patterning, and apertures 6 are formed in the prescribed positions on the layer 5.
接着層付絶縁フィルムテープ１１の両端の長手方向に沿ってスプロケットホール３及び導体層５を形成し、片面の導体層５をパターニング処理して、導体層５の所定位置に開口部６を形成する。 - 特許庁 - To provide a patterning substrate for cell culture where cells are allowed to adhere to the substrate in a high definition pattern and provide a cell culture substrate by allowing cells to adhere to the substrate in a high definition pattern.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - The antenna system includes antenna parts formed by applying patterning to a conductor pattern to a printed circuit board and dielectric parts laminated on the antenna parts, and the dielectric part is characterized in being laminated with thickness in a direction wherein the directivity is provided thicker than the thickness in other directions.
プリント配線板に導体パターンがパターンニングされたアンテナ部と、アンテナ部に積層された誘電体部とを有し、誘電体部はアンテナ部の指向性を持たせる方向に他の方向より厚く積層されていることを特徴とする。 - 特許庁
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