「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 62 63 64 65 66 67 68 69 70 .... 78 79 次へ＞- When a plurality of coating patterns are plotted on the surface of the substrate 2 by the relative movement of a nozzle 3 and the substrate 2, data of the height of a nozzle position in the preceding coating are once stored in a memory and are read in the start of the next coating patterning to set the initial height of of the nozzle position with the control of a servo motor.
ノズル３と基板２との相対移動により、基板２面に複数個の塗布パターンを描くとき、前回の塗布時におけるノズル位置高さデータを一旦メモリに記憶し、次の塗布パターン開始時に、それのデータを読み出し、サーボモータを制御してノズル初期高さ位置設定を行う。 - 特許庁 - The photo spacer constituting the liquid crystal display apparatus of which the cell thickness is 2 to 4 μm is manufactured by forming and patterning a photosensitive resin layer using a photosensitive resin component of which the cross-linking radical density is ≥0.0073 mole/g and then performing heating processing so that a cross-linking reaction rate becomes 86 to 100%.
セル厚が２〜４μｍである液晶表示装置を構成するフォトスペーサーを、架橋基密度が０．００７３モル／ｇ以上の感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂層を形成してパターニングした後に、架橋反応率が８６〜１００％となるように加熱処理を行なう。 - 特許庁 - First, insulating films 10 and 11 between the electrodes and an insulating film 12 are formed between transfer electrode-shadowing films by patterning the insulating material layer at the identical process using a common mask on a substrate 1, and the mutual position of the transfer electrode 4 and a photodetecting receiver 3 is decided.
まず、基板１上に電極間絶縁膜１０および１１と、転送電極−遮光膜間絶縁膜１２とを、共通のマスクを用いた同一工程で絶縁材料層をパターニングして形成し、転送電極部４と光電受光部３の相対位置を確定する。 - 特許庁 - To provide an actuator ink jet recording head in which stabilized ejection quantity and ejection speed can be achieved without increasing crosstalk due to deformation of the wall even if nozzle density is increased in order to achieve high resolution, and to provide an ink jet recorder, a patterning device and a coater.
本発明の目的は、高解像度実現のためにノズル密度を大きくしても、隔壁の変形によるクロストークを増加することなく、安定した吐出量、吐出速度を実現できるアクチュエータインクジェット記録記録ヘッド、インクジェット記録装置、パターニング装置および塗装装置を提供することである。 - 特許庁 - To provide a means for forming an organic metal thin film for manufacturing an organic semiconductor device using a conductive charge transfer complex material which is difficult to form a thin film by vacuum evaporation, and for manufacturing an electrode by patterning the organic metal thin film, and to provide a material suitable for the same.
真空蒸着法による薄膜形成が困難な導電性電荷移動錯体材料を用いた有機半導体装置用の有機金属薄膜の形成と、そのパターニングによる電極作製のための手段、及びそれに適した材料を提供することを課題とする。 - 特許庁 - After patterning the metal conductive film 6 and the polycrystalline semiconductor film 5, a first gate insulating film 7 is formed on the metal conductive film 6, and then a second gate insulating film 8 which grows faster than the first gate insulating film 7 is formed on the first gate insulating film 7.
そして、金属性導電膜６及び多結晶半導体膜５をパターニングした後、金属性導電膜６上に第１のゲート絶縁膜７を形成し、第１のゲート絶縁膜７上に第１のゲート絶縁膜７に比べて成長速度が速い第２のゲート絶縁膜８を形成する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified positive resist composition giving a high resolution with a suppressed LER deterioration caused by film-thinning at the time of forming a chemically amplified resist film with a film thickness of 10-100 nm in lithography, and also to provide a resist patterning process using the chemically amplified positive resist composition.
本発明は、リソグラフィーにおいて、膜厚を１０〜１００ｎｍとした場合の化学増幅レジスト膜の薄膜化によるＬＥＲの悪化を抑制しつつ、高解像性を有する化学増幅ポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供することもある。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board in which, even if a lid is joined in block to a conductor for sealing of each of a plurality of wiring board regions and cut, the lid is certainly joined to the conductor for sealing and which can form an electronic apparatus excellent in hermeticity with good productivity.
蓋体を複数の配線基板領域の封止用導体に一括して接合し、切断する場合でも、封止用導体に蓋体が確実に接合された、気密性に優れた電子装置を、生産性良く形成することが可能な多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an EL display unit in which a full color display is made possible, by forming a blue charge transport organic luminescent layer on a neighboring layer through vacuum vapor deposition method, after patterning red and green organic luminescent layers for each pixel by ink-jet method, and provide a manufacturing method of the EL display unit.
赤、緑の有機発光層をインクジェット方式により画素毎にパターニングし、その隣接層に青色の電荷輸送型有機発光層を真空蒸着法等にて形成することにより、フルカラー表示可能なＥＬ表示体およびＥＬ表示体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - When the patterning of a multi-layer film, composed of a metal film 5 and an amorphous ITO film 4 which covers the metal film 5, is performed, a sequence of processes is executed as follows: (a) etching of the ITO film 4→(b) sufficient etching of the metal film 5→(c) etching to remove overhang part from the metal film 5 of the ITO film 4.
金属膜５と、これを覆うアモルファスＩＴＯ膜４とからなる多層膜をパターニングするにあたり、(a)ＩＴＯ膜４のエッチング→(b)金属膜５の充分なエッチング→(c)ＩＴＯ膜４の金属膜５パターンからのひさし部分を除去するためのエッチング、という一連の工程を行なう。 - 特許庁 - The ferromagnetic thin membrane layer 15 has 0.5-50 oersted coercive force, may have a squareness ratio regulated so as to be 0.7-1.0, may be formed into the pattered one by a thin film-removing means such as a laser processing method, an etching method and a lift-off method, and further may have a bar code mark formed by patterning.
上記強磁性薄膜層１５は、保磁力が０．５〜５０エルステッドで、かつ角型比が０．７〜１．０に調整されているようにでき、レーザ加工法、エッチング法、リフトオフ法等の薄膜除去手段によりパターン化されたものとすることができ、また、バーコードマークをパターン化して設けることができる。 - 特許庁 - The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.
選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a thin film transistor for realizing a heating process for improving the characteristics of a gate insulating film, such as reduction in the boundary surface level and reduction in the fixed charges, while preventing a problem of the alignment deviation in patterning due to expansion and contraction of glass.
本発明は、ガラスの膨張、収縮がパターニングのアライメントずれの問題を引き起こさずに、界面準位低減、固定電荷低減といったゲート絶縁膜の特性向上を目的とした加熱処理を可能とする薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a material and a process for eliminating a complicated and constrained process on patterning a functional film, and for specifying the position of the outer edge in the patterned functional film at a low cost with a simple configuration, and further to provide the organic electroluminescent element of high capability using these material and process at a low cost.
機能膜をパターンニングする際に、プロセスの複雑化や制約を低減し、パターン形成される機能膜の外縁部の位置を低コストかつ簡便に規定するための材料及びプロセスを提供し、さらにはそれらを用いて低コストで高性能の有機電界発光素子を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.
上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To overcome the problem of a prior art such that the reaction product of the atom of a metal film and the gas of dry etching is generated for preventing the patterning of the insulating film in a termination process when the insulating film on the metal film is subjected to dry etching by a mask made of a photosensitive resin that is subjected to pattern formation.
金属膜上の絶縁膜を、パターン形成された感光性樹脂のマスクでのドライエッチングを行うと、終端工程で、上記金属膜の原子と上記ドライエッチングのガスとの反応生成物が生成され、上記絶縁膜のパターン化の支障になる。 - 特許庁 - With respect to calling signals from a plurality of slave units and an alarm signal of a sensor, a voltage level of a power source superimposed on a transmission line by a power source supply from a master unit is changed by a voltage patterning portion of a slave unit, and the signals are transmitted to the master unit from a data transmission/reception circuit of the slave unit as a patterned signal.
複数の子機からの呼出信号、センサの警戒信号を、親機からの電源供給により伝送路上に重畳される電源の電圧レベルを子機の電圧パターン化部で変化させ、パターン化された信号として子機のデータ送受信回路から親機に送信する。 - 特許庁 - To provide a multilayer printed wiring substrate where a short circuit etc. resulted on a pattern of a lower layer is eliminated by making a pin-shaped checking probe go through a check land of the multilayer printed wiring substrate, a multilayer printed wiring substrate patterning method, and an inspection apparatus using the check land.
ピン状のチェック用のプローブが多層プリント配線基板のチェックランドを貫通することで下層のパターンで生ずるショート等を除去する様にした多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置を得る。 - 特許庁 - A sacrifice film having a film thickness not to influence photolithography in patterning is formed on the gate electrode material, the sacrifice film is patterned by etching, and the gate electrode material is patterned by using the patterned sacrifice film 8a for a mask to form gate electrodes 11 and 12.
パターニング時におけるフォトリソグラフィに影響を与えない膜厚を有する犠牲膜をゲート電極材料上に形成し、エッチングにより犠牲膜をパターニングするとともに、パターニングされた犠牲膜８ａをマスクに用いてゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１１，１２を形成する。 - 特許庁 - To provide an optical wave guide element of a high characteristic with a patterned epitaxial oxide thin film optical wave guide, and to provide a manufacturing method capable of conducting precisely patterning for the optical wave guide element with excellent productivity.
高い特性を有し、パターニングされたエピタキシャル酸化物薄膜光導波路を備えた光導波路素子を提供すること、また前記の光導波路素子のパターニングを精度よくまた生産性よく行うことができる光導波路素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Patterning of a resin layer 102 to be a spacer layer 12 sandwiched between a top electrode layer 11 comprising a pair of right and left top electrodes 11a, 11b and a bottom electrode layer 13 comprising a bottom electrode 13a is performed, to form liquid-medium holding spaces 14a of liquid holding cavities.
左右一対の上部電極１１ａ，１１ｂを含む上部電極層１１と下部電極１３ａを含む下部電極層１３とで挟まれたスペーサー層１２となる樹脂層１０２をパターニングして液体収容キャビティーの液媒収容空間１４ａを形成する。 - 特許庁 - The plasma display panel provided with an upper panel and a lower panel facing each other with barrier ribs in between is composed of a first dielectric layer formed on the upper panel and a second dielectric layer which is formed on the above first dielectric layer by patterning and contains black pigment.
隔壁を介して相対向する上部パネルと下部パネルを備えるプラズマディスプレイパネルにおいて、上部パネルに形成された第１誘電体層と、前記第１誘電体層上にパターニングされて形成され、ブラック顔料が含まれた第２誘電体層と、を備える構成とした。 - 特許庁 - The method for manufacturing semiconductor devices further includes a step of manufacturing the thickened resist patterns by forming the resist patterns on an underlayer and then applying the thickening material on the surfaces of the resist patterns thereby thickening the resist patterns, and a step of patterning the underlayer by etching using the thickened resist patterns.
下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - The lithographic method includes using an illumination system to provide a radiation beam having an illumination mode, using a patterning device to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, and projecting the patterned radiation beam onto a plurality of substrates.
リソグラフィ方法が提供され、同方法は、照明システムを使用して照明モードを有する放射ビームを供給すること、パターニングデバイスを使用して放射ビームに断面においてパターンを与えること、複数の基板上に前記パターニングされた放射ビームを投影すること、を含む。 - 特許庁 - Also, a method for manufacturing the surface acoustic wave device 1 includes the steps of applying a resist R3 onto the IDT electrode 9 and the connection interconnect 13, and patterning the resist R3 to cover at least a portion connecting the IDT electrode 9 and the connection interconnect 13.
また、本発明に係る弾性表面波装置１の製造方法は、ＩＤＴ電極９及び接続配線１３上にレジストＲ３を塗布し、ＩＤＴ電極９と接続配線１３との接続部分を少なくとも覆うようにレジストＲ３をパターニングする工程を含む。 - 特許庁 - After removing the ion implantation mask pattern, a transfer gate electrode, an NMOS gate electrode, and a PMOS gate electrode are formed on a semiconductor substrate in a pixel region, on that of the NMOS region, and on that of the PMOS region, respectively, by patterning the polysilicon film.
イオン注入マスクパターンを除去した後にポリシリコン膜をパターニングして画素領域の半導体基板上に転送ゲート電極、ＮＭＯＳ領域の半導体基板上にＮＭＯＳゲート電極及びＰＭＯＳ領域の半導体基板上にＰＭＯＳゲート電極を形成する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a metal electrode, that can substantially remove edge-curls to the extent where no effect of edge-curls remains, in patterning by photolithography such a metal electrode as a bus electrode and a data electrode constituting a display panel, starting with a PDP.
ＰＤＰを初めとする表示パネルを構成するバス電極及びデータ電極などの金属電極をフォトリソグラフィー法でパターニングする場合にエッジカールの影響がない程度にまで実質的にエッジカールを解消することのできる金属電極の作製方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an active energy ray curable resin composition having superior heat resistance and being capable of patterning with a dilute aqueous alkaline solution, using a normal organic solvent as a solvent, and reducing a development residue in alkali development.
本発明の課題は、優れた耐熱性を有し、かつ、希アルカリ水溶液でのパターニングが可能で、しかも、溶剤として通常の有機溶剤を使用することもでき、さらに、アルカリ現像時の現像残渣を低減することが可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the thin film transistor mounting substrate includes in order the steps of: forming an amorphous oxide thin film 13 to become the active layer on or above the plastic substrate 10; patterning the amorphous oxide thin film 13; and Joule-heating the amorphous oxide thin film 13.
プラスチック基板１０の上又はその上方に活性層となるアモルファス酸化物薄膜１３を形成する工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をパターニングする工程と、そのアモルファス酸化物薄膜１３をジュール加熱する工程とをその順で少なくとも有する。 - 特許庁 - The photosensitive adhesive composition 1a has a thermocompression bonding property to an adherend after patterning by exposure and development, is developable with an alkali and has an elastic storage modulus of ≥10 MPa at 110°C after exposure and thermal curing.
露光及び現像によってパターニングされた後に被着体に対する熱圧着性を有し且つアルカリ現像が可能な感光性接着剤組成物１ａであって、露光後、更に加熱硬化された後の１１０℃における貯蔵弾性率が１０ＭＰａ以上である、感光性接着剤組成物。 - 特許庁 - To provide a negative photosensitive resin composition which can form a photosensitive resin layer having excellent developability, resolution and adhesiveness after patterning, a photosensitive dry film which has a photosensitive resin layer comprising the composition, and a light receiving device having a spacer that is obtained by curing the composition.
現像性、解像性、パターニング後の接着性に優れた感光性樹脂層を形成可能なネガ型感光性樹脂組成物、その組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性ドライフィルム、及びその組成物が硬化したスペーサを備える受光装置を提供する。 - 特許庁 - A compression and patterning section 120 compresses image data of a document Pa rasterized at a scanner section 110 in a predetermined reproducible code type and code-patterns the compressed image in a predetermined code recording type to generate a compressed code pattern of a print image.
圧縮及びパターン化処理部１２０は、スキャナ部１１０でラスタ化された帳票Ｐａのイメージデータを再現性を有する所定のコード形式で圧縮し、更に圧縮されたイメージのコードを所定のコード記録形式でコードパターン化して、印刷イメージの圧縮化コードパターンを生成する。 - 特許庁 - This process of using two exposures with diffusion light achieves the material use efficiency, costs, responses to various substrate sizes and high-definition electrode patterning that is not successful in the ink jet method, for instance, in manufacturing TFTs, which the traditional manufacturing method cannot achieve.
拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばＴＦＴ作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細パターニングを解決するものである。 - 特許庁 - To provide a carbon nanotube and a method of manufacturing the same by which a carbon nanotube forming region and a non-forming region are formed on the same substrate without patterning a non-catalytic metal or the like on the substrate and the ratio of the carbon nanotube forming region occupying in the total area of the substrate is controlled.
非触媒金属等を基板上にパターニングせずに、同一基板上にカーボンナノチューブ生成領域と非生成領域とを形成でき、基板の総面積に占めるカーボンナノチューブ生成領域の割合を調整することができるカーボンナノチューブ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In manufacturing the EL color filter that constitutes the EL display unit, an extraction electrode layer pattern 2 that is respectively connected to the upper electrode or the lower electrode and a shading layer pattern (black matrix) 3 that fills between the coloring layer patterns are formed simultaneously by carrying out patterning of the conductive layer 10.
ＥＬ表示装置を構成するＥＬ用カラーフィルタを製造するにあたり、導電層１０をパターンニングして、下部電極又は上部電極にそれぞれ接続される取出電極層パターン２と、着色層パターン間を埋める遮光層パターン（ブラックマトリクス）３とを同時に形成する。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - To provide a photosensitive inorganic paste composition capable of improving pattern accuracy to such a degree that it can be adapted to fine patterning required by a plasma display; a sheetlike unfired body for production of a plasma display front panel using the same; and a method for producing a plasma display front panel.
プラズマディスプレイの要求する微細パターニングに十分に適合できる程度にまでパターン精度を向上させることのできる感光性無機ペースト組成物、これを用いたプラズマディスプレイ前面板製造用シート状未焼成体、および、プラズマディスプレイ前面板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - On the base film on which the printing projecting parts of the resin relief printing plate for printing prepared by forming a relief-like printing projecting parts made by patterning the photo-sensitive resin on the base film are formed, positioning marks for positioning and sticking the resin relief printing plate for printing on the carrier film are marked.
感光性樹脂をパターニングしてなるレリーフ状の印刷凸部をベースフィルム上に形成してなる印刷用樹脂凸版の前記印刷凸部が形成されたベースフィルムに、前記印刷用樹脂凸版を印刷用キャリアフィルムに位置決めして貼り付けるための位置決めマークを、印する。 - 特許庁 - To provide a substrate for an organic EL element and its manufacturing method capable of patterning a light-emitting layer, or the like, without damaging hole transport properties, or the like, in the case of a layer for formation of a lyophilic region or a liquid-repellent region having such properties.
本発明は、親液性領域および撥液性領域を形成するための層が正孔輸送性等を有する場合にその正孔輸送性等を損なうことなく、発光層等をパターニングすることが可能な有機ＥＬ素子用基板およびその製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁 - To present a substrate for easily fabricating a fine element such as a semiconductor element, an integrated circuit, and a device for an image display at a low cost without patterning by photolithography for the fabrication of the fine element, a fabrication method for the substrate, and a thin-film forming method using the substrate.
微細素子の製作に際してフォトリソグラフィによるパターニングを施すことなく、低コストで簡易に半導体素子、集積回路、画像ディスプレー用デバイス等の微細素子を作製するための基板、該基板の作製方法、及び該基板を用いる薄膜形成方法を提示すること。 - 特許庁 - The control unit is configured to move the shutter by a predetermined amount to affect the parts of the patterning device or the substrate masked out from the beam of radiation if projecting the patterned beam of radiation onto the target portion would involve the patterned beam of radiation extending across the periphery of the substrate.
制御装置は、パターン付与された放射ビームを目標部分に投影することにより当該放射ビームが基板周縁を所定量以上超えて広がる場合、パターニングデバイスの一部もしくは基板の一部を放射ビームからマスクさせるべくシャッタを移動させる。 - 特許庁 - The ground wiring 17 is made broader than other wiring members (signal wirings) 18 by patterning and hence allows not only a high current to flow, but also the openings 14 to be large, this facilitating aligning the cover film 21 and more reliably connecting to the shield film 50.
また、接地配線１７はパターニングにより他の配線部材（信号配線）１８よりも幅広にされているので、大電流を通電できるだけでは無く、開口１４を大径にできるので、カバーフィルム２１の位置合わせが容易な上、シールドフィルム５０とより確実に接続される。 - 特許庁 - The metal plate 2, an insulating layer 3, and an electrode 4 are pressure-bonded before both the surfaces of a substrate are subjected to resist patterning, thus manufacturing an electrode pattern and the groove of the periphery of the metal plate 2 simultaneously by etching, and then performing cutting along the groove or punching for dividing into a plurality of pieces.
また、金属板２と絶縁層３と電極４を圧着後、基板両面のレジストパターニングを行って、エッチングにより電極パターンと同時に金属板２の周縁部の溝を作製し、その後、溝に沿った切削加工又は打ち抜き加工をし複数個に分割する。 - 特許庁 - For the surface patterning method of etching the surface of a silicon substrate 1 by using a hard mask 3A, the hard mask 3A is provided with an uneven pattern 3b of depth t1 shallower than the film thickness (t) of the hard mask 3A together with an opening pattern 3a facing the etched part of the silicon substrate 1.
ハードマスク３Ａを用いてシリコン基板１の表面をエッチング加工する表面パターニング方法であって、ハードマスク３Ａには、シリコン基板１のエッチング部分に臨む開口パターン３ａと共に、このハードマスク３Ａの膜厚ｔよりも浅い深さｔ１の凹凸パターン３ｂが設けられている。 - 特許庁 - A first insulating layer with thickness more than 5000 Å is provided in a supporting body and executed with a patterning except the supporting body, further the second insulating layer is provided therein, an electrode layer and a piezoelectric layer are sequentially laminated and a cantilever is formed by eliminating the supporting body except a supporting body part.
支持体上に厚さが５０００Å以上の第１の絶縁層を設け、該絶縁層を支持体部を残してパターニングし、さらに第２の絶縁層を設け、電極層と圧電体層を順次積層し、支持体部以外の支持体を除去してカンチレバーを形成する。 - 特許庁 - A metal film 76 on a gate made of Au is formed at the opening of the mask 78 by the lift-off method, a WSi film 71a is subjected to patterning with the metal film 76 on the gate as a mask, and a gate electrode 71 made of WSi is formed right above the p-type region 90.
マスク７８の開口部に、リフトオフ法によりＡｕからなるゲート上金属膜７６を形成し、ゲート上金属膜７６をマスクとしてＷＳｉ膜７１ａをパターニングして、ｐ型領域９０の直上にＷＳｉからなるゲート電極７１を形成する。 - 特許庁 - Forming an overcoat layer 20a and a spacer part 20b in one body (an overcoat part 20) eliminates the need for newly patterning the spacer part 20b after having formed the overcoat layer 20a, and forming the overcoat layer 20a and the spacer 20b can be made in a single step.
オーバーコート層２０ａとスペーサ部２０ｂとを一体的に形成する（オーバーコート部２０）ことにより、オーバーコート層２０ａを形成した後であらためてスペーサ部２０ｂをパターニングする必要が無く、オーバーコート層２０ａとスペーサ２０ｂとを一の工程で形成することができる。 - 特許庁 - An exposure light pattern having spatially changeable intensity is formed by illuminating light on an array of a spatial light modulator and patterning the light with SLM, the patterned light is written on the object and the gray-scaled pattern is formed on the object based on the above-mentioned spatially changeable intensity.
光を空間光変調器のアレイ上に照明し、光をＳＬＭによってパターニングして、空間的可変強度を有する露光光パターンを形成し、パターニングされた光を対象上に書き込み、前記空間的可変光度に基づいて対象上にグレースケール化されたパターンを形成する。 - 特許庁 - Striped transparent electrode groups 3 and striped reflective metallic layers consisting of the laminated layers of Cr films 4 and Al films 5 are deposited on a glass substrate 2 and further, the striped reflective metallic layers are subjected to patterning of the regions between the pixels and the light transparent parts, by which these regions are removed.
ガラス基板２上にストライプ状透明電極群３およびＣｒ膜４とＡｌ膜５との積層からなるストライプ状光反射性金属層を被着し、さらにストライプ状光反射性金属層に対し画素間および光透過部をパターニングして取り除く。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a light shielding dispersion liquid, for forming a photosensitive resin composition for a black resist capable of preventing an adhesiveness to a substrate from getting worse caused by defective patterning and a sealability or the like from being deteriorated, when forming a light shielding film, and capable of obtaining a uniform shielding degree.
遮光膜を形成した際、パターニング不良による基板との密着性の低下やシール性劣化等を引き起こすことがなく、また、均一な遮光度が得られるブラックレジスト用感光性樹脂組成物を形成することができるような、遮光性分散液の製造方法を提供する。 - 特許庁
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