「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 64 65 66 67 68 69 70 71 72 .... 78 79 次へ＞- A method of manufacturing a crystal resonator includes forming metal films and resist films on both sides of a substrate; then patterning the outer form of the crystal resonator, respectively on the resist films on the front and rear sides of the substrate; and thereafter, removing the metal films exposed on both the sides of the substrate by etching, and then etching the crystal substrate.
水晶振動子の製造方法において、基板の両面に金属膜、レジスト膜を形成した後、基板の表裏面のレジスト膜にそれぞれ水晶振動子の外形形状をパターニングし、その後、基板両面に露出した金属膜をエッチング除去、水晶基板のエッチングを行う。 - 特許庁 - To provide a resin composition having a low dielectric constant, excellent in patterning precision and adhesion to a substrate, developable with water or a diluted alkali solution, and suitable for forming a solder resist for a printed wiring board or an IC package, or an interlayer insulating layer or the like, and to provide a photosensitive film using this resin composition.
パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁 - The solid state imaging device is manufactured through a process of forming conductive layers 13, 14 containing the metallic element on the semiconductor substrate 6 to form the electrode 15 by patterning the conductive layers 13, 14, and another process of forming the nitride silicon film 16 on the surface of the electrode 15.
また、半導体基体６上に金属元素を含む導電体層１３，１４を成膜し、この導電体層１３，１４をパターニングして電極１５を形成する工程と、この電極１５の表面に窒化珪素膜１６を形成する工程とを有して、上記固体撮像素子を製造する。 - 特許庁 - To provide a transparent electrode substrate excellent in conductivity, capable of maintaining high levels of adhesion, storage stability and conductivity, and also excellent in heat resistance and moist heat resistance, while a pattern with high resolution can be formed in an electrode obtained by performing patterning and a pattern shape is also excellent.
導電性に優れ、かつ、密着性、保存安定性、導通率を高いレベルで維持することができ、耐熱性、耐湿熱性も良好であり、パターニングを行って得られた電極は、解像度の高いパターンが形成でき、パターン形状も良好である、透明電極基板を提供すること。 - 特許庁 - This can allow for (secure an offset of) the patterning between gate electrodes SLG-SLG to make it possible to prevent the occurrence of the short-circuit failure between both sides of gate electrodes SLG even though the dummy contact hole is formed at the part of the image-resolved auxiliary pattern 4c.
ゲート電極ＳＬＧ−ＳＬＧの間のパターンニングに余裕を持たせることができ（オフセットを確保することができ）、解像した補助パターン４ｃの部分でダミーコンタクトホールが形成された場合でも、両脇のゲート電極ＳＬＧとの間で短絡不良が発生するのを防止することが出来る。 - 特許庁 - One of the anode and cathode of a chip-shaped solid electrolytic capacitor with an electrode substrate as an electrode or both of them are configured of two independent conductive boards, and a fuse element for connecting the both independent conductive boards is formed by patterning.
電極基板を電極としたチップ状固体電解コンデンサの陽極と陰極のうちどちらか一方、または両方がそれぞれ二つの独立した導電板からなり、独立した両導電板を接続するためのヒューズ素子をパターニングすることにより形成させることを特徴とする。 - 特許庁 - A method for patterning metal using nanoparticles containing precursors comprises: providing pre-nucleated metal nanoparticles in a composite; generating a metal atom by reducing a metal ion by exposure to radiation; and reacting the metal atom with the pre-nucleated metal nanoparticle, thereby growing the metal nanoparticles.
予備核形成した金属ナノ粒子を複合材にして準備し、放射線への露光により金属イオンを還元することのより金属原子を生成し、前記金属原子を前記予備核形成した金属ナノ粒子と反応させ、それにより金属ナノ粒子を成長させる。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring substrate capable of being easily and correctly partitioned along partitioning grooves and reduced in the probability of generating burs, deformation or the like upon partitioning, and to provide a highly reliable electronic component receiving package and an electronic device.
母基板を分割溝に沿って容易かつ正確に分割することが可能であり、分割の際にバリや変形等が発生する可能性を低減した多数個取り配線基板を提供し、信頼性の高い電子部品収納用パッケージおよび電子装置を提供すること。 - 特許庁 - Next, a 1st core 53a and a 2nd core 53b orthogonally crossing each other are formed by patterning the 1st core layer, and a 2nd cladding layer is formed by applying the solution of 1st polyamide fluoride to make an optical waveguide body 51 in which the 1st and 2nd cores are embedded in the 1st and 2nd cladding layers.
ついで、第１コア層をパターニングして、互いに直交する第１コア５３ａおよび第２コア５３ｂを形成し、第１フッ素化ポリイミド溶液を塗布して第２クラッド層を形成して、第１および第２コアが第１および第２クラッド層に埋設された導波路体５１を作製する。 - 特許庁 - In the magneto-resistance effect type head of the CPP structure, at least a part of a boundary between a lower shield layer 10 and a nonmagnetic film 11 formed around it is covered with an insulating protective film 20, and an area of the lower shield layer exposed to the surface of a substrate during patterning of a magneto-resistance effect sensor film is reduced.
CPP構造の磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、下部シールド層10とその周囲に設けられている非磁性膜11との境界の少なくとも一部を絶縁保護膜20で被覆して、磁気抵抗効果センサ膜のパターニングの際に基板表面に出る下部シールド層の面積を小さくする。 - 特許庁 - In this non-inductive strain sensor and its measuring method, the strain measurement in the environment wherein the noise is generated under the high magnetic field and the extra-high voltage can be performed by a grid 2 comprising a one-turn coil subjected to patterning so as to be mutually overlapped on the front and back of an insulating substrate 1 in an approximately reverse U-shape.
略逆Ｕ字状に絶縁基板１の表裏に互に重なる様にパターニングされた１ターンコイルから成るグリッド２によって強電界、強高電圧下でノイズが発生する環境下での歪測定を行なうことが可能な無誘導歪センサ及びその測定方法を得る。 - 特許庁 - To provide the forming method of buried wiring wherein the material of an insulating substrate, in which the buried wiring is formed, is not limited so as to be high in thermal resistance and the corrosion resistance of terminal unit of the buried wiring can be improved while being capable of surely effecting the patterning thereof through reduced processes with excellent accuracy of film thickness.
埋込配線が形成される絶縁性基板の材料が耐熱性の高いものに限定されず、当該埋込配線の端子部の耐食性を向上でき、パターニングが少ない工程で且つ良好な膜厚精度で確実に行われる埋込配線の形成方法を提供する。 - 特許庁 - A wiring pattern containing pads 2g is formed by patterning the metal layer 5 which has been used as a mask, at least a passivation film 6 is formed on the surface of the semiconductor substrate 1 where the empty groove 4 is formed, and an opening is provided to the passivation film 6 to make the pads 2g exposed.
マスクとして用いられた金属層５をパターニングしてパッド２ｇを含む配線パターンを形成し、空堀４が形成された半導体基板１表面に少なくとも１層のパッシベーション膜６を形成し、パッシベーション膜６を開口して前記パッド２ｇを露出させる。 - 特許庁 - The method for manufacturing a substrate for a display panel is provided with a film forming step to form an organic insulating film on a light transmitting substrate and a patterning step to pattern the organic insulating film so as to form first openings and second openings smaller than the first openings penetrating the organic insulating film.
表示パネル用基板製造方法は光透過性基板上に有機絶縁膜を形成する成膜工程と、第１開口および第１開口よりも小さい第２開口が有機絶縁膜を貫通して形成されるように有機絶縁膜をパターニングするパターニング工程とを備える。 - 特許庁 - Since the fine solder thin-film patterns 104-1 to 104-8 can be formed on the substrate by patterning, a minute solder bump having an excellent profile precision can be obtained by bonding and laminating them, resulting in enabling high-density connection without causing defective connections and short-circuits.
パターニングによって基板上に微細なはんだ薄膜パターン１０４-1〜１０４-8を形成することができるので、これらを接合して積層することにより、形状精度に優れた微小な金属バンプが得られ、接続不良や短絡を招くことなく、より高密度な接続が可能となる。 - 特許庁 - Disclosed is the manufacturing method in which a translucent film and a light shielding film, and an intermediate film stopping etching using chlorine system upon occasion are provided, and chlorine-based gas and fluorine-based gas are used in combination as dry etching gas to carry out patterning in sequence without damaging a lower layer.
透明基板上に、半透過膜と遮光膜と、必要に応じて塩素系ガスのエッチングを停止する中間膜とを設け、ドライエッチングガスとして塩素系ガスとフッ素系ガスを交互に組み合わせて、順次、下層に損傷を与えないようにパターン化していく製造方法を特徴とする。 - 特許庁 - To provide a multiple-patterning electronic device that stably and firmly sucks a ceramic mother board to a suction table for fixing without shaking when fixing the ceramic mother board onto the suction table for mounting an electronic component, and can accurately and easily mount the electronic component in each wiring substrate region.
電子部品を搭載するための吸引テーブル上に固定した際に、セラミック母基板がぐらつくことがなく吸引テーブルに安定して強固に吸引固定され、各配線基板領域に電子部品を正確かつ容易に搭載することが可能な多数個取り電子装置を提供すること。 - 特許庁 - A blank 10 with a light shielding film 21 and a regist layer 31 formed on a transparent substrate 11 is prepared, a mask 20 having a light shielding pattern 21a and transmission regions 22 formed on the transparent substrate 11 is produced by carrying out a series of patterning procedures, and the mask 20 is inspected and corrected.
透明基板１１上に遮光膜２１及びレジスト層３１が形成されたブランク１０を準備し、一連のパターニング処理を行って、透明基板１１上に遮光パターン２１ａ及び透過領域２２が形成されたマスク２０を作製し、マスク２０の検査、修正を行う。 - 特許庁 - The production process of an electromagnetic wave shielding material comprises a step for forming a substrate with a metal thin film by applying a molten resin substrate material onto the metal thin film, and a step for patterning the metal thin film into mesh by etching and forming a meshed metal thin film.
金属薄膜上に溶融状態の樹脂基材原料を塗工することにより金属薄膜付基材を形成する工程、該金属薄膜をエッチング法によりメッシュ状にパターニングし、メッシュ状金属薄膜を形成する工程、を有する電磁波遮蔽材の製造方法とする。 - 特許庁 - When a mask made of a resist layer is formed, a laminated resist pattern 110 having a T-shaped section is formed on the patterning film, where the laminated resist pattern 110 includes a lower-layer resist pattern 111 and an upper-layer resist pattern 112 having plane area larger than that of the lower resist pattern 111.
レジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜の上に、下層レジストパターン１１１と、下層レジストパターン１１１の平面積よりも大きい平面積を有する上層レジストパターン１１２とを含む断面Ｔ形状の積層レジストパターン１１０を形成する。 - 特許庁 - The method for patterning the organic thin-film that includes a step for forming the organic thin film on a substrate, a step for selectively printing a masking material on a part of the organic thin film, a step for dry-etching a portion exposed out of the organic thin film, and a step for removing the masking material.
基板上に有機薄膜を形成するステップ、有機薄膜の一部分上にマスク物質を選択的にプリンティングするステップ、有機薄膜のうち露出された部分をドライエッチングするステップ、及びマスク物質を除去するステップを含む有機薄膜のパターニング方法である。 - 特許庁 - A CP selective deflector 32 deflects the electron beam surely from the sample surface during the beam blanking period in order to adjust the synchronization error during the beam blank period, so that the synchronization error of a plurality of electrodes of the deflector 32 is below an allowable value, thus surely preventing the patterning failure due to the beam leakage.
CP選択偏向器３２の複数の電極部の同期誤差が許容値以下となるように、ビームブランク期間内に同期誤差の調整を行うため、ビームブランク期間に確実に電子ビームを試料面からそらすことができ、ビーム漏れによるパターニング不良を確実に防止できる。 - 特許庁 - A positioning method includes a step of executing part of a positioning procedure on a part of a substrate or on a part of a patterning device by using part of a positioning mechanism in a lithography device until the substrate or part of a lithography device or a part in the lithography device is thermally stabilized within a certain limit.
この方法は、基板、又は、リソグラフィ装置の若しくはリソグラフィ装置内の部分がある限度内で熱的に安定化するまで、リソグラフィ装置の位置合わせ機構の部分を用いて基板の部分又はパターニングデバイスの部分の上で位置合わせ手順の部分を実行するステップを含む。 - 特許庁 - To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.
ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - In this high polymer electroluminescent element constituted by laminating at least an electrode, a high polymer light emitting layer, and an opposing electrode on a substrate, an insulation protection layer is provided between the high polymer light emitting layer and the opposing electrode to prevent leak and short circuit of the element caused by defective patterning.
基板上に少なくとも電極と高分子発光層と対向電極を積層してなる高分子エレクトロルミネッセンス素子において、高分子発光層と対向電極との間に絶縁保護層を設けることでパターニング不良などに起因する素子のリークや短絡を防止する。 - 特許庁 - To reduce chip cost by reducing the off leak current of a memory cell connected with a bit line even in a large scale memory core and increasing the number of memory cells connected with one word line thereby reducing the total area of the memory core, and to facilitate patterning when the mask of a memory cell array is formed.
規模の大きいメモリコアにおいてもビット線に接続されるメモリセルのオフリーク電流を低減し、１本のワード線あたりに接続されるメモリセル数を増やしてメモリコア全体での面積削減によるチップコストの削減を実現し、またメモリセルアレイ部のマスク作成時のパターニングを容易にする。 - 特許庁 - To measure as to whether or not a disc which is of circular discs used in a device for detecting displacement information of a displaced object such as a position, a displacement value, a displacement direction and the like, satisfies a desired diffraction efficiency, without individually cutting the disc out of a wafer whereon patterning the disc is carried out.
変位物体の位置、変位量、変位方向等の変位情報を検出する装置に用いる円形のディスクに関し、ウエハにパターンニングされた状態からディスクを個別に切り出すこと無く、ディスクが所望の回折効率を満たしているかどうかを測定すること。 - 特許庁 - To provide a multiple patterning wiring board in which connecting pads are jointed strongly to a mother board and are capable of being divided so as to keep a predetermined position relation with respect to the outer rim of the wiring board region, while being capable of connecting the connecting pads normally to an external electric circuit through individual wiring boards.
接続パッドが母基板に強固に接合されると共に接続パッドが配線基板領域の外縁部に対して所定の位置関係とされて分割でき、個々の配線基板で接続パッドを外部の電気回路に正常に接続できる多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁 - The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.
ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁 - The laser processing device 100 includes two galvanoscanners (14 and 24) which scan two processing regions R1 and R2 (y1 and y2) on a processing stage (4) aligned in a longitudinal carrying direction of a flexible substrate 1 with laser beams, respectively, while concurrently performing patterning; and a control part (19) common to them.
レーザ加工装置１００は、可撓性基板１の長手搬送方向に並設された加工ステージ（４）上の２つの加工領域Ｒ１，Ｒ２（ｙ１，ｙ２）に対して、それぞれレーザ光を走査し、同時並行してパターニングを行なう２つのガルバノスキャナ（１４，２４）と、それらに共通の制御部（１９）とを備えている。 - 特許庁 - To solve such a problem that, when a sublimation material is formed by coating, an organic compound layer cannot be deposited in a consecutive vacuum, so that a manufacturing cost and a tact time is increased, in a method for manufacturing an organic EL display device, the method using a release layer comprising the sublimation material for patterning a luminous layer.
昇華材料からなる剥離層を用いて発光層をパターニング形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法において、昇華材料を塗布により形成すると有機化合物層を一貫した真空下で成膜ができなくなり、製造コストやタクトタイムが長くなってしまう。 - 特許庁 - Also, in accordance with the modifying of this patterning mask, an isolation-film removing mask pattern 40a' is so modified and so designed in a first region A' of the isolation-film removing mask as to remove the predetermined region of the isolation film, which is to be formed on the first quasi activated region.
また、このパターニング用マスクの修正に伴って、絶縁膜除去用マスクの第１領域Ａ’に、第１の疑似の活性化領域上に形成される絶縁膜の所定領域が除去されるように絶縁膜除去用マスクパターン４０ａ’を修正設計する。 - 特許庁 - To provide a knitted jacket requiring not so much time for preparation for start of production or change in design, applicable to complicated patterning, highly flexible in design, reducing time and costs required for a cutting process, slightly causing cut loss, and excellent in wearing feeling: and to provide a method for producing the jacket.
製造開始の準備やデザインの変更にそれほどの時間と労力とを要することがなく、複雑な柄出しが可能でデザイン上の自由度が高く、裁断工程に要する時間とコストを削減することができ、カットロスが少なく、着心地の良いニット上着及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display wherein cost increase generated by patterning can be prevented, disturbance of liquid crystal injection due to presence of a protrusion in a liquid crystal layer can be avoided and reduction of contrast caused by light leakage at the time of black display can be avoided and to provide a manufacturing method of the same.
パターニングによるコスト高を防止し、液晶層内の突起の存在により、液晶の注入が妨げられるのを回避し、かつ黒表示時に光漏れが発生し、コントラストが低下するのを回避し得る液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, the glass substrate 21 is turned over and the back surface 21b is exposed upward, and a second mask 32 is arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 43 and 44 match the cut 22, before carrying out lithographic patterning on the back surface 21b of the glass substrate 21 according to a second mask pattern 42.
そして、ガラス基板２１を裏返し、ウラ面２１ｂを上方に露呈させ、アライメントマーク４３，４４が切り欠き２２に合致するように第２マスク３２をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のウラ面２１ｂに第２マスクパターン４２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁 - A movable electrode 20 is formed on a sacrifice layer 15 formed on a silicon substrate 1, and a wiring laminated part where a first interlayer insulation film 16, a first wiring layer 23, a second interlayer insulation layer 17, and a second wiring layer 24 are laminated in this order while partially patterning.
シリコン基板１上に形成された犠牲層１５上に可動電極２０を形成し、可動電極２０上に、第一層間絶縁膜１６、第一配線層２３、第二層間絶縁膜１７、第二配線層２４を、この順に一部をパターニングしながら積層させた配線積層部を形成する。 - 特許庁 - The antenna element 3 is roughly configured by patterning in total 4 layers of radiation conductors 5 to 8 to both ceiling and bottom faces and an intermediate layer of the dielectric base 4 adopting a multilayer structure, connecting the radiation conductors 5 to 8 in parallel and incorporating a varactor element 9 and a capacitor 10.
このアンテナ素子３は、多層構造の誘電体基体４の天地両面と中間層に計４層の放射導体５〜８をパターニングして、各放射導体５〜８を並列に接続すると共に、可変容量素子９やキャパシタ１０を組み込んで概略構成されている。 - 特許庁 - A method for producing the artificial marble in which the artificial marble is produced by injecting a material for producing the artificial marble obtained by additionally adding the patterning materials 1 into the matrix compound composed by mixing additives such as fillers and hardeners in a thermosetting resin into a casting mold, shaping and hardening it.
熱硬化性樹脂に充填剤と硬化剤などの添加物を配合したマトリックスコンパウンドに更に柄材１を添加して得た人造大理石成形用材料を注型用金型に注入して成形硬化させて人造大理石を製造する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁 - Immediately after a resist pattern 2a having light shielding property against exposure light and consisting of an electron beam-sensitive resist film 2 is formed by patterning the electron beam-sensitive resist film 2 applied on the principal face of a mask substrate 1, a pellicle PE is mounted on the principal face of the mask substrate 1.
マスク基板１の主面上に塗布された電子線感応レジスト膜２をパターニングすることにより、電子線感応レジスト膜２からなり露光光に対して遮光性を有するレジストパターン２ａを形成した直後にマスク基板１の主面にペリクルＰＥを装着する。 - 特許庁 - Preferably, a plastic substrate 12 having at least one side with a barrier layer 14a or 14b formed thereon is used for the flexible barrier substrate and the protective film is solubilized in the solvent by irradiation of light having a wavelength different from the exposure wavelength of a photosensitive resin used for patterning of the conductive film.
好ましくは、プラスチック基板１２の少なくとも一方の面にバリア層１４ａ，１４ｂが形成された可撓性バリア基板を用い、保護膜は、導電性膜をパターニングする際に用いる感光性樹脂の感光波長とは異なる波長の光照射によって溶剤に可溶化する。 - 特許庁 - The resin composition for an artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, an inner releasing agent, a hardening agent, a patterning material c which expresses an artificial marble pattern, or the like into a thermosetting resin, wherein it is characterized in that micro balloons a and thermal-expansible microcapsules b are added and compounded in combination into the resin composition.
熱硬化性樹脂に充填剤、内部離型剤、硬化剤、人造大理石柄を表現する柄材ｃ等の添加物を配合して得られる人造大理石用樹脂組成物において、マイクロバルーンａと熱膨張性マイクロカプセルｂとを併用して添加配合したことを特徴とする。 - 特許庁 - In a method for manufacturing the cement type inorganic material wherein a wet sheet material made from a cement kneaded substance is press-molded, when the patterning of the wet sheet material is press-molded, a pattern forming part is vacuum-sucked and the atmosphere (A) around the wet sheet material is made under a high pressure condition.
セメント混練物からの湿潤シート材をプレス成形するセメント系無機質材の製造方法において、プレス成形による湿潤シート材の模様付けに際し、模様形成部を減圧吸引するとともに、湿潤シート材の周囲の雰囲気（Ａ）を高気圧状態とする。 - 特許庁 - The plasma display is manufactured by the manufacturing method of the plasma display panel in which on a barrier rib material coating film installed on a glass substrate, a glass containing material to form a step forming layer is formed at a position of the vertical barrier rib in a stripe shape, and patterning of the lattice-shaped barrier rib is carried out afterwards.
ガラス基板上に設けられた隔壁材料塗膜上に、段差形成層となるガラス含有材料を縦隔壁位置にストライプ状に形成し、その後格子状の隔壁をパターニングすることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法により製造する。 - 特許庁 - In this method of correcting a defect part of a barrier rib of a substrate (back plate) for the plasma display panel provided with the barrier rib formed by patterning a barrier rib forming material and baking the same at a predetermined temperature, a barrier rib mending material is packed in the defect part of the barrier, and re-baked again.
障壁形成用材料をパターンニングし、所定の温度で焼成して障壁を形成したプラズマディスプレイパネル用の基板（背面板）の障壁の欠損箇所を修正する方法であって、障壁の欠損箇所を障壁補修材料で充填し、再度焼成する。 - 特許庁 - A master disc 15 is obtained by patterning a soft magnetic Co film 11 on the surface of a resin substrate 10 to form a discrete isolated magnetic film 11a in a specified region, elevating the temperature of the resin substrate 10, clamping a die 12 from above the isolated magnetic film 11a and then releasing the die 12.
マスターディスク１５は、樹脂基板１０の表面に成膜したCo軟磁性膜１１をパターニングして所定領域に離散的な孤立磁性膜１１ａを形成し、樹脂基板１０を昇温し、孤立磁性膜１１ａの上から金型１２で型押した後、金型１２を離型して得られる。 - 特許庁 - To provide a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element having a structure which does not require any step of patterning metallic foil, forming resist films, and so on, and to which a chip type organic positive temperature coefficient thermistor element manufacturing method by which the waste of materials can be reduced and yield can be improved can be applied.
金属箔のパターニングやめっきレジスト膜の形成などの工程が不必要であり、材料の無駄が少なく歩留まりがよいチップ型有機正特性サーミスタ素子の製造方法を適用できる構造を有するチップ型有機正特性サーミスタ素子を提供する。 - 特許庁 - After forming a lower electrode (step S1), temperature is raised up to a predetermined value in a mixture gas atmosphere of an inert gas and O_2 gas (step S2); thereafter a ferroelectric film is formed (step S3); and an upper electrode is formed and patterning and the like are executed (step S4, S5) to form the ferroelectric capacitor.
下部電極形成後（ステップＳ１）、不活性ガスとＯ_2ガスの混合ガス雰囲気中で所定温度まで昇温し（ステップＳ２）、その後、強誘電体膜を形成し（ステップＳ３）、上部電極形成およびパターニング等を行って（ステップＳ４，Ｓ５）、強誘電体キャパシタを形成する。 - 特許庁 - When a solid sample 1 having a rough on its surface is subjected to a lithography processing, the incident light 2 is inclined within the range of 10° to 60° relative to the normal direction of a substrate surface of the solid sample 1 for exposure, in an exposure process in which a resist is applied for patterning.
表面に凹凸のある立体サンプル１にリソグラフィー加工を行う際に、レジストを塗布してパターニングを行う露光工程において、入射光２を立体サンプル１の基板面の法線方向に対して、１０°以上６０°以下の範囲で傾斜させて露光する。 - 特許庁 - This warp knitting machine also includes pattern guide elements 30 for guiding patterning yarns constituting patterns of the knitted fabric and a driving unit 34 functioning to arrange the pattern guide elements 30 at predetermined pitches correspondingly to the part of the ground guide bar 26 and making the pattern guide elements 30 movable to any positions within the width of the ground guide bar 26.
編地の柄を構成する柄糸を導糸する柄ガイドエレメント３０と、柄ガイドエレメント３０を所定ピッチで地ガイドバー２６の一部分に対応して配置し、柄ガイドエレメント３０を地ガイドバー２６に対してその幅内の任意の位置に移動可能にする駆動装置３４を設ける。 - 特許庁 - A hard mask for etching the interlayer dielectric is formed by patterning the uppermost metal layer 5 of a multilevel interconnection insulated by the interlayer dielectric 3, and the interlayer dielectric 3 is etched using the mask to form the empty groove 4 which is located in the periphery of the semiconductor substrate 1 to makes its surface exposed.
層間絶縁膜３により絶縁された多層配線の最上層の金属層５をパターニングして層間絶縁膜エッチング用ハードマスクを形成し、このマスクを用いて、層間絶縁膜３をエッチングして半導体基板１の周辺部分に基板表面が露出する空堀４を形成する。 - 特許庁
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