「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 65 66 67 68 69 70 71 72 73 .... 78 79 次へ＞- To provide a developer for photosensitive polyimides, with which polyimide patterning for interlayer insulating films for multi-layered circuit boards and for α-ray shield layers, buffer coat layers and others for semiconductor memory devices is attained within a shorter period of time than with conventional developers and with which high resolution of developed patterns is ensured.
本発明は、多層配線板用の層間絶縁膜や半導体メモリー素子用のα線遮蔽膜、バッファーコート膜などのポリイミドパターン加工を従来と比較し短時間にて行え、現像パターンの解像度が高い感光性ポリイミド用現像液を提供する。 - 特許庁 - A different refractive index film is layered by (a) depositing an energy-sensitive insulating film on a substrate, (b) depositing a film having a 1st refractive index which is patterned by irradiation with patterning energy, and (c) depositing a film having a 2nd refractive index on the film having the 1st refractive index.
（ａ）基板上にエネルギー感受性の絶縁膜を形成し；（ｂ）パターン化エネルギーの照射により、パターン化された第１の屈折率を有する膜を形成し；（ｃ）該第１の屈折率を有する膜上に、第２の屈折率を有する膜を形成することにより、異なる屈折率膜を積層する。 - 特許庁 - In the patterning process of the gate, a polycrystalline silicon film 16a which constitutes the floating gate 6 is left in the element formation area 12, and besides in condition that the element isolation film 14 is exposed, the etching is stopped once, and a groove is made in the surface of the element isolating and insulating film 14.
ゲート部のパターニング工程では、浮遊ゲート６を構成する多結晶シリコン膜１６ａが素子形成領域１２に残され、且つ素子分離絶縁膜１４が露出した状態で一旦エッチングを止めて、素子分離絶縁膜１４の表面に溝２３を加工する。 - 特許庁 - The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁 - Thus, in the subsequent process to the patterning process, the two-dimensional bar codes 21, 22 are imaged, the manufacturing conditions are read from the obtained image, and the manufacturing process is performed according to the read manufacturing conditions, so that a mistake in setting the manufacturing conditions by a worker is reduced.
これにより、パターニング工程の後の工程では、二次元バーコード２１、２２を撮像し、得られた画像から製造条件を読み出し、読み出した製造条件に従って製造工程を実施することができ、作業者による製造条件の設定ミスを低減すること可能になる。 - 特許庁 - The lighting device includes a radiation surface, at least one light source 16 arranged so as to face the radiation surface, and a phosphor layer 24 arranged between the radiation surface and the light source by separating from the light source and patterning a phosphor excited by light emitted from the light source.
照明装置は、放射面と、放射面に対向して配置された少なくとも１つの光源１６と、放射面と光源との間に光源から離間して配置され、光源からの光により励起される蛍光体をパターニングした蛍光体層２４と、を備えている。 - 特許庁 - Such plural transparent conductive films 24 for the panel heater are arranged and installed along the diagonal line, and patterning is carried out over almost the entire face of the glass substrate 23, and a bus bar 25a is formed on a substrate brim of one side of the diagonal line taken as the center, and a bus bar 25b is also formed on the substrate brim of the other side.
このようなパネルヒーター用透明導電膜２４を対角線にそって複数個配設し、ガラス基板２３のほぼ全面にパターニングし、この対角線を中心として一方側の基板縁にバスバー２５ａを、他方側の基板縁にもバスバー２５ｂを形成する。 - 特許庁 - A method for manufacturing the polygonal semiconductor ring laser comprises steps of growing an n-type AlGaAs clad layer 11, an active layer region 12, an AlAs-current constriction layer 13, and a p-type AlGaAs clad layer 14 on an n-type GaAs substrate in Fig. (a); and patterning a first resist 1 thereon, in a shape of an optical waveguide.
（ａ）において、ｎ型ＧａＡｓ基板上に、ｎ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１１、活性層領域１２、ＡｌＡｓ電流狭窄層１３と、ｐ型ＡｌＧａＡｓクラッド層１４を成長させ、その上に第一のレジスト１を光導波路の形状にパターニングする。 - 特許庁 - A method for manufacturing the semiconductor device includes a step of sequentially forming the polycrystalline silicon film 5, the tungsten silicide film 6 and an insulating film 7 on the gate insulating film 4 of the main surface of a semiconductor substrate 1, a step of patterning them, and a step of forming the gate electrode 8 having the laminated structure of the polycrystalline silicon film 5 and the tungsten silicide film 6.
半導体基板１の主面のゲート絶縁膜４上に、多結晶シリコン膜５、タングステンシリサイド膜６および絶縁膜７を順に形成し、それらをパターニングして多結晶シリコン膜５およびタングステンシリサイド膜６の積層構造を有するゲート電極８を形成する。 - 特許庁 - The method of this invention for manufacturing a display device, in which at least a first electrode film (11), a light emitting film (13) and a second electrode film (14) are formed on a substrate (10), and has a feature of patterning at least any of the films by means of laser etching.
本発明の表示装置の製造方法は、基板上(10)に少なくとも第１の電極膜(11)、発光膜(13)及び第２の電極膜(14)を形成してなる表示装置の製造方法において、少なくともいずれかの膜をレーザエッチングによってパターニングすることを特徴とする。 - 特許庁 - In this production method of the integrated circuit, the step parts in the integrated circuit are reduced by providing a step for sticking a first conductive material layer 14 on a first inductive material layer 12 and a step for forming a first conductive pattern 15 by patterning the first conductive material layer 14.
第一の導電材料層１４を第一の誘電材料層１２の上に付着するステップと、第一の導電材料層１４をパターン化して第一の導電性パターン１５を形成するステップとを備える、集積回路中の段部を少なくする、集積回路の製造方法である。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element having an organic layer and a pattern-like insulating layer formed between electrodes, wherein patterning of the insulating layer is easy, and there is no risk of exerting a bad influence on the organic layer when forming the insulating layer.
電極の間に有機物層とパターン状絶縁層とが形成されている有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The resin composition is prepared by compounding a thermosetting resin with additives such as a filler, a patterning material, an internal mold release agent, a curing agent, etc., and is poured into a casting mold to be molded and hardened, giving an artificial marble molding.
熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、内部離型剤、硬化剤などの添加物を配合して得られる樹脂組成物で、これを注型用金型に注入して成形硬化させることにより人造大理石成形品を製造するのに用いる人造大理石製造用の樹脂組成物である。 - 特許庁 - In the method of manufacturing a thin film transistor, a thin film having a three-layer (first metal layer 38/ITO layer 40/second metal layer 42) structure is used simultaneously as a source electrode, a drain electrode and a pixel electrode to thereby omit the via forming step and the patterning for forming the pixel electrodes.
薄膜トランジスターの製造方法において、３層（第１金属層３８/ＩＴＯ層４０/第２金属層４２）構造の薄膜を、ソース電極とドレイン電極、および画素電極として同時に使用することにより、ビアホール形成工程と、画素電極形成のためのパターンニングを省略する。 - 特許庁 - In other words, when a defect occurs in the wiring 20 due to stress such as patterning in a wafer process, the defect causes resistance for increasing the value of the resistance of the wiring 20, and the defect in the wiring 20 is easily and highly sensitively detected.
すなわち、ウェハ工程においてパターニング等によるストレスによって欠陥検査用配線２０内に欠陥が発生すると、その欠陥が抵抗となって、欠陥検査用配線２０の抵抗値が増大するため、欠陥検査用配線２０内の欠陥を容易に、かつ、高感度に検出することができる。 - 特許庁 - The manufacturing method of the RF power detecting device comprises a step of forming the sensor section for detecting power of the RF signal in the lower substrate; a step of patterning the signal transmission line on the upper substrate; and a step of bonding the upper substrate and lower substrate to each other.
本発明によるＲＦパワー検出装置の製造方法は、下部基板にＲＦ信号パワーを検出するためのセンサ部を形成する段階と、上部基板に信号伝送線をパターニングする段階と、前記上部基板と下部基板とを結合する段階とを含む。 - 特許庁 - At the coating starting part, the timing of paste discharge and the timing of starting relative movement of a die head 12 and a substrate 11 are controlled so as to eliminate a region where the coating film thickness is unstable and carry out patterning while stably keeping a prescribed coating film thickness uniform from the coating starting point.
塗布始端部においては、液送ポンプ１４のペースト吐出とダイヘッド１２と基材１１の相対移動開始のタイミングを制御することにより、塗布膜厚の不安定領域をなくし、塗布開始位置より所定の塗布膜厚を安定して均一にパターニングする。 - 特許庁 - To provide a thermosetting resin composition which can be forming a highly flat cured film on a substrate, even on a substrate with low surface flatness, and be suitably used for manufacturing a protective film of a color filter which is highly transparent and enables good patterning of a wiring electrode.
表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性が高く、配線電極のパターニング特性が良好なカラーフィルタの保護膜を製造するために好適に用いられる熱硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - The polyamic acid achieves thick film formation and high resolution patterning because of its low molecular weight, and since the ethynyl or ethynylene group becomes a reactive crosslinking portion and causes three-dimensional crosslinking in heat imidation, the strength of the resulting film can be enhanced.
このポリアミド酸は、低分子量であるため、皮膜を厚膜で形成して、高解像度でのパターン化を実現することができ、また、加熱イミド化時には、エチニル基またはエチニレン基が反応性の架橋部位となって３次元架橋するので、得られる皮膜の強度を向上させることができる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board of which patterning accuracy is never lowered and which hardly causes pattern defects even if a pattern pitch becomes very small, and which allows the reduction in size of manufacturing facilities relatively easily and can make the lead time relatively short.
フレキシブル配線回路基板のパターンピッチが非常に小さくなった場合であっても、パターニング精度が低下せず、パターン不良も生じにくく、製造設備の小型化も比較的容易であり、リードタイムを比較的短くすることができる、フレキシブル配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁 - The method includes growing a nitride semiconductor layer on a GaN substrate having a non-polar or semi-polar crystal plane, the upper surface of which has a predetermined angle of intersection with respect to the c plane, patterning the nitride semiconductor layer, and forming light emitting cells separated from one another.
この方法は、上部表面がｃ面に対して一定の交差角をなす非極性または半極性の結晶面を有するＧａＮ基板上に窒化物半導体層を成長させ、前記窒化物半導体層をパターニングし、互いに分離された発光セルを形成することを含む。 - 特許庁 - To provide a donor film allowing the patterning of an organic LED layer by a transfer method by preventing a problem that a transfer layer is transferred to a substrate even in a part not irradiated with laser or a part without radiating heat thereof, in a transfer process.
転写工程において、レーザーを照射していない部分または熱を放射していない部分でも、転写層が基板に転写されてしまうといった問題を防止し、転写法による有機ＬＥＤ層のパターン化が可能となるドナーフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁 - The coating method consists of a solid coating process for thinly coating one surface with a paint having a transparent feeling, a patterning process for forcibly spraying a high viscosity paint not diluted with a thinner from a spray gun to apply irregular patterns wherein fine lines and spots are mixed and a finish process for applying a clear paint to bake the same.
透明感のある塗料を一面に薄く塗るベタ塗り工程と、シンナーで希釈しない高粘度の塗料をスプレーガンから強制的に吹き付けて、細かな線と点が混ざった不規則な模様をのせる模様付け工程と、クリアを塗って焼き付ける仕上げ工程とから成る。 - 特許庁 - By forming pad layers and raising the height of an intrinsic base layer relative to the source and drain of preexisting CMOS devices and by forming an extrinsic base through selective epitaxy, the effect of surface variations is minimized during a lithographic patterning of the extrinsic base.
パッド層を形成して、先在するＣＭＯＳデバイスのソースおよびドレインに対して真性ベース層の高さを隆起させることにより、かつ選択的エピタキシを介して外因性ベースを形成することにより、表面の凹凸の影響は、外因性ベースのリソグラフィによるパターン形成時に最小になる。 - 特許庁 - The external base layer is formed with two layers: a first external base layer 7 made of polycrystal silicon germanium and a second external base layer 8 whose etching rate differs from that of the first layer, the shape of the external base layer is subject to patterning and thereafter the second external base layer 8 is selectively removed by etching.
外部ベース層を、多結晶シリコンゲルマニウムからなる第１の外部ベース層７と、第１の層とはエッチングレートの異なる第２の外部ベース層８の２層から形成し、外部ベース部分の形状をパターニング後、第２の外部ベース層８をエッチングにより選択的に除去する。 - 特許庁 - Further, the first metal layer 23 has a patterning of a prescribed shape which is composed of a circuit pattern 231 connected electrically to the light emitting device 4 and functioning as an electric circuit and a heat radiating pattern 232 functioning for radiating heat generated by the light emitting device 4.
そして、第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された電気回路として機能する回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁 - Patterning is made according to the assumable combination of the current position of each car with its destination where the relation between the operation of the car and the common stopping floor is taken into consideration, and a plurality of operating patterns for operating the cars safely at the common stopping floor are set previously.
各乗りかごの運行と共通停止階との関連において各乗りかごの現在位置および行き先階の想定し得る組合わせによりパターン分けして、各々の乗りかごを共通停止階で安全に運行させるための複数の運行パターンをあらかじめ設定する。 - 特許庁 - Therefore, since several kinds of interference type filter layers are respectively arranged on the different layer through the interlayer film, the interlayer film being foundation functions as an etching stopper or an etching buffer in the case of patterning the filter layers, and dry etching can be performed to realize the scale-down of the color filter.
したがって、複数種類の干渉型フィルタ層が層間膜を介してそれぞれ別々の層に配置されているため、各フィルタ層をパターニングする際に、下地の層間膜画エッチングストッパ若しくはエッチングバッファとして機能し、ドライエッチングが可能となりカラーフィルタの微細化が可能となる。 - 特許庁 - In the spectroscopic module 1, a light absorption layer 6 having a light passage hole 6a for making light L2 advancing to a spectroscopic part 3 pass therethrough, and a light passage hole 6b for making light L2 advancing to a light detection part 4a of a light detection element 4 pass therethrough is formed integrally therewith by patterning.
分光モジュール１では、分光部３に進行する光Ｌ１が通過する光通過孔６ａ、及び光検出素子４の光検出部４ａに進行する光Ｌ２が通過する光通過孔６ｂを有する光吸収層６がパターニングによって一体成形される。 - 特許庁 - A plane waveguide type optical circuit where an under-clad layer 21, a core layer 20 obtained by patterning an optical waveguide layer 15, and an over-clad layer 22 covering over the core layer 20 or the like are formed on an Si substrate 10 is prepared as an optical circuit being an object where a diffraction grating is to be formed (figure 1 (a) to (c)).
Ｓｉ基板１０上に、アンダークラッド層２１、光導波層１５をパターニングしたコア層２０、及びコア層２０等を覆うオーバークラッド層２２を形成した平面導波路型光回路を、回折格子を形成する対象となる光回路として準備する（図１（ａ）〜（ｃ））。 - 特許庁 - In the method for patterning, a photo-curable resin 24 is applied on a face of the member 10 to be etched with the hollow 13 on which the dry etching is applied, and a mold 50 having a pattern corresponding to a mask 24a with taper-shaped side face to be formed on the member to be etched is pressed on the photo-curable resin.
空洞１３を有する被エッチング部材１０のドライエッチングを施す面に光硬化性樹脂２４を付与し、被エッチング部材上に形成すべきテーパー形状の側面を有するマスク２４ａに対応したパターンを有するモールド５０を光硬化性樹脂に押し付ける。 - 特許庁 - The apparatus further includes: a polarization changing element 10, such as a quarter-wave plate, that is adjustable; and a polarization analyzer 12, such as a linear polarizer, wherein the polarization changing element and the polarization analyzer are arranged in the radiation beam path at a position at which a patterning device is held by the support.
この装置は、４分の１波長板などの調整可能な偏光変化素子１０と、直線偏光子などの偏光アナライザ１２とをさらに含み、偏光変化素子及び偏光アナライザはパターン形成機器が支持体によって保持される位置のビーム経路内に整列配置される。 - 特許庁 - In particular, the patterning step contains photolithography treatment to selectively expose the organic insulating film by using a photomask MK with average transmittance set lower in light transmitting regions LT1 for the first openings than in light transmitting regions LT2 for the second openings and to remove the exposed parts.
特に、このパターニング工程は平均光透過率が第１開口用の光透過領域ＬＴ１において第２開口用の光透過領域ＬＴ２よりも低く設定されるフォトマスクＭＫを用いて有機絶縁膜を選択的に露光しこの露光部分を除去するフォトリソグラフィ処理を含む。 - 特許庁 - In the patterning method, a photosensitive heat-resistant resin precursor is applied on a substrate, dried, patternwise exposed, developed, subjected to heat treatment 1 at 50-200°C for a short time within 5 hr after the development and further subjected to heat treatment 2 at 250-450°C.
感光性耐熱樹脂前駆体を基板上に塗布、乾燥、パターン上に露光、現像した後、現像終了から５時間以内に５０℃〜２００℃で短時間熱処理１を実施した後、さらに２５０℃〜４５０℃で熱処理２を実施することを特徴とする感光性耐熱樹脂前駆体のパターン加工方法。 - 特許庁 - To provide a paste type alginate impression material for dentistry, usable for patterning of tooth and the like, wherein mixing state of two pastes is easily visually confirmed and color of the impression material is not adhered on plaster model surfaces.
本発明は、歯牙その他の型取りに使用されるペーストタイプの歯科用アルジネート印象材において、２つのペーストの混和状態を目視で容易に確認することができ、かつ石膏模型表面に印象材の色が付着しない歯科用アルジネート印象材を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To obtain a fading substrate capable of producing inexpensively and stably, by a simple method, a patterning controlled in the nice difference of various functions such as permeability, reflectivity, a hue or the like to a part of the colored metal oxide film formed on the surface of a transparent substrate.
透明基板表面に形成された着色金属酸化物被膜の一部に、透過率、反射率、色調等の各種機能の微妙な差をコントロールしたパターニングを、簡単な方法で安価に且つ安定して製造が可能な退色基板およびその製造方法に関する。 - 特許庁 - On sending the cloth P from upstream to downstream, and on stopping the cloth P once, the base stage 2 is pushed up with the lifting up and down device 4 and the cloth P on the base stage 2 is pushed to the rotary bodies 5 (the frictional bodies 5a) to make the surface of the cloth P bear with the frictional bodies 5a for patterning.
布Ｐを上流から下流に送り、布Ｐが一旦停止したときに、昇降機４により基台２を押し上げて基台２上の布Ｐを、回転する回転体５（摩擦体５ａ）に押し付け、摩擦体５ａにより布Ｐの表面を禿げさせて模様付を行う。 - 特許庁 - This process of using two exposures with diffusion light achieves the material use efficiency, costs, responses to various substrate sizes and high-definition electrode patterning that is not successful in the ink jet method, for instance, in manufacturing wiring electrodes, which the traditional manufacturing method cannot achieve.
拡散光を用いた２回露光プロセスによって、例えばタッチパネルの配線電極作成において従来の方法では解決できない材料使用効率、コスト、多様な基板サイズに対応という課題かつ、インクジェット方式では解決できない高精細電極パターニングを解決するものである。 - 特許庁 - Further, the manufacturing method of the photoelectric conversion device according to an embodiment includes: a process where a radiation part 8 is formed by radiating laser light to a part of the light absorption layer 3; and a process where a removal part is formed by removing the radiation part 8 by mechanical processing and patterning is performed on the light absorption layer 3.
さらに、本実施形態に係る光電変換装置の製造方法は、光吸収層３の一部に、レーザを照射してなる照射部８を形成する工程と、照射部８を機械加工で除去して除去部を形成し、光吸収層３をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁 - A light shielding pattern 2a composed of an organic film for transferring pattern is constituted of a laminated film which is formed by laminating a light absorbability organic film 3a, which shows a light shielding property or a light attenuating property to the exposure light of which wavelength is 200 nm or more, and a resist film 4a mainly to do patterning this.
パターン転写用の有機膜からなる遮光パターン２ａを、波長２００ｎｍ以上の露光光に対しても遮光性または減光性を示す吸光性有機膜３ａと、主としてこれをパターニングするためのレジスト膜４ａとの積層膜で構成した。 - 特許庁 - To provide a multi-layer film pattern which can fully prevent generation of an overhang part which overhangs from an end plane of a multi-layer film pattern, as well as generation of a failure caused by that overhang in the manufacturing method of a multi-layer film including a process of patterning the multi-layer film pattern in batch using one photomask.
一つのフォトマスクを用いて、多層膜を一括してパターニングする工程を含む、多層膜パターンの製造方法において、多層膜パターンの端面から張り出すひさし部分（オーバーハング部）の生成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁 - The magnetic recording medium has: a magnetic pattern formed by patterning a ferromagnetic layer; and the non-magnetic layer including a component of the ferromagnetic layer and parting the magnetic pattern, wherein a thickness (a) of the non-magnetic layer and a thickness (b) of the magnetic pattern satisfy a relation of (a)<(b).
強磁性層をパターン化した磁性パターンと、前記強磁性層の成分を含み前記磁性パターン間を分断する非磁性層とを有し、前記非磁性層の厚さａと前記磁性パターンの厚さｂがａ＜ｂの関係を満たすことを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁 - In the film formation method of the substrate 30, when an SiO_2 film 38 is formed on the substrate 30, the area S_1 of high etching resistance and the area S_2 of low etching resistance are formed so as to be along the uneven patterns of the patterning part 14 of an electrode plate 10.
本発明に係る基板３０の成膜方法においては、基板３０上にＳｉＯ_２膜３８を成膜すると、そのＳｉＯ_２膜３８には、電極プレート１０のパターニング部１４の凹凸パターンに沿うように、エッチング耐性の高い領域Ｓ_１と低い領域Ｓ_２とが形成される。 - 特許庁 - In a method of processing a material to be processed which is formed on a semiconductor substrate 101 or a material to be processed which comprises a plurality of multilayer films using a desired double patterning method, processing for defining the element isolation width can be performed twice when a pattern is formed.
半導体基板上に形成された被加工材料、若しくは複数の積層膜から構成される被加工材料を所望のダブルパターンニング法を用いて加工する製造方法において、パターンを形成する際、素子分離幅を規定する加工を２回行うことで解決できる - 特許庁 - A laser light 5 whose pattern is shaped through a mask 4 is given to a transparent conductive film 3 formed on a resin layer 2 on a substrate 1, and a part emitted by the laser light 5 in the transparent conductive film 3 is removed from the resin layer 2 for patterning.
基板１上の樹脂層２上に成膜された透明導電膜３に、マスク４を介してパターン成形されたレーザ光５を照射し、この透明導電膜３のこのレーザ光５照射部分をこの樹脂層２上から除去してパターニングするようにしたものである。 - 特許庁 - By this structure, connecting parts of both end light emitting elements to be actually used as light emitting elements to anode electrodes can be formed by patterning without breaking the pattern continuity, so that connecting parts at all light emitting elements to be used can be made uniform in dimensions.
このような構造にすると、発光素子として実際に使用する両端発光素子のアノード電極への接続部は、パターンの連続性が途切れずにパターニング形成できるようになるため、使用するすべての発光素子での接続部の寸法を均一に揃えることができる。 - 特許庁 - In manufacturing semiconductor device where upper metallic wiring and a lower conductive layer are coupled witch each other by a via, plasmaless ozone ashing is performed to prevent charges from being accumulated on the surface of a metallic plug where the above via is buried after patterning the above upper metallic wiring.
上部金属配線と下部導電層とをビアに連結する半導体装置の製造方法において、前記上部金属配線をパターニングした後、前記ビアを埋め込んでいる金属プラグの表面に電荷が蓄積されることを防止するために無プラズマ（plasmaless）オゾンアッシングを実施する。 - 特許庁 - The method for manufacturing an active element array includes a process of forming pixel electrodes and a process of forming an amorphous transparent conductive film and then patterning the amorphous transparent conductive film into the same pattern as the pixel electrodes by a photolithographic method.
アクティブ素子アレイの製造方法であって、画素電極を形成する工程と、非晶質透明導電膜を成膜した後、前記非晶質透明導電膜をフォトリソグラフィー法で前記画素電極を同じパターンに形成する工程を有するアクティブ素子アレイの製造方法。 - 特許庁 - To reduce capacitance between adjacent data electrodes and curtail power consumption accompanying data pulse impression by patterning dielectric layers.
ＡＣ型面放電プラズマディスプレイの背面基板のデータ電極の上には全面に誘電体層が形成されているため、隣接するデータ電極間の静電容量には当該誘電体層に基く容量成分が必然的に付加されることになり、データパルス印加に伴う消費電力が大きくなる。 - 特許庁 - A conductive film formed as a pixel electrode 119 is formed and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 119, source wiring 117, a drain region 116, and an amorphous semiconductor film 114 for channel formation.
画素電極１１９となる導電膜を形成し、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１１９、ソース配線１１７及びドレイン電極１１８、ソース領域１１５及びドレイン領域１１６、及びチャネルが形成される非晶質半導体膜１１４を形成する。 - 特許庁
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