「patterning」を含む例文一覧(3921)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 78 79 次へ＞- To provide a packaging material that has excellent cushioning properties and cushioning functions for preventing patterning or scratching of an object to be packaged, even without using a protective material or a cushioning material for preventing the object to be packaged, such as nonwoven fabric or a foamed cushioning material, from being patterned or scratched.
不織布や気泡クッション材のような被包装物の型入り・傷入りを防止するための保護材料やクッション材料を使用せずとも、クッション性に優れ、被包装物の型入り・傷入りを防止できるクッション機能を備えた包装材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a lighting tool suitable for use for a headlight for a vehicle or the like composed of a plurality of light source modules made in a compact shape with a simple structure and with a freedom in designing and light-distribution patterning enlarged.
本発明は、簡単な構成により、小型に構成され得、さらにデザインや配光パターンの自由度が大きくなるようにした、複数の光源モジュールから成る車両前照灯等の車両用灯具に適した灯具を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a patterning method, a manufacturing method of an electro-optical device and the device, a manufacturing method of a semiconductor device and the device, and a manufacturing method of a piezoelectric driving element and the element, capable of improving productivity without degrading machining accuracy.
加工精度を損なうことなく生産性を向上させることができるパターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetic detector, in particular, capable of reducing properly damage on an integrated circuit caused by a thin film process in patterning formation for a magnetoresistance effect element, and capable of compactifying the magnetic detector, and a manufacturing method therefor.
特に、磁気抵抗効果素子のパターニング形成の際の薄膜プロセスによる集積回路へのダメージを適切に軽減できるとともに、磁気検出装置の小型化を実現できる磁気検出装置及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - To simply and rapidly perform press molding by facilitating the design of material formulation, a pattern of the surface and the like and enlarging freedoms thereof in a patterning molding of a cement type inorganic material useful for a building material such as an external wall material, a tile and an interior material by pressing.
外壁材、瓦、内装材等の建材として有用なセメント系無機質材のプレスによる模様付け成形において、材料配合や表面柄等の設計を容易とし、それらの自由度を大きくして簡便かつ迅速にプレス成形を可能とする。 - 特許庁 - This forms a charge shield layer 250 which overlies exposed portion of a pattern 230 of the charge capture layer exposed, and after forming a gate layer 500 which fills up a recessed member, a gate layer 500 is treated by spacer etching and processed by patterning with a gate 501 of spacer formation.
これにより露出した電荷捕獲層のパターン２３０の露出部分上を覆う電荷遮断層２５０を形成し、リセスされた部位を充填するゲート層５００を形成した後、ゲート層５００をスペーサエッチングしてスペーサ形態のゲート５０１でパターニングする。 - 特許庁 - Then, the atmosphere near the laser beam irradiation face of the film is exhausted from the exhaust hole, a laser beam is emitted under the atmosphere locally decompressed by this exhaust, and the laser beam irradiation part of the film is removed from the substrate to perform patterning.
そして、透明導電膜のレーザ光照射面近傍の雰囲気を排気孔より排気し、この排気により局所的に減圧された雰囲気下でレーザ光を照射し、透明導電膜のレーザ光照射部分を基板上から除去してパターニングする。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition which can simply and efficiently be produced, can reduce the environmental pollution in its production, and enables high resolving patterning, and a polybenzoxazole resin obtained from the photosensitive resin composition.
簡易かつ効率良く製造することができ、しかも、その製造においては環境汚染を低減することができ、しかも、高解像度でパターンニングすることのできる感光性樹脂組成物、および、その感光性樹脂組成物から得られるポリベンゾオキサゾール樹脂を提供すること。 - 特許庁 - A metal catalyst is provided on a substrate by patterning, using a carbon compound as a carbon source in a reaction atmosphere, from the metal catalyst, a plurality of single-walled carbon nanotubes are formed, so as to produce a single-walled carbon nanotube bulk structure which has been patterned.
金属触媒を基板上にパターニングして設け、前記金属触媒から反応雰囲気ガス中で炭素源として炭素化合物を用いて、複数本の単層カーボンナノチューブを生成することにより、パターニングされた単層カーボンナノチューブ・バルク構造体を製造する。 - 特許庁 - The resist-removing composition relates to a composition for removing a resist for patterning metal lines in an electronic circuit or a display element, and the composition contains at least one of alkylene carbonate, tertiary amine and oxidizing agent.
本発明によるレジスト除去用組成物は、電子回路または表示素子の金属配線をパターン化するレジストの除去用組成物に関し、前記レジスト除去用組成物は、アルキレンカーボネート、および３級アミンおよび酸化剤のうちの少なくともいずれか一つを含む。 - 特許庁 - The resin holder is composed of a resin holder joined by an alkoxy silane compound having a thiol group in the front surface, for which patterning exposure is performed.
樹脂支持体と金属供給用フィルムを用いて作製されたプリント配線基板であって、当該樹脂支持体が、その表面にチオール基を持つアルコキシシラン化合物を結合させた樹脂支持体であり、かつパターニング露光を施されたことを特徴とするプリント配線基板。 - 特許庁 - To decrease patterning defects by preventing the drying and crystallizing of a processing liquid when separating and removing the processing liquid sticking to a substrate by an air knife and preventing the increase of the concentration of the cyclically used processing liquid by the waste gas of a processing chamber.
基板に付着した処理液をエアナイフで分離除去する際に処理液が乾燥して結晶化するのを防止するとともに、処理室の排気によって循環使用している処理液の濃度が上昇するのを防止し、パターニング不良を低減する。 - 特許庁 - A fine particle string 14 formed of fine particles 13 of a nano meter size is deposited, whereby in manufacturing the nano device, a solution containing the fine particles 13 is brought into contact with the substrate 11 in which a patterning layer 12 with a predetermined film thickness is partially formed.
ナノメータサイズの微粒子１３からなる微粒子列１４を堆積させることにより、ナノデバイスの作製する際に、所定の膜厚で構成されるパターニング層１２が部分的に形成されてなる基板１１に対して微粒子１３を含む溶液を接触させる。 - 特許庁 - To provide an overlay vernier mask pattern of a semiconductor element, along with a method of forming the same, capable of correctly forming a first overlay vernier pattern at a lower part and a second overlay vernier pattern at an upper part in the case where a triplex key method is utilized by applying a double patterning technology.
ダブルパターニング技術を適用して三重キーの方法を利用する場合、下部の第１オーバーレイバーニアパターンと、上部の第２オーバーレイバーニアパターンとが正常に形成されるようにする半導体素子のオーバーレイバーニアマスクパターンとその形成方法を提供する - 特許庁 - The process of forming the bank B has a process of forming a plurality of layers B1, B2 made of an inorganic material, a process of patterning these plurality of layers B1, B2 by using an organic mask R and a process of removing the organic mask R.
本発明においては、バンクＢの形成工程は、無機質の材料からなる層Ｂ１，Ｂ２を複数層形成する工程と、これら複数の層Ｂ１，Ｂ２を有機マスクＲを用いてパターニングする工程と、有機マスクＲを除去する工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a method for fixing a particulate substance such as a cell to a line-like pattern by patterning a membrane containing a functional substance having affinity for the particulate substance onto the surface of a solid phase carrier and making the particulate substance absorbed on the surface of solid phase carrier.
まず粒子状物質に親和性を有する機能性物質を含む膜を固相担体表面にパターニングし、これに粒子状物質を吸着させることによって、細胞等の粒子状物質をライン状のパターンに固定化する方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a film deposition device or film deposition system by which highly accurate substrate alignment for accurate patterning can be applied to a large-sized substrate especially having a side having a length exceeding 1 m without depending on a pressure state of an inner part of a vacuum chamber.
本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of the cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - The electric field with the mist focusing effect is generated by the modes of forming an electrode face by a recess (25) such as inverse tapered shape outside of the delivery port (12) and of applying different voltage to each electrode by patterning the electrode in the outside of the delivery port (12).
吐出口（１２）の外側に逆テーパ形状などの凹部（２５）による電極面を形成する態様や、吐出口（１２）の外側に電極をパターニングし、各電極に異なる電圧を印加する態様によってミスト集束効果のある電界を発生させる。 - 特許庁 - An insulating film 104, an amorphous semiconductor film 105 for channel formation, an n-type semiconductor film 106 formed as source and drain regions, and a conductive film 107 formed as source wiring and drain electrode are stacked (Fig. (A)), and then subjected to patterning operation with an identical photomask (Fig. (B)).
絶縁膜１０４、チャネルが形成される非晶質半導体膜１０５、ソース、ドレイン領域となるｎ型の半導体膜１０６及びソース配線及びドレイン電極となる導電膜１０７を積層し（図（Ａ））、同一のフォトマスクにてパターニングする（図（Ｂ））。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method in which a polymer EL element of high quality can be manufactured by improving the accuracy and by improving adhesiveness with a transcribed board 7 in patterning and transcription of an ink layer 2 using a relief reversed off-set method.
凸版反転オフセット法を用いたインク層２のパターニングおよび転写において、その正確性を向上させ、かつ、被転写基板７との密着性を向上させることにより、高品質の高分子ＥＬ素子を製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of measuring non-labeledly an interaction between the biomaterial and a sugar chain concurrently and all-inclusively at real time, using a micro amount of the biomaterial, and of screening and patterning the biomaterial, from the view point of specificity to the sugar chain.
微量の生体関連物質を用いて、生体関連物質と、糖鎖との相互作用を同時に非標識で、網羅的にリアルタイムで測定し、糖鎖に対する特異性の観点から生体関連物質をスクリーニングする方法やパターニングをする方法を提供する。 - 特許庁 - An interlayer insulating film 17 is formed on the whole surface of a result object on which the gate pattern is formed, and contact holes exposing a gate electrode 9g of the MOS transistor and a specified region of a resistor pattern 9r are formed by patterning the interlayer insulating film 17.
ゲートパターンが形成された結果物の全面に層間絶縁膜１７を形成し、層間絶縁膜１７をパタニングしてＭＯＳトランジスタのゲート電極９ｇ及び抵抗体パターン９ｒの所定領域を露出させるコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - A thermally crosslinked positive photosensitive material layer (first positive photosensitive material layer) and a second positive photosensitive material layer are formed on a substrate and then the second positive photosensitive material layer is patterned followed by patterning of the first positive photosensitive material layer.
基板上に、熱架橋したポジ型感光性材料層（第１のポジ型感光材料層）と第２のポジ型感光性材料層を形成し、まず、第２のポジ型感光性材料層にパターンを形成した後、第１のポジ型感光性材料層にパターンを形成する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturable when a method for patterning a semiconductor layer by a difference in level of a barrier plate pattern is applied to manufacturing of a bottom-gate/top-contact type organic TFT where a source electrode and a drain electrode are formed by using a printing method.
隔壁パターンの段差によって半導体層をパターニングする方法を、印刷法を用いてソース電極およびドレイン電極を形成するボトムゲート・トップコンタクト型の有機ＴＦＴの作製に適用して作製可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of removing laser processing residues and an apparatus for removing laser processing residues with improved burr removal efficiency by bringing burrs generated by laser processing in a patterning step into contact with the tip end parts of brushes of cleaning rolls without fault and thus reliably removing the burrs.
パターニング工程においてレーザ加工によって発生するバリとクリーニングロールのブラシ先端部との接触を洩れなく行い、バリを確実に除去し得て、バリ除去率を向上したレーザ加工残渣の除去方法およびレーザ加工残渣の除去装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a film carrier tape that reduces the full-etching warping or curling of a conductive layer which becomes one of the warping indexes of the conductive layer at the time of patterning the conductive layer by widening the selection width for the chemical structure of a polyimide film, and also to provide a method of manufacturing the tape.
ポリイミドフィルムにおける化学構造の選択の幅を広げ、導電層にパターニングを行った際の、反りの指標の一つとなる導電層フルエッチング時のそりやカールを低減させることができるフィルムキャリアテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of an organic EL element, capable of surely carrying out patterning of a coating of a display function material on a blanket, and surely forming and transferring a pixel pattern formed on the blanket to a transfer substrate, with the use of a letterpress reverse printing method.
凸版反転印刷法により、ブランケット上の表示機能性材料の塗膜のパターンニング、ブランケット上に形成された画素パターンを基材への転写基板に画素パターンを確実に形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法提供する。 - 特許庁 - To provide an organic electroluminescence display device for improving the characteristics of an element by patterning a multilayer organic film by a heat transfer system, optimizing thickness for each of R, G, and B pixels, and using a B emission layer as a common layer, and to provide a method for manufacturing the organic electroluminescence display device.
多層の有機膜を熱転写方式によりパターニングし、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素ごとに厚さを最適化させ、Ｂ発光層を共通層として用い、素子の特性を向上させられる有機電界発光表示装置及びその製造方法に関する。 - 特許庁 - The electrolytic copper foil for fine patterning is produced by cold rolling an original electrolytic copper foil, exposing crystal grains having grain size of not larger than 2 μm over the entire surface, and not smaller than 2% for manufacturing degree, thereby smoothing the foil surface.
ファインパターン用電解銅箔であって、平均粒径２μm以下の結晶粒が全面に渡り表出している電解銅箔の未処理銅箔を原箔とし、２％以上の加工度の冷間圧延加工を行い該箔表面を平滑化したことを特徴とする。 - 特許庁 - The fixed pins 3 are disposed at positions, as viewed in a flat plane, which overlap on an outer peripheral edge L1 located outside the effective area of the large-sized substrate placed on the substrate placing stage, and are also disposed at positions which overlap on a cut scheduled line L2 where the large-sized substrate is subjected to two-face patterning.
この固定ピン３の平面視での位置は、この基板載置ステージに載置される大型基板の有効エリア外となる外周縁Ｌ１に重なる位置に配置され、また大型基板を２面取りする裁断予定線Ｌ２に重なる位置にも配置されている。 - 特許庁 - Furthermore, after a surface channel layer 5, a gate oxide film 6, a gate electrode 7, etc., are formed in order, these are patterned by dry etching a contact hole for connecting the region 4 and a source electrode is formed simultaneously with patterning of the electrode 7.
さらに、表面チャネル層５、ゲート酸化膜６、ゲート電極７等を順に形成したのち、これらをドライエッチングによってパターニングし、ゲート電極７のパターニングと同時にｎ^+型ソース領域４とソース電極との接続を行うためのコンタクトホールを形成する。 - 特許庁 - To provide a method capable of manufacturing elements with high yield by carrying out patterning simply and in high precision on a flexible board, and to provide a manufacturing method of a display device capable of displaying in high definition while having flexibility by using the same.
可撓性基板上に簡単且つ高精度にパターニングを行って高い歩留りで素子を製造することができる方法、及びそれにより可撓性を有するとともに高精細な表示を行うことができる表示装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method with a high yield suppressing a defect at a multi-layered connection position in manufacturing a multi-layer POP structure semiconductor device by multi-layering the semiconductor device in the state of a multiple patterning wiring substrate package, and thereafter cutting it by collective cutting.
多数個取り配線基板実装パッケージの状態で多層化し、その後、一括切断による個片化をおこなって多層ＰＯＰ構造半導体装置を製造するとき、多層化接続個所での欠陥を抑止した、高歩留りでの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the analog capacitive element added to a DRAM cell part, a lower electrode 5 is formed with a gate electrode 4, the side wall insulating film 9 of a connection hole with a capacity insulating film 10 and an upper electrode 12 with a bit line by common materials/patterning.
ＤＲＡＭセル部に対して、付け加わるアナログ容量素子を、下部電極５はゲート電極４と、接続孔の側壁絶縁膜９は容量絶縁膜１０と、上部電極１２はビット線と、それぞれ共通の材料・パターニングにより作製する構造とする。 - 特許庁 - After formation of a thick resin film 5 and an upper layer contact hole 51 that penetrates the film, formation of a lower layer contact hole 41 that penetrates a gate insulation film 15 and patterning of an ITO film for the purpose of forming a transparent pixel electrode are performed all together, under one resist pattern 8.
厚型樹脂膜５及びこれを貫く上層コンタクトホール５１の形成後に、一つのレジストパターン８の下で、ゲート絶縁膜１５を貫く下層コンタクトホール４１の作成と、透明画素電極形成のためのＩＴＯ膜のパターニングとを一括して行う。 - 特許庁 - At this time, after all steps for the thin film transistor array and the color filter are completed, a gate pad and a data pad to be formed at respective one ends of the gate wiring and the data wiring are exposed so that the gate pad or the data pad is not exposed to the chemicals for patterning the color filter.
この時、前記ゲート配線及びデータ配線の一端に形成するゲートパッドまたはデータパッドが前記カラーフィルターをパターニングする薬液によって露出しないように、薄膜トランジスタアレイ及びカラーフィルター工程をすべて完了した後、最後の工程で前記ゲートパッド及びデータパッドを露出する。 - 特許庁 - After an ONO film is sandwiched to deposit two polysilicon films, patterning is performed, a memory gate electrode 8 comprising a floating gate electrode 5, an inter-electrode insulation film 6 and a control gate electrode 7 is formed on a tunnel insulation film 4, and a selection gate electrode part 18 is formed sideward thereof.
ＯＮＯ膜を挟んで２つのポリシリコン膜を堆積した後、パターニングして、トンネル絶縁膜４の上に、フローティングゲート電極５，電極間絶縁膜６及びコントロールゲート電極７からなるメモリゲート電極８を形成するとともに、その側方にセレクトゲート電極部１８を形成する。 - 特許庁 - A system and method for patterning a master disk or "stamper" to be used for nanoimprinting magnetic recording disks uses an air-bearing slider 30 that supports an aperture structure 50 within the optical near-field of a resist layer 11 on a rotating master disk substrate 10.
磁気記録ディスクをナノインプリントするために用いられるマスタ・ディスクすなわちスタンパをパターン化するためのシステム及び方法において、回転するマスタ・ディスク基板１０上のレジスト層１１の光近接領域内に開口構造５０を支持する空気軸受けスライダー３０が用いられる。 - 特許庁 - The method includes a step of preparing a photomask blank having a light shielding film 15 on a transparent substrate 14, a step of forming a first resist pattern by drawing and developing a resist film formed on the light shielding film, and a step of performing first patterning by etching the light shielding film with the first resist pattern as a mask.
透明基板１４上に遮光膜１５を有するフォトマスクブランクを準備する工程と、遮光膜上に形成したレジスト膜を描画、現像して第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンをマスクとして遮光膜をエッチングして第１のパターニングを行う。 - 特許庁 - The method of manufacturing a photoelectric conversion device further includes a step for forming a removal part 8 by removing a portion of the membrane 3a and then patterning the membrane 3a, and a step for forming a light absorption layer 3 equipped with the removal part 8 by calcining the membrane 3a thus patterned.
さらに、この光電変換装置の製造方法では、皮膜３ａの一部を除去して除去部８を形成し、皮膜３ａをパターニングする工程と、パターニングした皮膜３ａを焼成して、除去部８を備えた光吸収層３を形成する工程とを備えている。 - 特許庁 - The gate electrode of an insulation gate electric field effect transistor, constituting a peripheral circuit in a logical operation circuit area by patterning the first conductive layer in the logical operation circuit area, is formed while a dummy gate electrode is formed above the element separating area in the logical operation circuit area.
ロジック回路領域内の第１導電層をパターニングしてロジック回路領域内に周辺回路を構成する絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成するとともに、ロジック回路領域内の素子分離領域の上方にダミーゲート電極を形成する。 - 特許庁 - By irradiating ultraviolet rays on a region of the wetted variable film 30 overlapped with the pixel electrodes 21, patterning is carried out on lyophilic regions 22a and liquid-repellent regions 22b and liquid containing an organic compound is coated on the lyophilic region 22a to form an electroluminescent layer 23.
濡れ性可変膜３０のうち画素電極２１に重なった領域に紫外線を照射することにより、親液性領域２２ａと撥液性領域２２ｂにパターニングし、親液性領域２２ａに有機化合物含有液を塗布して、エレクトロルミネセンス層２３を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for patterning carbon nanotube able to pattern it with an optional size which is from submicron to a few mm for a large area or a curved face, furthermore being unnecessary for troublesome etching or a negative plate, superior in wear resistance with noncontacting type and being advantageous for industrial mass production.
大面積や曲面などに対してもサブミクロから数ミリまでの任意の大きさのパターニングが可能であり、しかも面倒なエッチング処理や原版を必要とせず、非接触方式で耐摩耗性に優れ、大量生産に適した工業的に有利なカーボンナノチューブのパターニング方法を提供する - 特許庁 - In the patterning method of a substrate for the display element having a gas barrier layer formed of at least one organic region and at least one inorganic region, wet etching is carried out, and for the etching, etching liquid of weak acid or weak base is used.
少なくとも１つの有機領域と、少なくとも１つの無機領域とからなるガスバリア層を有する表示素子用基板のパターニング方法であって、ウェットエッチングを行い、かつ、該エッチングに、弱酸または弱塩基のエッチング液を用いることを特徴とする表示素子用基板のパターニング方法。 - 特許庁 - This manufacturing method of the wiring board comprises the steps of forming a wiring pattern 20 by patterning a conductive layer 12 formed on the surface of a base board 10, and forming holes 30 in the base board 10 by etching the portions exposed from the wiring pattern 20 on the surface of the base board 10.
配線基板の製造方法は、ベース基板１０の表面に形成された導電層１２をパターニングして配線パターン２０を形成すること、及び、ベース基板１０の表面における配線パターン２０からの露出部をエッチングしてベース基板１０に穴３０を形成することを含む。 - 特許庁 - A conductive film 112 as a pixel electrode is formed (Fig. (C)) and subjected to patterning operation using the same photomask to form a pixel electrode 119, source wiring 117, a drain electrode 118, a source region 115, a drain region 116 and an amorphous semiconductor film 114 for channel formation (Fig. (D)).
画素電極となる導電膜１１２を形成し（図（Ｃ））、同一のフォトマスクにてパターニングすることにより、画素電極１１９、ソース配線１１７及びドレイン電極１１８、ソース領域１１５及びドレイン領域１１６、チャネルが形成される非晶質半導体膜１１４を形成する（図（Ｄ））。 - 特許庁 - Accordingly, a thin resist film can be formed at the time of patterning the upper electrode, an increase (with gradual sloping) in the tapering angle of the upper electrode among the capacitance elements can be controlled by the control of a CD shift, and thereby an improvement in machining accuracy and fine processing can also be attained.
これにより上部電極をパターニングする際のレジスト膜厚を薄膜化でき、ＣＤシフトの抑制により、容量素子間の上部電極のテーパー角度が大きく（傾斜が緩やかに）なることを抑制し、加工精度の向上や微細加工を実現することができる。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁 - To provide a color filter substrate which is free of a problem of pattern precision in patterning or a problem of color unevenness or color absence on a surface when not only a colored layer formed of ink using dye, but also a colored layer of ink using, especially, pigment is formed.
染料を用いたインクからなる着色層のみならず、特に顔料を用いたインクにより着色層を形成しても、パターニング時にパターン精度に問題が発生しない、あるいは着色層の面内の色ムラや色抜けの問題が生じないカラーフィルタ基板を提供すること。 - 特許庁
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