「phase shift method」を含む例文一覧(553)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- PHASE SHIFT MASK AND ITS DESIGN METHOD
位相シフトマスクおよびその設計方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD
位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND PHASE SHIFT MASK
パターン形成方法及び位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR FABRICATING THEM
位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK FOR CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING CHROMELESS PHASE SHIFT MASK
クロムレス位相シフトマスク用フォトマスクブランク、クロムレス位相シフトマスク、及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASUREMENT OF PHASE DIFFERENCE OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの位相差測定方法および装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK
ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN
位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN
位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK
スパッタリングターゲット、その製造方法、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK
位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造装置 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - CORRECTION METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
ハーフトーン型位相シフトマスクの修正方法及び位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND WAFER
位相シフトマスクの修正方法と位相シフトマスク及びパターン転写方法並びにウェハー - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFT PHOTOMASK
透過型位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - EXPOSURE METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
露光方法及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びに半導体素子の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR SETTING PHASE SHIFT AMOUNT, AND PHASE SHIFT PHOTOMASK AND METHOD FOR FABRICATING PHOTOMASK
位相シフト量設定方法、並びに、位相シフト型のフォトマスク及びその作製方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - EAVES QUANTITY MEASURING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクのひさし量測定方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁 - PRODUCTION OF PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING PHASE DIFFERENCE
位相シフトマスクの製造方法および位相差測定方法 - 特許庁 - METHOD FOR DETERMINING ALIGNMENT WHEN PHASE SHIFT REGION IS FORMED IN MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの製造における位相シフト領域形成時のアライメント決 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DETERMINING PHASE SHIFT IN SIGNAL
信号中の位相シフトを決定する方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME
位相シフトマスク用ブランク及び位相シフトマスク及びそれを用いたパターン転写法 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT IMAGING DEVICE, COMPONENT TRANSFER DEVICE, AND PHASE SHIFT IMAGING METHOD
位相シフト画像撮像装置、部品移載装置および位相シフト画像撮像方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK
パターン形成方法、半導体装置の製造方法、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの設計方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法 - 特許庁 - MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK
マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - INSPECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, INSPECTING DEVICE FOR PHASE SHIFT MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの検査装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
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