「phase shift method」を含む例文一覧(553)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- PHASE SHIFT CALCULATION METHOD FOR FINITE IMPULSE RESPONSE AND EXECUTION SYSTEM
有限インパルス応答のための位相シフト計算法と実行システム - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DEMODULATION OF OPTICAL DIFFERENTIAL PHASE SHIFT KEYED SIGNALS
光差分位相シフト・キー信号を復調する方法および装置。 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF CONDENSING ELEMENT, CONDENSING ELEMENT AND PHASE SHIFT MASK
集光素子の製造方法、集光素子および位相シフトマスク - 特許庁 - To provide a chromeless phase shift mask and a method of fabricating the mask.
クロムレス位相反転マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE AND PROGRAM
位相シフトマスクの製造方法、近接効果補正装置およびプログラム - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク並びにパターン転写方法 - 特許庁 - MEASURING APPARATUS FOR INTERFERENCE OF PHASE SHIFT, METHOD THEREFOR AND RECORD MEDIUM
位相シフト干渉測定装置及び方法、並びに記憶媒体 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD USING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AS WELL AS METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス及びその製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いたレジストパターン形成方法、並びに半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING DISTORTION USING PHASE-SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHIC METHOD
位相シフトデジタルホログラフィ法を用いた歪計測方法および歪計測装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT
位相シフトマスクおよびその製造方法、ならびに集積回路の製造方法 - 特許庁 - To improve the precision in measuring the phase difference of exposure light, in a phase-shift mask inspection method.
位相シフトマスクの検査方法において露光光の位相差の計測精度を向上させること。 - 特許庁 - In a method of forming a pattern, multiple exposures are effected, using a Levenson phase shift mask 10 and a half-tone phase shift mask 20, respectively.
パターン形成方法において、レベンソン位相シフトマスク１０、ハーフトーン位相シフトマスク２０のそれぞれで多重露光を行う。 - 特許庁 - METHOD OF DEPOSITING MATERIAL PROVIDING SPECIFIED ATTENUATION AND PHASE SHIFT
特定の減衰および位相シフトを与える材料を堆積させる方法 - 特許庁 - DIFFERENTIAL PHASE SHIFT KEYING LIGHT TRANSMITTING SYSTEM AND LIGHT TRANSMITTING METHOD THEREOF
差動位相シフトキーイング光伝送システムおよびその光伝送方法 - 特許庁 - PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING
位相シフト干渉縞同時撮像における平面形状計測方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS BLANK AND METHOD FOR PRODUCING THOSE
ハーフトーン型位相シフトマスクおよびそのブランク並びにそれらの製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING PHASE SHIFT BETWEEN TRANSMITTER AND RECEIVER
送信器と受信器との間の位相シフトを補正する方法及び装置 - 特許庁 - MOBILE COMMUNICATION BASE STATION, AND PHASE SHIFT COMPENSATION METHOD USED FOR IT
移動体通信基地局、及びそれに用いる位相ずれ補償方法 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING MISALIGNMENT MEASUREMENT MARK
ハーフトーン型位相シフトマスク及び合わせずれ測定マークの測定方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING SAME
ハーフトーン位相シフトマスク、その製造方法およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, AND LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK
半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスク。 - 特許庁 - MULTIPLE CHANNEL VOICE TRANSFER SYSTEM WITH AUTOMATIC PHASE CORRECTING FUNCTION, METHOD, PROGRAM, AND AUTOMATIC PHASE SHIFT ADJUSTING METHOD
位相自動補正機能付き複数チャンネル音声転送システム、方法、プログラム、および位相ずれ自動調整方法 - 特許庁 - To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.
半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスクの製造方法、レジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR ENHANCING POSITIVE (CLEAR FIELD) PHASE SHIFT MASK (TRANSPARENT PHASE SHIFT MASK WITH OPAQUE APERTURE) WITH BORDER REGIONS AROUND PHASE 0 REGION AND PHASE 180 REGIONS
位相０領域及び位相１８０領域の周辺の境界領域を用いてポジ型（ＣＦ：ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ）位相シフトマスク（不透明な開口を有する透明な位相シフトマスク）の向上を図る方法 - 特許庁 - To obtain a correction method for the characteristics of a halftone phase shift mask which is capable of correcting the transmittance and phase difference characteristic of the halftone phase shift mask to the desired transmittance and phase difference.
ハーフトーン位相シフトマスクの透過率及び位相差特性を、所望の透過率及び位相差に補正することができるハーフトーン位相シフトマスクの特性の補正方法を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK OR MASK DATA THEREOF, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスク又はそのマスクデータの作成方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - LIGHT RECEIVER AND LIGHT RECEIVING METHOD CORRESPONDING TO DIFFERENTIAL QUADRATURE PHASE SHIFT KEYING METHOD
差分４位相偏移変調方式に対応した光受信器および光受信方法 - 特許庁 - To provide a phase shift mask, a method for manufacturing the same, and a method for manufacturing a semiconductor element.
位相シフトマスクとその製造方法及び半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
ハーフトーン位相シフトマスクおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A method for manufacturing the Levenson phase shift mask includes a (a) step and a (b) step.
レベンソンマスクの製造方法は、（ａ）工程と（ｂ）工程とを具備している。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR CORRECTION OF SHIFTER RESIDUE DEFECT ON PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置 - 特許庁 - To provide a method (1100) for fabricating a phase shift mask (104).
位相シフトマスク（１０４）を製作するための方法（１１００）を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING ATTENUATED PHASE SHIFT MASK AND DEVICE OBTAINED THEREFROM
減衰型の位相シフトマスクの製造方法およびこれにより得られるデバイス - 特許庁 - To provide a phase shift mask which does not produce unwanted exposure images caused by a phase shift effect, and to provide a method for manufacturing the mask.
位相シフト効果によって発生する不要な露光イメージが発生しない位相シフトマスク、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - PHASE SHIFT METHOD AND DEVICE FOR REALIZING PHASE DIFFERENCE OBSERVATION OR MODULATION CONTRAST OBSERVATION IN MICROSCOPE
顕微鏡で位相差観察または変調コントラスト観察を実現するための位相シフト方法および装置 - 特許庁 - OPTICAL PHASE CONTROLLER FOR PHASE SHIFT INTERFEROMETER FOR PLANE MEASUREMENT AND OPTICAL PHASE CONTROL METHOD FOR THE SAME, AND STORAGE MEDIUM WITH OPTICAL PHASE CONTROL PROGRAM
平面計測用位相シフト干渉計の光学的位相制御装置、光学的位相制御方法及び光学的位相制御プログラムを格納した記憶媒体 - 特許庁 - PLANE SHAPE MEASURING METHOD IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING DEVICE
位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法 - 特許庁 - PRECISE PHASE SHIFT GENERATOR, PRECISE LENGTH MEASUREMENT SYSTEM, AND PRECISE LENGTH MEASUREMENT METHOD
精密フェーズシフト発生装置と精密長さ測定システム及びその測定方法 - 特許庁 - OPTICAL DISK UNIT AND PHASE SHIFT DETECTION METHOD APPLIED TO OPTICAL DISK UNIT
光ディスク装置および光ディスク装置に適用される位相ずれ検出方法 - 特許庁 - PLANE SHAPE MEASURING METHOD FOR PHASE-SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS PHOTOGRAPHING DEVICE
位相シフト干渉縞同時撮像装置における平面形状計測方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MASK PATTERN CORRECTION
半導体装置の製造方法、位相シフトマスク、マスクパターン補正方法およびマスクパターン補正プログラム - 特許庁 - RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK USING SAME
感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR TRANSFERRING MASK PATTERN BY USING SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法及びそれを用いたマスクパターン転写方法 - 特許庁 - From an obtained image a displayed phase image is obtained by applying a Fourier transformation phase shift method.
そして、得られた表示画像に対して、フーリエ変換位相シフト法を用いることで表示位相画像が求められる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a halftone type phase shift mask which can improve phase difference accuracy.
位相差精度を向上できるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - DEVICE AND SYSTEM OF IMPROVING PHASE SHIFT MASK IMAGING PERFORMANCE AND METHOD THEREOF
位相シフトマスク撮像性能を向上させる装置およびシステム、ならびにその方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR DETECTING PHASE SHIFT OF MAGNETIC POLE POSITION SENSOR FOR SYNCHRONOUS MOTOR
同期モーター用磁極位置センサーの位相ズレ検出装置および検出方法 - 特許庁 - ALIGNER AND MANUFACTURING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND ITS DESIGN METHOD
露光装置および半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法 - 特許庁
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