「phase shift method」を含む例文一覧(553)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスク検査装置及び位相シフトマスク検査方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT PHOTOMASK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフト型フォトマスクの製造方法、位相シフト型フォトマスク、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁 - METHOD FOR SPECIFYING PHASE DIFFERENCE, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, THE PHASE SHIFT MASK, EXPOSURE METHOD USING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
位相差特定方法、位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、それを用いた露光方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - To provide a phase shift mask using CrAlON as a phase shift material and a method for manufacturing the same.
ＣｒＡｌＯＮを位相シフト物質として使用した位相シフトマスクおよびその製造法を提供する。 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD BY USING SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク、並びにパターン転写法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, EXPOSURE METHOD, AND PRODUCTION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスク、露光方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁 - MASK BLANK FOR PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE, PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE
基板彫り込み型の位相シフトマスク用のマスクブランクス、基板彫り込み型の位相シフトマスク、および基板彫り込み型の位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION-TYPE PHASE SHIFT MASK FOR EUV LIGHT EXPOSURE
ＥＵＶ露光用反射型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PROGRAMMING METHOD OF PHASE SHIFT MEMORY AND WRITING DRIVER CIRCUIT
相変化メモリのプログラミング方法および書込みドライバ回路 - 特許庁 - INTERPULSE PHASE SHIFT MEASUREMENT DEVICE, OFFSET FREQUENCY CONTROLLER, INTERPULSE PHASE SHIFT MEASUREMENT METHOD, AND OFFSET FREQUENCY CONTROL METHOD
パルス間位相ズレ測定装置、オフセット周波数制御装置、パルス間位相ズレ測定方法、オフセット周波数制御方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
位相シフトマスクおよび半導体集積回路の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁 - To perform switching smoothly when rotation of a brushless motor is controlled using 90° phase shift method and 30° phase shift method.
ブラシレスモータを９０°位相シフト法と３０°位相シフト法を用いて回転制御する際に、切り換えを滑らかに行う。 - 特許庁 - DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME
位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁 - TARGET FOR FORMING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK
成膜用ターゲット及び位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁 - INSPECTION SYSTEM AND METHOD WITH MULTI-IMAGE PHASE SHIFT ANALYSIS
マルチイメージフェーズシフト解析を用いた検査システム及び方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
位相シフトマスク及び、それを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁 - WAVEGUIDED ALTERNATING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ウェーブガイド型交互位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁 - To provide a phase shift mask which is capable of easily forming desired pattern shapes, a method of manufacturing the phase shift mask and an exposure method using the phase shift mask.
所望のパターン形状を容易に形成することのできる位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an improved attenuated phase shift mask, a method of manufacturing such an attenuated phase shift mask and a method for using such an attenuated phase shift mask.
改善した減衰型の位相シフトマスク、こうした減衰型の位相シフトマスクの製造方法、およびこうした減衰型の位相シフトマスクの使用方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phase shift mask which makes the discovery of the defect produced in a phase shift layer possible in an early stage of a manufacturing process, a phase shift mask manufactured by this method for manufacturing the phase shift mask and a device manufactured by the phase shift mask.
製造プロセスの早い段階で位相シフト層に生じた欠陥の発見を可能とする、位相シフトマスクの製造方法、その位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスク、および、その位相シフトマスクにより製造された装置を提供する。 - 特許庁 - MR IMAGING METHOD, PHASE SHIFT MEASURING METHOD, AND MR IMAGING DEVICE
ＭＲイメージング方法、位相シフト測定方法およびＭＲイメージング装置 - 特許庁 - MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING TEMPLATE
マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及びテンプレートの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT
位相シフトマスクとその製造方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁 - PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD
フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING STEP ON TRANSPARENT FILM AND METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK
透明膜の段差の測定方法及び位相シフトマスクの作成方法 - 特許庁 - The phase control unit 180 estimates a phase shift of the phase shifter 174 in accordance with an output RF signal S140 by using the phase shift estimation method.
位相制御部１８０は、位相ずれ推定方法を用いて、出力ＲＦ信号Ｓ１４０に基づいて、位相シフタ１７４の位相ずれを推定する。 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR HIGHLY ACCURATELY MEASURING PHASE SHIFT IN HIGH-FREQUENCY PHASE MODULATOR
高周波位相変調器における位相シフトの高精度測定装置および方法 - 特許庁 - SYSTEM, EQUIPMENT, AND METHOD FOR MASKLESS LITHOGRAPHY EMULATING BINARY, ATTENUATION PHASE SHIFT, AND ALTERNATING PHASE SHIFT MASKS
バイナリ、減衰フェーズシフトおよび交番フェーズシフトマスクをエミュレートするマスクレスリソグラフィ用のシステムおよび装置および方法 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift photomask blank, a halftone phase shift photomask, and a fabricating method thereof.
ハーフトーン型位相シフトフォトマスクブランクとハーフトーン型位相シフトフォトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - RECEIVING DEVICE, PHASE SHIFT NETWORK CIRCUIT, AND IMAGE REJECTION METHOD
受信装置、フェーズシフトネットワーク回路、およびイメージリジェクション方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LAMINATE
位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに積層体 - 特許庁 - PHASE SHIFT ARITHMETIC CIRCUIT AND CHANNEL ESTIMATE METHOD EMPLOYING THE SAME
位相ずれ演算回路及びそれを用いるチャネル推定方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT KEYING RECEIVER AND CORRECTION METHOD OF IMBALANCE IN AMPLITUDE AND PHASE
位相偏移変調受信装置および振幅および位相の不平衡の補正方法 - 特許庁 - SIGNAL ESTIMATION UNIT WITH PHASE-LOCKED LOOP CIRCUIT AND PHASE SHIFT CORRECTING METHOD FOR RECEIVED SIGNAL
位相同期ループ回路付き信号推定器、及び受信信号の位相ずれ補正方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MODULATION RECEIVER, AND CORRECTING METHOD FOR UNBALANCE OF AMPLITUDE AND PHASE
位相偏移変調受信装置および振幅および位相の不平衡の補正方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
位相シフトマスク、その製造方法、およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
ハーフトーン位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE VERSION PHASE SHIFT MASK, ITS PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びその位相シフトマスク及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURE, AND ALIGNMENT DETECTING METHOD
位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにアライメント検出方法 - 特許庁 - FORMING METHOD AND FORMING DEVICE OF IMAGE CONTRAST BY PHASE SHIFT
位相シフトによる画像コントラストの形成方法および形成装置 - 特許庁 - LEVENSON PHASE SHIFT MASK AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
レベンソン位相シフトマスク及びこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR GENERATING REFERENCE IMAGE AND INSPECTION APPARATUS FOR PHASE SHIFT PHOTOMASK
参照画像の生成方法及び位相シフトフォトマスク検査装置 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT PHOTOMASK AND BLANK FOR THE SAME
位相シフトフォトマスク及び位相シフトフォトマスク用ブランクスの製造方法 - 特許庁
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