「phase shift method」を含む例文一覧(553)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 次へ＞- PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
位相シフトマスク、位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING AMOUNT OF PHASE SHIFT AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクスの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT CONTROLLER, PHASE SHIFT METHOD, AND LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT USING THOSE
位相シフトコントローラ、位相シフトの方法、およびそれらを用いた発光装置、電子機器 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK USING CrAlON AS PHASE SHIFT MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ＣｒＡｌＯＮを位相シフト物質として使用した位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK HAVING THREE DIFFERENT PHASE SHIFT REGION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
３つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトフォトマスクブランクス及び位相シフトフォトマスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER
位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法 - 特許庁 - PUSH-PUSH OSCILLATOR AND PHASE SHIFT MONITORING METHOD
プッシュプッシュ発振器及び位相ずれ監視方法 - 特許庁 - LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS INSPECTION METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその検査方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS
位相シフトマスクの製造方法と半導体装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの設計方法および設計装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD USING THE SAME
位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE METHOD THEREOF
位相シフトマスク及びその製造方法並びに露光方法 - 特許庁 - SHAPE MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD
位相シフト法による形状測定方法及び測定装置 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - CHROMELESS PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
クロムレス位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁 - THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD
位相シフト法による三次元形状測定装置 - 特許庁 - LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS
ホトリソグラフィー工程の位相シフトマスクの形成方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PHASE-SHIFT NULL-BURST-PATTERN
位相シフトヌルバーストパターンのための方法及び装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT ADJUSTING METHOD FOR POLARIZING BEAM SPLITTER FILM
偏光ビームスプリッター膜の位相シフト調整方法 - 特許庁 - PHASE CALIBRATION METHOD FOR ATTENUATING PHASE-SHIFT MASK, TEST STRUCTURE AND SYSTEM
減衰位相シフト・マスクの位相較正の方法、試験構造、およびシステム - 特許庁 - PHASE-CONTINUOUS OPTICAL FREQUENCY SHIFT MODULATOR, AND PHASE-CONTINUOUS OPTICAL FREQUENCY SHIFT MODULATION METHOD
位相連続光周波数偏移変調器、位相連続光周波数偏移変調方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにパターン転写方法。 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK OBTAINED BY USING THE SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THESE
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びに位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - COMMUNICATING METHOD BY PHASE SHIFT CONTROL, AND ITS APPARATUS
移相制御による通信方法及びその装置 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SANE
ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法 - 特許庁 - MAGNETIC STORAGE DEVICE AND METHOD FOR MEASURING PHASE SHIFT AMOUNT
磁気記憶装置及び位相ずれ量測定方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT CONDENSING ELEMENT
位相シフトマスクおよび集光素子の製造方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR SIMULTANEOUSLY ESTIMATING PHASE SHIFT AND FREQUENCY SHIFT
位相偏移および周波数偏移の同時推定方法およびその装置 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE
位相シフトマスクの製造方法及び電子デバイスの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN
位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法 - 特許庁 - SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法 - 特許庁 - SELF-ALIGNING PHASE SHIFT PHOTOMASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
自己整合型位相シフトフォトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR CLEANING PHASE SHIFT PHOTOMASK
位相シフトフォトマスクの洗浄方法および洗浄装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
位相シフトマスクおよびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME
位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法 - 特許庁 - SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
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