「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 57 58 59 60 61 62 63 64 65 .... 85 86 次へ＞- To surely detect a dispensation amount by image analysis, even when an edge specific to a chip is subjected to mask processing, when imaging a disposable chip before and after discharge of sucked liquid and detecting the dispensation amount from a difference of the liquid level imaged as the edge.
吸引した液体を吐出した前後のディスポチップを撮像し、エッジとして撮像される液面の差から分注量を検出する際、チップ固有のエッジをマスク処理する場合でも、画像解析により分注量を確実に検出できるようにする。 - 特許庁 - To provide an application film forming method for applying liquid raw material (vanish) which is obtained by dissolving a desired a material or the precursor in solvent to a substrate, processing the liquid film, volatilizing and removing solvent included in the film and obtaining the film whose surface is flat.
所望の物質又はその前駆体を溶媒もしくは溶剤に溶解させてなる液状原料（ワニス）を基板に塗布し、この液状膜を処理してその中に含まれている溶剤を揮発除去して表面が平坦な膜を得る塗布膜形成方法。 - 特許庁 - Since sides of a detecting port 35 of the gas supply pipe 25 are surrounded by a detecting port protecting member 51; the processing liquid supplied from a jet pipe does not directly flow to the surrounding of the detection port 35, and the effect by the liquid flow can be prevented.
気体供給管２５の検出端３５の側方が検出端用保護部材５１で囲われているので、噴出管から供給された処理液が直接的に検出端３５付近に流れ込むことがなく、その液流による影響が防止できる。 - 特許庁 - This manufacturing method of the slurry for texture processing a magnetic recording medium adds a diamond dispersed acid liquid containing diamond grain abrasives to a coolant containing higher fatty acid, wherein the diamond dispersed liquid is added in droplets of 100 pL or less in volume.
高級脂肪酸を含むクーラントに対して、ダイアモンド砥粒を含む酸性のダイアモンド分散液を添加する際に、ダイアモンド分散液が体積１００ｐＬ以下の液滴として添加されることを特徴とする磁気記録媒体のテクスチャー加工用スラリーの製造方法。 - 特許庁 - The process liquid supply means comprises a nozzle 30 for supplying the processing liquid almost uniformly in the one-side direction of the substrate 20, and the moving means moves the nozzle 30 on the principal surface of the substrate 20 orthogonal to the one-side direction.
上記処理液供給手段は、基板２０の一辺方向に対して略均等に処理液を供給可能なノズル３０からなり、上記移動手段は、ノズル３０を前記一辺方向と直交する基板２０主表面上を移動させる手段である。 - 特許庁 - To provide a processing method of a surface gloss base material for a liquid container capable of being manufactured using a known machine such as a hot stamping machine, a flat press machine or a flat sheet punching method without requiring a complicated work process or the like, and the surface gloss base material for the liquid container.
煩雑な作業工程等を要せず、箔押し機や平板プレス機あるいは平板打ち抜き機等公知の機械を用い作製することができる液体容器用表面光沢基材の加工方法および液体容器用表面光沢基材を提供する。 - 特許庁 - A processing apparatus A for discharging a battery pack P composed of unit cells c and a housing b by immersion in a discharging liquid is provided with an opening machine 20 which pressurizes the battery pack P to form an opening in the housing b, through which the discharging liquid can flow into the housing b.
単電池ｃと筐体ｂとからなる電池パックＰを、放電液に浸漬させて放電させるための処理装置Ａであって、電池パックＰを加圧して、筐体ｂに内部に放電液が流入できる開口部を形成する開口機２０を備える。 - 特許庁 - The lower part of the lower end part 321 of the internal cylinder member 32 is formed as a mixed region 302, the gas and the processing solvent are mixed in the mixing region 302 to generate fine liquid drops, and then the liquid drops are injected from an injection port 31 at the lower end of the external cylinder member 33.
内筒部材３２の下端部３２１の下方は混合領域３０２となっており、混合領域３０２でガスと処理液とが混合されて微細な液滴が生成され、外筒部材３３の下端の噴出口３１から噴出される。 - 特許庁 - A rotary shaft 21 coupled to a spin base 11 is constituted in a hollow shaft, and a processing liquid supplying pipe 41 having a flow passage 411 for SPM (sulfuric hydrogen peroxide solution) used as a resist peeling liquid and a flow passage 412 for DIW is inserted into the shaft 21.
スピンベース１１に結合された回転軸２１は、中空軸とされていて、その内部には、レジスト剥離液としてのＳＰＭ（硫酸過酸化水素水）の流路４１１およびＤＩＷの流路４１２を有する処理液供給管４１が挿通されている。 - 特許庁 - A measured value output by a fluid flowmeter, when a first medical fluid is started to flow into a processing liquid feed passage, is sampled (step T9), and based on this measurement value a measurement pattern representing changes with time of measured values of the first medical liquid is formed (step T12).
処理液供給路への第１薬液の流通が開始されたときの流量計の出力する計測値がサンプリングされ（ステップＴ９）、この計測値に基づいて、第１薬液の計測値の時間変化を表す計測パターンが形成される（ステップＴ１２）。 - 特許庁 - High degree of alignment is obtained by combining primary alignment, which is induced by carrying out casting application of a coating liquid containing the lyotropic liquid crystal compound in one direction, and secondary alignment, which is induced by carrying out rubbing processing of a surface of a coating film thereafter.
リオトロピック液晶化合物を含むコーティング液を一方向に流延塗布することによって誘起される一次配向と、その後塗膜の表面をラビング処理することによって誘起される二次配向を組み合わせることにより高い配向度が得られる。 - 特許庁 - The one-piece molding body comprises a room temperature cure type liquid silicone containing acetic acid; and a thermoplastic polyurethane elastomer film (TPU film) in which the adhesion with a different material is possible by heating compression bonding, and mirror processing is performed to a surface to which the liquid silicone is made to adhere.
酢酸含有の室温硬化型液状シリコーンと、加熱圧着により異素材との接着が可能であって、前記液状シリコーンが接着せしめられる面がミラー加工されている熱可塑性ポリウレタンエラストマーフィルム（ＴＰＵフィルム）とからなる一体成形体。 - 特許庁 - In this data processor, an HDD 12 stores a program that a CPU 14 executes processing of displaying the operation items on the liquid crystal display 2 when an object approaches the liquid crystal display 2, and of differentiating the operation items in response to the approaching area of the object.
ＨＤＤ１２には、物体が液晶ディスプレイ２に接近すると液晶ディスプレイ２に対して操作項目を表示させ、この操作項目を物体の接近領域に応じて異ならせる処理をＣＰＵ１４に実行させるためのプログラムが記憶されている。 - 特許庁 - A method for manufacturing a water resistant optical anisotropic film comprises a water resistance processing step in which an optical anisotropic film including organic coloring matter having an anionic group is brought into contact with a water resistance processing liquid including a chemical compound having two or more nitrogen atoms in polyvalent metal salt or molecules, and a washing step in which the optical anisotropic film after the water resistance processing is washed with a cleaning liquid including a hydrophilic organic compound.
本発明の耐水化された光学異方性フィルムの製造方法は、アニオン性基を有する有機色素を含む光学異方性フィルムを、多価金属塩又は分子中に２個以上の窒素原子を有する化合物を含む耐水化処理液に接触させる耐水化処理工程と、前記耐水化処理後の光学異方性フィルムを、親水性有機化合物を含む洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程と、を有する。 - 特許庁 - In the liquid crystal display device for performing backlight scan processing in which a plurality of light sources are repeatedly and intermittently turned on one by one, by interlocking with writing operation of the image signal on a liquid crystal panel according to predetermined clock signal, a frequency of the predetermined clock signal at performing time of the backlight scan processing is set higher than that of the predetermined clock signal at non-performing time of the backlight scan processing.
所定のクロック信号に従って液晶パネルに画像信号を書き込むと共に，該画像信号の書き込み動作に連動して複数の光源を順次繰り返し間欠点灯させるバックライトスキャン処理を実行する液晶表示装置において，バックライトスキャン処理が実行されるときの前記所定のクロック信号の周波数を，前記バックライトスキャン処理が実行されないときの前記所定のクロック信号の周波数よりも高く設定する。 - 特許庁 - As for the automatic silver halide photographic sensitive material developing machine constituted of plural processing processes, a silver halide photographic sensitive material processing liquid supplying means is constituted by arranging plural injection channels 20 constituted of injection chambers 30 for storing the silver halide photographic sensitive material processing liquid and which are partitioned by pressure conversion elements 32 and one or more orifices 22 formed so as to communicate with the injection chambers.
複数の処理工程からなるハロゲン化銀写真感光材料用自動現像機において、ハロゲン化銀写真感光材料用処理液を収容する圧力変換素子３２で仕切られた噴射チャンバー３０と、この噴射チャンバーに連通するように形成された１個以上のオリフィス２２とで構成される噴射チャネル２０が複数個配列されてハロゲン化銀写真感光材料用処理液供給手段が構成される。 - 特許庁 - An upper jaw plate 18A of a processing liquid supply part 11 has projection parts 18A2 at both ends of the width direction by extending the upper jaw plate and an array of upper rinse liquid jet holes 16A and upper clean air jet holes 17A of an upper rise liquid and clean air supply part 13A is an array of projection shapes following the shapes of the projection parts.
処理液供給部１１の上あご板１８Ａが、その巾方向の両端に、上あご板を延長した突き部１８Ａ２を有し、上方リンス液・クリーンエアー供給部１３Ａの上方リンス液噴出口１６Ａ及び上方クリーンエアー噴出口１７Ａの配列が、突き部の形状に追従した突き部状の配列であること。 - 特許庁 - To solve a problem that a recording liquid adheres to a roller surface even if a time from a time point when the recording liquid is adhered to a recording medium to a time point when a roller is brought into contact with the recording medium is shortened to achieve high-speed processing in an ink jet recording method and an ink jet recording device for recording information by making the recording liquid adhere to the recording medium.
記録媒体に記録液を付着させて情報を記録するインクジェット記録方法及びインクジェット記録装置において、高速処理化実現のために、記録媒体に記録液が付着されてからローラが記録媒体と接触するまでの時間が短くなっても、ローラ表面に記録液が付着する問題を解決する。 - 特許庁 - When a high-level radioactive liquid waste 6 is supplied to the melting space 3a in a glass melting furnace 1 designed to perform processing to make the high-level radioactive liquid waste 6 into a molten glass 10 along with glass raw materials 8, Te 15 is added in advance to constitute a prescribed percentage against the amount of Pd contained in the high-level radioactive liquid waste 6.
高レベル放射性廃液６をガラス原料８と共に溶融ガラス１０化させる処理を行うようにしてあるガラス溶融炉１の溶融空間３ａに高レベル放射性廃液６を供給するときに、予め、Ｔｅ１５を、高レベル放射性廃液６に含まれているＰｄの量に対して所定の割合となるように添加しておく。 - 特許庁 - To obtain a new weight type liquid filling machine which can operate at a high speed while being accommodative easily to shifting of lots without being influenced by fluctuation of temperature and unstability of processing capacity arising from pressure fluctuation of a liquid source and exhibits sufficiently advantages of the weight type liquid filling machine wherewith the filling can be made in a correct quantity.
温度変化に影響されることなく、正確な充填量が得られる重量式液体充填機の利点を充分に発揮しながら、高速処理が可能で、液体源の圧力変動による処理能力の不安定化が生ぜず、ロット切り換えにも比較的簡単に対応できる新規な重量式液体充填機を得るにある。 - 特許庁 - The small size liquid process equipment can secure the process safety by supplying liquids for processing in accordance with the sequence of the less damage liquid processes to a wafer W, pure water, H2O2, and NH4OH when the wafer W is processed by supplying the liquid mixed with a plurality of liquids (NH4OH, H2O2, pure water).
ウエハＷに複数の処理液（ＮＨ4ＯＨ，Ｈ2Ｏ2，純水）を混合した混合液を供給して処理するに当たって、混合液を供給する際、ウエハＷに与えるダメージの少ない処理液順、純水，Ｈ2Ｏ2，ＮＨ4ＯＨに供給することことにより、ウエハＷにダメージを与えることなく、処理の安全性を図ることができる。 - 特許庁 - The display part 2 performs control or processing for changing the angle of field of the liquid crystal screen of the data when the previous display is different from the angle of field and continues a control state or a processing state when the previous display is the same as the angle of filed by the ID.
表示部２は、このＩＤにより、前回の表示と視野角が異なれば、当該データの液晶画面の視野角を変更する制御もしくは処理を行い、前回の表示と視野角が同じであれば、制御状態もしくは処理状態を継続する - 特許庁 - In this way, since the periodical liquid exchange processing XL is not arranged uniformly based on only an up of the lifetime LT but is flexibly arranged, the wasting standby time can be reduced and the throughput of the substrate processing can be improved.
このように定期液交換処理ＸＬをライフタイムＬＴのアップにのみ基づき一律に配置するのではなく、定期液交換処理ＸＬを柔軟に配置するので、無駄な待機時間を低減して基板処理のスループットを向上させることができる。 - 特許庁 - When the control section C determines that the liquid crystal display 1 is irradiated with strong light based on the value of the signal output from the detection section D, the image signal processing section P performs brightness value adjusting processing for reducing the brightness value of the image signal.
制御部Ｃが、検出部Ｄから出力される信号の値に基づいて液晶表示装置１に強い光が照射されていると判定する場合、画像信号処理部Ｐが、画像信号の輝度値を小さくする輝度値調整処理を施す。 - 特許庁 - To provide a processing liquid cooling device which cools processing tanks to a desired temperature without depending upon continuous supply of water and is capable of extension when a photograph printing and developing device is installed in a warm district or an installation environment no equipped with an air conditioning system.
写真焼付現像装置が温帯地方あるいは空調設備が備わっていない設置環境に設置される場合において、水の連続供給に頼らずに処理槽を所望温度に冷却でき、かつ増設可能となる処理液冷却装置の提供。 - 特許庁 - A sensitivity variable photo-detector and an artificial retina element having a processing part for processing its output, or a CMOS sensor or a CCD sensor are used to extract an edge of a liquid level in an ink tank or to calculate an area ratio of a bright part and a dark part, and the remaining amounts of the inks are detected thereby.
感度可変受光素子、その出力を処理する処理部を持つ人口網膜素子、あるいはＣＭＯＳセンサー、ＣＣＤセンサーを使用し、インクタンクの液面のエッジ抽出、或いは、暗部と明分の面積比率を算出し、インク残量を検出する。 - 特許庁 - In the substrate plating apparatus which performs plating processing by supplying a plating liquid to the processing surface of a substrate through a three-dimensional filter, a first three-dimensional filter 27-1 and a second three-dimensional filter 27-2 are formed by laminating meshes made of a synthetic resin.
基板の処理面に対して三次元フィルタを介してメッキ液を供給することでメッキ処理を施す基板メッキ装置において、第１の三次元フィルタ２７−１及び第２の三次元フィルタ２７−２は、合成樹脂製メッシュを積層して形成されている。 - 特許庁 - A video signal processing circuit 4 for pre-processing a video signal to be supplied to a driving circuit 3 for driving a liquid crystal panel 2 is provided with a matrix circuit 11, a maximum peak level detection circuit 13, a gain calculation circuit 14 and a video amplifier circuit 15.
液晶パネル２を駆動するための駆動回路３に供給する映像信号を前処理する映像信号処理回路４に、マトリクス回路１１と、最大ピークレベル検出回路１３と、ゲイン算出回路１４と、映像増幅回路１５とを備える。 - 特許庁 - The device for treating the ingot includes a control part 62 for controlling the electrode moving parts 45 to relatively reciprocate the processing electrodes 10 to the liquid face of the electrode E while the ingot members are being cut by the processing electrodes 10.
インゴット処理装置は、インゴット部材を加工用電極１０によって切断している際に、加工用電極１０を電解液Ｅの液面に対して相対的に往復動させるように前記電極移動部４５を制御する制御部６２も備えている。 - 特許庁 - To prevent a processing liquid from falling on a body having been processed or from exerting an adverse effect on bodies to be processed next and later even when sticking on a top plate during processing of a body to be processed.
被処理体を処理している間にトッププレートに処理液が付着したとしても、当該処理液が処理済みの被処理体上に落ちたり、当該処理液によって次回以降に処理される被処理体に悪影響を及ぼしたりすることを防止すること。 - 特許庁 - The liquid level detector 100 includes a detection unit 1, a signal processing circuit 30 for transmitting test signals to the detection unit 1 and receiving response signals to the test signals, and a signal line 40 arranged between the detection unit 1 and the signal processing circuit 30.
液面レベル検出装置１００は、検出部１と、検出部１に試験信号を送信し、試験信号に対する応答信号を受信する信号処理回路３０と、検出部１と信号処理回路３０との間に配設された信号線４０とを備える。 - 特許庁 - To provide a method for producing an organic porous film having ≤2.2 relative dielectric constant, with which processes of etching processing, cleaning liquid treatment, etc., are facilitated in an insulating film processing process of semiconductor device of advanced micronization and to obtain a composition for forming the organic porous film.
より微細化が進む半導体デバイスの絶縁膜加工プロセスに対し、エッチング加工あるいは洗浄液処理等の工程が容易となる、比誘電率２．２以下の有機多孔化膜の製造方法および当該有機多孔化膜を形成できる組成物を提供する。 - 特許庁 - The photosensitive material processing device which applies a processing liquid to the photosensitive material by using the slot die consisting of at least slits and a manifold has a member having the same thickness as the thickness of the preset slits within the slits.
少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて感光材料に処理液を塗布する感光材料処理装置であって、予め設定された前記スリットの厚みと同一の厚みを有する部材を前記スリットの内部に有することを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a color developing concentrated composition that suppresses deterioration of the liquid composition due to storage at a high temperature, prevents interfacial precipitation in a processing tank when used as a replenisher solution and prevents contamination of a processed photosensitive material and to provide a photographic processing method using the composition.
高温での保存による液組成の劣化を抑制し、補充液としての使用時における処理槽界面析出防止及び処理感光材料の汚染防止が図れる発色現像濃縮組成物及びこれを用いた写真処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a wafer level package, a chip size package device, and a method of manufacturing a wafer level package capable of avoiding generation of cracks of a sealing frame at dicing, and suppressing generation of peeling in a wafer even through high-temperature processing after wet processing and liquid cleaning.
ダイシング時におけるシール枠のクラックの発生を回避すると共に、ウェットプロセスや液体洗浄の後に高温のプロセスを通してもウエハにおける剥離の発生を抑制し得るウエハレベルパッケージ、チップサイズパッケージデバイス及びウエハレベルパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for processing a substrate in which the piping of a processing liquid supply system is simplified and the cost can be reduced directly through reduction in the size of the system and indirectly through reduction in the running cost of a clean room incident to reduction in the size of the system.
処理液供給系の配管を簡略化すると共に、装置の小型化による直接的なコストダウン及び装置の小型化によるクリーンルームのランニングコストの低廉化による間接的なコストダウンを図れるようにした基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing device of relatively simple structure comprising a developing/agitating means capable of surely developing and agitating processing liquid on a plate-shaped support to which a specimen is stuck to an attached surface without requiring difficult manual work.
構造が比較的簡単であり、被処理物を付着させた板状の支持体上の処理液を、難しい手作業を必要とすることなく、付着面上にムラなく確実に展開・撹拌することができる展開・撹拌手段を有する処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for improving the heterogeneity of image characteristics of the upper part and lower part of the surface of a mask material for exposure as a method for advancing a process by holding the mask material for exposure almost perpendicularly and dipping it in processing tanks containing processing liquid one after another.
露光用マスク材料をほぼ鉛直方向に保持し、各処理液の入った処理槽に順次浸漬して処理を進める方法において、露光用マスク材料面の上部と下部との画像特性の不均一を改善する方法を提供することである。 - 特許庁 - The received ultrasonic echo signals are input to a signal processing part 9 via an amplifier 7 and an A/D converter 8, and a surface shape and an inside of the structure 2 in the liquid medium are imaged by aperture compositing processing to be displayed in a display 10.
受信した超音波エコー信号は増幅器７およびＡ／Ｄ変換器８を介して信号処理部９に入力され、開□合成処理により液体媒質中の構造物２の表面形状および内部を画像化し表示装置１０に表示する。 - 特許庁 - Each of the unit blocks B1, B2 for development processing is provided with a developing liquid processing unit, a heating unit, a cooling unit and a main arm A1 or the like which moves along a conveying area extending horizontally and linearly from a carrier block side toward an interface block side.
前記現像処理用の単位ブロックＢ１、Ｂ２の各々には、現像用の液処理ユニット、加熱ユニット、冷却ユニット及びキャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる搬送領域に沿って移動するメインアームＡ１が設けられる。 - 特許庁 - To provide a photographic processor capable of preventing an operator from misrecognizing the state of a development processing liquid even if a control strip deteriorates with a control strip holder containing control strips being loaded in a development processing unit in advance.
コントロールストリップを収容したコントロールストリップ用ホルダーを現像処理部に予め装着しておくことでコントロールストリップが劣化したとしても、オペレータが現像処理液の状況を誤って認識してしまうことを防止することのできる写真処理装置を提供する。 - 特許庁 - The printer includes an ejection head which ejects a droplet of a liquid onto a base material, and a processing part 9 which performs predetermined processing on a surface of the base material by irradiating the surface of the base material with active light beams before the droplet ejection operation of the ejection head.
基材上に液体の液滴を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドの液滴吐出動作に先立ち、基材の表面に活性光線を照射して基材の表面に対する所定の処理を行う処理部９と、を備えた印刷装置に関する。 - 特許庁 - On this occasion, when win is earned by an image acquisition lottery processing (S4), an image acquisition processing (S7) is executed and the display contents shown on the lower liquid crystal display 4 are stored into a memory area of an image data memory area 52A as a replacement image data.
この時、画像取得抽選処理（Ｓ４）に当選している場合には、画像取得処理（Ｓ７）を実行し、下部液晶ディスプレイ４に表示されている表示内容を、置換画像データとして画像データ記憶領域５２Ａの記憶領域に記憶する。 - 特許庁 - A first electrode 61 is provided within the gas flow route, a second electrode 62 is provided within the processing solvent route, and charges are guided to the processing solvent by giving a potential difference between the first electrode 61 and the second electrode 62 to generate the charged liquid drops.
気体流路内には第１電極６１が設けられ、処理液流路内には第２電極６２が設けられ、第１電極６１と第２電極６２との間に電位差が付与されることにより処理液に電荷が誘導され、帯電した液滴が生成される。 - 特許庁 - The processing device for the photosensitive materials for applying a processing liquid to the photosensitive materials by using a slot die consisting of at least a slit and a manifold has a means for adjusting the effective length in the transverse direction of the manifold.
少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて感光材料に処理液を塗布する感光材料用処理装置であって、前記マニホールドの幅方向有効長さを調節する手段を有することを特徴とする感光材料用処理装置。 - 特許庁 - If the image formation device operates under printing out (S12; Y), the output position of the printed matters currently under processing is shown by an illustrational indication (S13) in the positions that users can visually confirm such as a screen of liquid crystal display, and the processing of S12 is repeated again.
画像形成装置が印刷出力中である場合（Ｓ１２；Ｙ）、液晶ディスプレイの画面など利用者が可視確認できる箇所に、現在処理中の印刷物の出力位置を図解表示によって示し（Ｓ１３）、再びＳ１２の処理を繰り返す。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and processing equipment thereof, in which even if any hydrophobic surface comes out on a surface of a processed substrate by supplying a few volume of chemical on the processed substrate, it is possible to form a liquid film without generating any droplet causing a particle.
少量で薬液を被処理基板上に供給して、被処理基板表面に疎水面が出て来ても、パーティクルの原因となる液滴にならずに液膜を形成させることのできる基板処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁 - The paper P lying in the processing liquid is horizontally carried, and the leading end of the paper P is guided toward the blade 108 by the 1st guide member 150, then, the paper P passes through between the upper end of the blade 108 and the slit 106, then, the paper P is carried to the adjacent downstream processing tank.
処理液中のペーパーＰは水平に搬送され、先端が第１のガイド部材１５０によってブレード１０８に向けてガイドされ、ブレード１０８の上端とスリット１０６との間通過して隣接する下流側の処理槽へ搬送される。 - 特許庁 - To provide an image processing device which does not cause trouble in the expressiveness of gradation depending on the standing position of a user with respect to a liquid crystal panel having visual angle dependency and which is capable of being manufactured inexpensively.
視角依存性のある液晶パネルに対し、ユーザーの立ち位置により階調の表現性に支障を発生せず、安価に製造できる画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - The processing liquid is discharged in the shape of a line along the arrangement direction X from a diagonal upper direction to the upper surface of the substrate W along the rotating direction A of the substrate W from a multi-pore nozzle 32.
多孔ノズル３２から基板Ｗの回転方向Ａに沿って基板Ｗの上面に対して斜め上方から配列方向Ｘに沿って列状に処理液を吐出させる。 - 特許庁
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