「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 59 60 61 62 63 64 65 66 67 .... 85 86 次へ＞- Each flow channel is connected to a respective supply channel 54 having a pressure-setting valve, and each supply channel 54 is connected to a common processing-liquid tank 55 via a common pump P1.
例えば流路毎に圧力設定バルブを備えた供給路５４を接続し、各供給路５４は共通のポンプＰ１を介して共通の処理液タンク５５に接続する。 - 特許庁 - The blocks are made up for each of varied liquid-processing, e.g., forming of an antireflection film, coating of a resist, and its development, and those plural blocks are located in line.
そして異なる液処理ごとに、例えば反射防止膜の形成処理、レジストの塗布処理及び現像処理の各液処理毎にブロックを構成し、それら複数個のブロックを並設する。 - 特許庁 - A resolution chart sheet 1A and the other chart sheets 1 are set on a lighting inspection device 10 comprising a CCD camera 2 and an image processing mechanism 3 instead of a liquid crystal display panel to perform reading.
ＣＣＤカメラ２及び画像処理機構３を備えた点灯検査装置１０に、解像度チャート・シート１Ａその他のチャートシート１を、液晶表示パネルに代えてセットし、読み取りを行う。 - 特許庁 - Further, after the mask is formed, the etching liquid is ejected from the nozzle to thereby perform etching processing on an exposed metal face of the workpiece 10A to form a machining pattern.
さらに、前記マスクを形成後に、エッチング液をノズルから噴射することにより、露出したワーク１０Ａの金属面をエッチング処理して加工パターンを形成する工程とを備えている。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display panel that prevents dust from sticking on an alignment mark during rubbing processing and has high recognition capability of recognizing the alignment mark by an image processor.
ラビング処理によるアライメントマークへの塵の付着を防止すると共に画像処理装置でアライメントマークを認識する際の認識能力が高い液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁 - To provide a water penetration preventing structure for bonded substrate, capable of performing thinning processing to two bonded substrates within an etching tank without damaging a liquid crystal display element.
2枚の貼り合わせ基板をエッチング槽内で液晶表示素子にダメージを与えることなく、薄型処理を行うことができる貼り合わせ基板の浸水防止構造を提供する。 - 特許庁 - Thereby, any one of the storing spaces 413a, 413b, 413c storing the processing liquid and a connecting 111H space connected to the discharge opening 111 are selectively connected.
これにより、処理液を貯留する貯留空間４１３ａ、４１３ｂ、４１３ｃのいずれかと、吐出口１１１につながる接続空間１１１Ｈとが選択的に接続される。 - 特許庁 - Meanwhile, the bidirectional remote controller Y changes processing content when an operation key is pushed according to the error occurrence signal received from the liquid crystal television receiver X (S1;Yes, S4).
一方，双方向リモコンＹは，液晶テレビジョン受像機Ｘから受信した異常発生信号に応じて操作キーの押下時の処理内容を変更する（Ｓ１のＹｅｓ側，Ｓ４）。 - 特許庁 - To provide a styrene-based resin optical anisotropy film excellent in optical uniformity, optical compensation property, heat resistance, transparency and processability for secondary processing into a liquid crystal display device.
光学均一性、光学補償性、耐熱性、透明性、液晶表示装置へと二次加工する際の加工適性に優れたスチレン系樹脂光学異方性フィルムを提供すること。 - 特許庁 - To accurately perform melatonin analysis processing in the drive program for an appropriate high-speed liquid chromatography apparatus and a record medium used for the analysis of melatonin.
本発明はメラトニンの分析に用いて好適な高速液体クロマトグラフィー装置駆動プログラム及び記録媒体に関し、高精度のメラトニン分析処理を高精度に行なうことを課題とする。 - 特許庁 - The ink droplets 24 landing on the first processing liquid layer 22 can spread to a prescribed size without coagulation, then, a prescribed adhesion related to the intermediate transfer body 12 is obtained.
第１処理液層２２に着弾したインク液滴２４は凝集することなく所定の大きさに広がることができ、中間転写体１２との所定の接着力を得ることができる。 - 特許庁 - In the post-printing processing liquid containing at least polymer fine particles, the polymer fine particles having a glass transfer temperature of 50°C or higher and an average particle diameter of 200 nm or more are used.
少なくともポリマー微粒子を含有する印刷後処理液において、該ポリマー微粒子として、ガラス転移温度５０℃以上且つ平均粒子径２００ｎｍ以上のものを使用する。 - 特許庁 - The video signal of photography by an imaging unit 1 is processed by a video signal processing circuit 3 and displays on a liquid crystal display panel 7 together with the character signal from a character signal generating circuit 5.
撮像装置１により撮影した映像信号を映像信号処理回路３で処理し、文字信号発生回路５からの文字信号とともに液晶表示パネル７に表示する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display which can avoid wasteful processing when manufacturing a linear polarizer plate while maintaining the excellent display quality by using a circular polarizing light element and a linear polarizing plate.
円偏光素子及び直線偏光板を使用し、良好な表示品質を確保しつつ、直線偏光板製造時の無駄を回避できる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a device and a method for recording image that can stabilize the picture quality of an output body by suppressing a drop in temperature of a processing liquid caused by a photosensitive material after exposure and recording.
露光記録後の感光材料による処理液の温度低下を抑え、出力物の画質安定化を図ることのできる画像記録装置及び画像記録方法を提供する。 - 特許庁 - The number of components such as a conductive tape or conductive paste is decreased and the need for processing and assembling operations is eliminated to make the manufacturing cost of the liquid crystal display device low eventually.
導電性テープまたは導電性ペースト等の部品点数の低減化及び加工，組み立て作業が不要となり、結果的に液晶表示装置の製造コストが安価となる。 - 特許庁 - When the ongoing BB operation flag is OFF (step S131: No), the second demonstration image display processing is carried out to display the second demonstration image data on the liquid crystal display device 321(step S133).
ＢＢ作動中フラグがオフであるときは（ステップＳ１３１のＮ）、第２デモ映像データを液晶表示装置３２１に表示する第２デモ映像表示処理が行なう（ステップＳ１３３）。 - 特許庁 - A second polymer removing liquid capable of removing a second-class polymer generated in ashing processing is supplied to a center portion (portion inner from the circumferential edge portion) of the surface of the wafer W.
また、ウエハＷの表面の中央部（周縁部よりも内側の部分）には、アッシング処理時に生じた第２のポリマーを除去可能な第２ポリマー除去液が供給される。 - 特許庁 - The substrate processor is provided with the two-fluid nozzle 3 for injecting liquid drops of the pure water as the processing solvent to a substrate and the nozzle 3 is provided with an internal cylinder member 32 and an external cylinder member 33.
基板処理装置は、基板に処理液である純水の液滴を噴出する二流体ノズル３を備え、ノズル３は内筒部材３２および外筒部材３３を備える。 - 特許庁 - To provide a liquid-sealed cylinder type vibration control device capa ble of reducing manufacturing cost and applying uniform throttling processing on an intermediate cylinder fitting without damaging a seal rubber.
製造コストの低減を図ることができ、シールゴムが損傷することなく中間筒金具に均一な絞り加工を施し得る液体封入式筒型防振装置を提供する。 - 特許庁 - The reaction rate of the process can be increased, since the process temperature can be made almost the same as that of the substrate surfaces, while preventing lowering of the dissolved concentration of ozone due to temperature rise of the processing liquid.
処理液の温度上昇によるオゾンの溶存濃度の低下を防止しつつ処理温度を基板表面の温度とほぼ同じにできるので処理の反応速度を高められる。 - 特許庁 - To inexpensively provide a rotary substrate processing device equipped with a substrate putting rotary body, having rust-proofing capacity prominent in resistance to liquid medicine and not generating any change with the passage of time in the balance of a centrifugal force.
耐薬液性に優れた防錆能力が大きく、遠心力のバランスに経時変化の生じない基板載置回転体を備えた回転式基板処理装置を安価に提供する。 - 特許庁 - Since the processing liquid is sucked and removed previously, the generation of mist caused by the ejection of gas is reduced and the mist is shielded at the opposing position 33a and prevented from scattering.
このとき予め処理液が吸引除去されることで、ガス吐出によるミストの発生が低減されるほか、ミストが対向部位３３ａに遮蔽され飛散するのが防止される。 - 特許庁 - To provide the subject system and method designed to level off the burden of a cooling medium on this system and thereby cool a thermally processing liquid efficiently.
冷却媒体の冷却装置の負荷の平準化をはかり効率の良い熱加工液冷却を行なうことができる熱加工液冷却装置および熱加工液冷却方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive material squeezing apparatus in which a squeezing means with deposition dirt adhered can be cleaned by efficiently spraying a cleaning liquid, and to provide a photosensitive material processing apparatus provided with the photosensitive material squeezing apparatus.
効率よく洗浄液を噴射して、汚れの付着したスクイズ手段を洗浄することの可能な感光材料スクイズ装置、感光材料処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a process liquid feeding unit which efficiently implements a sensitizing solution application process and simplifies the configurations of the unit and an apparatus, and to provide a substrate processing apparatus and method using the same.
感光液塗布工程を効率的に遂行できユニット及び装置の構成を簡素化できる処理液供給ユニットと、これを用いた基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - To prevent contamination of a substrate due to a substrate processing liquid, mist and the like, and to make continuously performable a series of chemical processings including spin drying of the substrate with the same device.
基板の基板処理液やミスト等による汚染を防止して、基板のスピン乾燥を含めた一連の薬液処理を同一装置で連続して行うことができるようにする。 - 特許庁 - In this organic substance removing method, processing liquid is adjusted to pH and/or an the metal layer 2 or an oxidation-reduction potential at which the metal layer 2 is substantially not dissolved when the organic substance 3 is decomposed and removed.
この有機物除去方法では、有機物３を分解・除去する際に、金属層２を実質的に溶解しないｐＨおよび／または酸化還元電位に処理液を調整する。 - 特許庁 - The post CMP processing liquid is one such that resin particles which have a functional group on the surface is blended into water, or one such that resin particles and an addition agent containing a functional group are blended into water.
表面に官能基を有する樹脂粒子が水に配合された処理液、または樹脂粒子と、官能基を含む添加剤とが水に配合されてなる処理液である。 - 特許庁 - To shorten processing time and make a film uniform in quality and in thickness, even if it is a large area substrate such as a liquid crystal display panel or the like.
液晶表示パネル等の大面積の基板であっても、処理時間が短く、かつ膜質または膜厚の均一な膜を形成することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an ink jet recorder, more commonly, a liquid ejector in which a "sharp" quality can be realized at the edge part while realizing an edge processing for preventing an ink stain.
インクの滲みを防止するエッジ処理を実現する一方で、エッジ部において「シャープ」な品質を実現することができるインクジェット式記録装置、広くは液体噴射装置を提供すること。 - 特許庁 - The valve element 322 is moved like imaginary lines of Figure 4 by this vigor and the aperture 312A is opened, by which the processing liquid 204 is smoothly passed through the check valve 306 into a cooler 208.
弁体３２２はこの勢いで、図４の想像線の如く移動し、開口部３１２Ａが開口し、処理液２０４は円滑に逆止弁３０６を通過して冷却装置２０８へと至る。 - 特許庁 - The cabinet 60 is partitioned by a frame 61 into a plurality of installation sections along a Y axis, and a storage container 70 containing a processing liquid is installed in each installation section.
キャビネット６０は、フレーム６１により、Ｙ軸方向に沿って複数の設置区画に区分されており、各設置区画には処理液を収容した収容容器７０が設置される。 - 特許庁 - To provide a storage device, a host device, a circuit board, a liquid container, and a system, etc., such that none of data which need not be written are written to shorten a write processing time.
書き込み不要なデータを非書き込みとし、書き込み処理時間を短縮することができる記憶装置、ホスト装置、回路基板、液体容器及びシステム等を提供すること。 - 特許庁 - This method is a processing method of the thin-shaped material by which a thin-shaped work 1 is processed by rolling by jetting a slurry 4 which is a mixture of liquid 2 and granular materials 3 onto the thin-shaped work 1.
薄状ワーク１に液体２と粒状体３との混合物であるスラリ４を噴射して該薄状ワーク１を圧延処理する薄状物の処理方法である。 - 特許庁 - When the nonthermal energy 45 is an electromagnetic energy source, electromagnetic energy is connected directly to the processing liquid delivery line 43, so as to make the delivery line 43 useful as a conductive medium.
電磁エネルギの形の非熱的エネルギが使用されるとき、電磁エネルギの周波数は処理液体の吸収された分子の振動の周波数に整合させるために調整される。 - 特許庁 - In this manufacturing method, after washing a piezoelectric single crystal wafer for the surface acoustic wave substrate with weak acid liquid whose pH is in the range of 4.0-6.5, it is cleaned with pure water whose pH is in the range of 6.0-8.0 (pre-processing process).
弾性表面波基板用圧電単結晶ウェーハをｐＨが 4.0〜 6.5の範囲の微弱酸液で洗浄した後、ｐＨが 6.0〜 8.0の範囲の純水で洗浄する（前処理工程）。 - 特許庁 - To provide a spin processor where processing liquid scattered from a substrate can be prevented from adhering again during a dry process of the substrate by a high-speed rotation.
この発明は基板を高速回転させて乾燥処理する際に、基板から飛散した処理液が再付着するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - Otherwise, its manufacturing method comprises providing the pores in the easy-to-disentangle paper, immersing the paper in a biodegradable resin liquid for lamination, and then processing it into the bag shape.
及び、易ほぐれ性の紙に細孔を穿設し、生分解性樹脂液に浸漬して積層した後、袋状に加工する乾燥型生ゴミ処理機用生ゴミ収納袋の製造方法。 - 特許庁 - An apparatus for heat treating the substrate comprises a DCC processing unit 13 for curing a coating liquid coating a wafer W, capable of forming two treating chambers of a high-temperature heating chamber 23 and a temperature-lowering chamber 24.
ウェハＷ上に塗布された塗布液を硬化させるためのＤＣＣ処理ユニット１３を高温加熱室２３と降温室２４の２つの処理室が形成できるように構成する。 - 特許庁 - A video signal processing circuit 3 processes the video signal photographed by an image pickup device 1 and an image reducing means 4 reduces its image, which is displayed on the liquid crystal display panel 5.
撮像装置１により撮影した映像信号を映像信号処理回路３で処理し、画像縮小手段４により画像を縮小して液晶表示パネル５に表示する。 - 特許庁 - When the ongoing BB operation flag is ON (step S131: Yes), the first demonstration image display processing is carried out to display the first demonstration image data on a liquid crystal display device 321 (step S132).
ＢＢ作動中フラグがオンであるときは（ステップＳ１３１のＹ）、第１デモ映像データを液晶表示装置３２１に表示する第１デモ映像表示処理を行なう（ステップＳ１３２）。 - 特許庁 - To improve definition of a perceived video in a display device with fixed pixels such as a liquid crystal display device by decreasing the amount of information of display data lost in resolution conversion processing when a display accompanied with size reduction is made.
液晶表示装置などの固定ピクセルを備える表示装置において、より解像度の大きな画像信号を表示すると、縮小処理により精細感が失われてしまう。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device which reduces occurrence of EMI (ElectroMagnetic Interference) noises while simultaneously responding to requirements for the high-speed transmission of image data, miniaturization and thinning of a signal processing board.
画像データの伝送が高速でも、信号処理基板の小型化及び薄型化に対応したままでＥＭＩ（電磁妨害）ノイズの発生が抑制された液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a processor where piping is simplified for supplying processing liquid and gas to binary fluid spray nozzles installed in a plurality of chambers.
この発明は複数のチャンバ内に設けられた二流体噴射ノズルに対し、処理液と気体とを供給する配管を簡略化できるようにした処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURED BY THE SAME, AND ACTIVE MATRIX SUBSTRATE CONSTITUTED BY THE SEMICONDUCTOR DEVICE AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE ACTIVE MATRIX SUBSTRATE
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置を用いて製造した半導体装置、並びに半導体装置で構成したアクティブマトリクス基板およびアクティブマトリクス基板を用いた液晶表示素子 - 特許庁 - To electrolytically etch the surface of a disk extremely precisely with a single disk processing by supplying an electrolytic liquid from a nozzle to the disk while driving to rotate the disk by a spindle.
ディスクをスピンドルにより回転駆動する間に、電解液をノズルからディスクに供給することにより枚葉処理で、ディスクの表面を極めて高精度に電解エッチング加工を行う。 - 特許庁 - The processing liquid contains a cationic polymer compound which includes acrylic acid with a cationic degree more than 2.0 meq/g and less than 4.0 meq/g as a main component together with a benzyl group.
前記処理液はカチオン化度が２．０ｍｅｑ／ｇ以上４．０ｍｅｑ／ｇ以下のアクリル酸を主骨格としベンジル基を含有するカチオン性高分子化合物を含有する。 - 特許庁 - At the time of lamination processing, the board S for reinfocing is held by the chuck 11, the wafer W is held by the chuck 12, and a solid-state liquid crystal wax is placed on the board S for reinfocing.
貼り合せ処理の際には，下部チャック１１に補強用基板Ｓが保持され，上部チャック１２にウェハＷが保持され，その補強用基板Ｓ上に固体の液晶ワックスが置かれる。 - 特許庁 - A substrate processing device 10 is provided with a rotary chuck 14 to maintain a substrate 12 of a liquid crystal display, and a chemical discharge nozzle 16 to discharge a chemical hotter than the substrate 12 to the substrate 12.
基板処理装置10は、液晶ディスプレーの基板12を保持する回転チャック14と、この基板12にこの基板12より温度の高い薬液を吐出する薬液吐出ノズル16とを備える。 - 特許庁
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