「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 61 62 63 64 65 66 67 68 69 .... 85 86 次へ＞- If accidental mixing of first, second and third chemical liquids may be caused in a processing chamber 2 in such a case that the supply of the first chemical liquid to the substrate is followed by the supply of the second chemical liquid, the valve is prohibited from being newly opened.
そして、基板に対する第１薬液の供給に引き続いて、基板に第２薬液が供給されることになる場合など、処理室２内などで第１薬液、第２薬液および第３薬液の相互間の混触を生じることになる場合には、そのバルブの新規開成が禁止される。 - 特許庁 - To provide a cleaning liquid for photolithography capable of not only peeling photoresist patterns of thick films used particularly for formation of bumps etc., from a substrate but also rapidly and completely dissolving the peeled photoresist patterns in the cleaning liquid so as to prevent the readhesion thereof to the substrate and a method for processing the substrate.
特にバンプ形成等に用いられる厚膜のホトレジストパターンの基板からの剥離のみならず、該剥離したホトレジストパターンを、基板への再付着のないよう、洗浄液中で速やかに完全に溶解することができるホトリソグラフィー用洗浄液、および基板の処理方法を提供する。 - 特許庁 - Furthermore, a process S5 of previously obtaining an angle change which occurs in a contact angle between the droplet and the board when the board is subjected to the liquid-repellency reducing process or not, and a process S9 of setting a liquid repellency reduction processing condition on the basis of the obtained result, are provided.
更に、撥液性低下処理を施す前と後での撥液性低下処理条件に応じた基板と液滴との接触角の変化量を予め求める工程Ｓ５と、求めた結果に基づいて撥液性低下処理条件を設定する工程Ｓ９とを有している。 - 特許庁 - By supplying, to an optional cavity 11 out of the plurality of cavities 11, a liquid or gas having a dielectric constant different from that of the liquid or gas of the other cavities 11, plasma density on the optional cavity 11 is changed, and plasma processing is uniformized.
この複数の空洞１１のうちの任意の空洞１１に、その他の空洞１１の液体または気体と異なる比誘電率を有する液体または気体を供給することにより、任意の空洞１１上のプラズマ密度を変化させ、プラズマ処理の均一化を図る。 - 特許庁 - When the plurality of substrates W are immersed in the storage vessel 72 in replacement processing of deionized water by IPA, the vapor of the IPA is supplied from the exhaust nozzles 87 into the drying chamber 71, and a liquid film 80c of the IPA is formed on a liquid surface 80b of the deionized water 80a.
ＩＰＡによる純水の置換処理において、貯留槽７２に複数の基板Ｗが浸漬されると、吐出ノズル８７から乾燥チャンバ７１内にＩＰＡの蒸気が供給され、純水８０ａの液面８０ｂにＩＰＡの液膜８０ｃが形成される。 - 特許庁 - A coating layer is prepared on a support by coating a coating liquid for ink receiving layer, and after applying a processing liquid which makes the coating layer to solidify while the surface of this coating layer is still in moist condition, the coating layer is pressed onto the heated mirror surface and then dried to get the ink receiving layer.
支持体上に、インク受理層用塗工液を塗布して塗工層を設け、該塗工層の表面が湿潤状態にある間に塗工層を凝固させる処理液を塗布した後に、該塗工層を加熱した鏡面に圧接、乾燥してインク受理層を設ける。 - 特許庁 - The processing apparatus 1 includes a means 18 for disturbing the flow of fluid flowing along a substrate surface from an upper side to a lower side in a vertical direction when a liquid is flowed from a supply port 111 to a discharge port 112 in a state where the substrate 2 is immersed in the liquid L in a tank 11.
処理装置１は、基板２が槽１１内の液体Ｌに浸漬した状態で、供給口１１１から排出口１１２へ向かって液体を流す際に、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れる流体の流れを乱す手段１８を備える。 - 特許庁 - Also, because the sheet member 231 with the process liquid attached thereto is moved in a direction along the surface of the substrate Wf as a process proceeds, a substrate processing device enables a clean surface of the sheet member 231 to face opposite to the substrate and thereby preventing the surface of the substrate Wf from being tainted with liquid which drops from the sheet member 231.
また、処理液等が付着したシート部材２３１は、処理に応じて基板表面Ｗｆに沿った方向に移動され、清浄な面を基板対向面とすることができるため、シート部材２３１から液体等が落下して基板表面Ｗｆを汚染することがない。 - 特許庁 - A relay board 30 includes a connector 31 connected to a connector 334 of a liquid crystal control board 20, a connector 32 connected to a connector 61 of an LCD 114a, and a frame interpolation section 371 processing an image interpolation on image data from the liquid crystal control board 20.
中継基板３０は、液晶制御基板２０のコネクタ３３４と接続するコネクタ３１と、ＬＣＤ１１４ａのコネクタ６１と接続するコネクタ３２と、液晶制御基板２０からの画像データについて画像補間の処理を行うフレーム補間部３７１と、を備えている。 - 特許庁 - It is preferable that the height of the liquid level calculated on the basis of the electrical resistance across the internal electrode 5, and the external electrode 3 is corrected by the processing part 20 on the basis of the electrical resistance across the internal electrode 5 and the external electrode 3 when the liquid level is situated in the insulation part 7.
また、演算処理部２０が、内部電極５と外部電極３との間の電気抵抗にもとづいて計算された液面の高さを、液面が絶縁部７にあるときの内部電極５と外部電極３との間の電気抵抗にもとづいて補正することが好ましい。 - 特許庁 - To provide a solid-liquid separation method for a slurry material in which secure solid-liquid separation is carried out without flowing out from a gap between processing parts even if a solid component is fine and has a hardly entwined shape such as honing sludge, and complicated maintenance such as filter replacement is not required; and an apparatus.
ホーニングスラッジ等のように、固体成分が細かなものや、絡み難い形状のものであっても、加工部の隙間から流出することなく、確実な固液分離が行え、またフィルタ交換等の煩雑な保守が不要なスラリー状体の固液分離方法および装置を提供する。 - 特許庁 - A coating layer is prepared on a support by coating a coating liquid for an ink receiving layer, and after applying a processing liquid to the coating layer to solidify while the surface of the coating layer is still in the moist condition, the coating layer is pressed onto the heated mirror surface and then dried to get the ink receiving layer.
支持体上に、インク受理層用塗工液を塗布して塗工層を設け、該塗工層の表面が湿潤状態にある間に塗工層を凝固させる処理液を塗布した後に、該塗工層を加熱した鏡面に圧接、乾燥してインク受理層を設ける。 - 特許庁 - Constant image quality can be obtained up to the use limit of the processing liquid, because an infrared sensor 207 and a controller detect a throughput of photographic paper 40, and the controller controls the intensity of the beam of an optical scanner 204 according to the throughput (deterioration degree of the liquid 20).
赤外線センサー２０７及び制御装置で印画紙４０の処理量を検出し、処理量（処理液２０の劣化度合い）に応じて制御装置が光走査装置２０４のビームの強度を制御するので、処理液の使用限界まで一定した画像品質を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device excellent in visibility when the display direction is changed over to a facing direction and in the state of normal use, and to eliminate the need for complex operation, in an information processing device having a mounted liquid crystal display device which can be used in a facing mode.
対面形式での使用が可能な液晶表示装置を搭載した情報処理装置において、表示方向を対面方向に切換えたときと通常の使用状態で、視認性の良好な液晶表示装置を提供するとともに、煩雑な操作を不必要にする。 - 特許庁 - To provide a signal processing substrate for a liquid crystal display device, with which the mounting position of a variable resistor does not be restricted, the degradation of the mechanical strength will not be caused and breakage of the variable resistor will not be caused at assembling in a liquid crystal panel of a narrow picture frame and thin shape structure.
狭額縁・薄型構造の液晶パネルにあって、可変型抵抗器の実装位置が制約を受けることなく、機械的強度の低下をもたらさず組立時に可変型抵抗器の破損を生じさせない液晶表示装置用信号処理基板を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate holder which prevents corrosion of a structural component even when high-concentration hydrofluoric acid, phosphoric acid or sulfuric acid is used as a process liquid, when a plurality of substrates are held on the substrate holder and soaked in the process liquid in a processing tank to process.
複数枚の基板を基板保持具に保持して処理槽内の処理液中に浸漬させて処理する場合において、高濃度のフッ酸、リン酸あるいは硫酸を処理液として使用するような場合であっても、構成部材が腐食される心配の無い基板保持具を提供する。 - 特許庁 - To provide a compact liquid processing apparatus suitably for effective liquid treatment, such as cleaning of a substrate, easy treatment of a plurality of substrates, and especially for a substrate with a large diameter, without enlarging in its size of the apparatus.
基板の洗浄等の液処理を効率的に行うことが可能であり、また、複数枚の基板の処理にも容易に対処可能であり、さらに、特に大口径の基板の液処理を行うにあたって生ずる処理装置の大型化を抑制したコンパクトな液処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device using a vertical alignment mode in which a structure to disperse tilt directions of liquid crystal molecules in a transmissive display part upon applying a voltage so as to generate a multi-domain state can be obtained without adding another processing step.
垂直配向モードを用いた液晶表示装置において、透過表示部における電圧印加時の液晶分子の傾斜方向を分散させてマルチドメイン状とするための構造を、別段の工程を付加することなく実現できる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - In this wet processing method wherein semiconductor wafers W are immersed in a process liquid, the semiconductor wafers W are immersed with their surfaces W1 facing upward, with the wafers W inclined at 3-45° or 10-20° relative to the process liquid surface H.
半導体ウェーハＷを処理液に浸漬してウエット処理する方法であって、半導体ウェーハＷを処理液に浸漬する際に、半導体ウェーハＷの表面Ｗ１が上側になるようにして、処理液面Ｈに対して３°〜４５°または１０°〜２０°傾いた状態とする。 - 特許庁 - To provide a method for processing a liquid food, using a carbon dioxide in a supercritical condition or a subcritical condition, and capable of efficiently penetrating carbon dioxide into an inclusion in the liquid food by relatively small pressure a little above critical pressure of carbon dioxide.
超臨界状態又は亜臨界状態の二酸化炭素を使用した液状食品の処理方法について、二酸化炭素の臨界圧力を少し超える程度の比較的小さな圧力により、液状食品中の混在物に二酸化炭素を効率良く浸透させることができるようにする。 - 特許庁 - In the multifunctional tank MB, four nozzles; NZ1, NZ2, NZ3, and NZ4, are located, each of the four nozzles may be communicated with one of the new-liquid supplying line NL or the processing-liquid circulating line CL by opening/closing of supplying valves 21-28.
多機能槽ＭＢには、４本の供給ノズルＮＺ１、ＮＺ２、ＮＺ３、ＮＺ４が配置されており、供給バルブ２１〜２８の開閉によって４本の供給ノズルのぞれぞれは新液供給ラインＮＬまたは処理液循環ラインＣＬのいずれかに接続される。 - 特許庁 - To provide a signal processing board and a liquid crystal display of a liquid crystal panel having a narrow frame and a thin structure, where the moutning posiitno of a variable resistor is free from any restriction and, during the assembly, no damage is given to the variable resistor, without reducrtion in the mechanical strengh.
狭額縁・薄型構造の液晶パネルにあって、可変型抵抗器の実装位置が制約を受けることなく、機械的強度の低下をもたらさず組立時に可変型抵抗器の破損を生じさせない信号処理基板および液晶表示装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a treatment method used for separating and recovering useful components containing silicon scraps with little burden and at low cost for regeneration and reuse, by favorably performing solid-liquid separation on a waste liquid from silicon cutting, discharged in a processing step using a crystal silicon as a base material such as semiconductor device fabrication.
半導体素子製造など結晶シリコンを基材とする加工工程で排出されるシリコン切削廃液を良好に固液分離し、シリコン切削屑などの含有された有用成分を低負担且つ低コストで分離回収し再生と再利用に供する処理方法の提供。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which improves the accuracy of a clearance regulation between a treating liquid supply means and a processed substrate by detecting the height of the entirety of the slit-like discharge port of the treating liquid supply means, and which forms a uniform film thickness.
処理液供給手段のスリット状吐出口の全体の高さを検出することにより、処理液供給手段と被処理基板との隙間調整の精度の向上を図れるようにすると共に、均一な膜厚を形成する基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - This system is provided with a gap correcting means 103 for correcting a gap portion of a displayed image in the STN liquid crystal display by minimum filter processing, and a defect detecting means 104 for detecting the point defect portion in the STN liquid crystal display to be area-emphasis- processed in the detected point defect portion.
ミニマムフィルタ処理によってＳＴＮ液晶ディスプレイの表示画像のギャップ部分を補正するギャップ補正手段１０３と、ＳＴＮ液晶ディスプレイの点欠陥部分を検出し、検出された点欠陥部分に面積強調処理を施す欠陥検出手段１０４とを設ける。 - 特許庁 - To provide a sealing structure for a heat exchanger using caps which make installation processing of the caps easy and prevent liquid leakage, and a heat exchanger which, by working in combination with a flow channel member which impedes deformation, prevents a space from forming between the cap and the flow channel member, thereby preventing liquid leakage.
取付加工が容易であり且つ液漏れがしにくいキャップを用いた熱交換器の封止構造、熱交換器の提供し、変形を抑制する流路部材と協働してキャップと流路部材の間に隙間が生じにくく、液漏れが生じにくい熱交換器を提供する。 - 特許庁 - A rotary shaft 21 coupled to a spin base 11 is constituted in a hollow shaft, and a processing liquid supplying pipe 41 having a flow passage 411 for SPM (sulfuric hydrogen peroxide solution) used as a resist peeling liquid and a flow passage 412 for DIW (deionized pure water) are inserted into the shaft 21.
スピンベース１１に結合された回転軸２１は、中空軸とされていて、その内部には、レジスト剥離液としてのＳＰＭ（硫酸過酸化水素水）の流路４１１およびＤＩＷ（脱イオン化された純水）の流路４１２を有する処理液供給管４１が挿通されている。 - 特許庁 - To accurately correct an image data while avoiding influences of encoding and decoding errors and to apply an appropriate correction voltage to a liquid crystal in an image processing circuit for driving a liquid crystal that encodes and decodes image data so as to reduce the capacity of a frame memory.
フレームメモリの容量を削減するために画像データの符号化・復号化を行う液晶駆動用画像処理回路において、符号化・復号化の誤差の影響を生じることなく、画像データの補正を正確に行い、適切な補正電圧を液晶に印加することを可能にする。 - 特許庁 - A USB-ATA conversion bridge 10 outputs a command based on the record content of the descriptor file relating to write processing and the command based on the record content of the EEPROM 11 to the liquid crystal display 3 when detecting the write processing of the descriptor file in the virtual disk area 13.
ＵＳＢ−ＡＴＡ変換ブリッジ１０は、仮想ディスク領域１３に対するディスクリプタファイルの書込処理を検出したときに、書込処理に係るディスクリプタファイルおよびＥＥＰＲＯＭ１１の記録内容に基づいたコマンドを液晶ディスプレイ３に対して出力する。 - 特許庁 - To provide a polishing method of a workpiece polishable into a desired luster surface such as a mirror surface, by improving surface roughness of a processing surface 10 of the workpiece by using an existing abrasive and a blast processing device, without using a special abrasive and a grinding liquid.
特殊な研磨材や研削液等を使用することなく、既存の研磨材やブラスト加工装置を使用して被加工物の加工表面１０の面粗度を向上させ、鏡面等の所望の光沢面に研磨することのできる被加工物の研磨方法を提供する。 - 特許庁 - A control section 67 supplies a pure water as a treatment liquid to a processing tank 1, and processes a substrate W at a processing position with the pure water, and then it reduces pressure within a chamber 27 by an evacuation pump 52 and supplies solvent vapor into the chamber 27 through a solvent nozzle 33.
制御部６７は、処理槽１に純水を処理液として供給して、処理位置にある基板Ｗを純水で処理した後、排出ポンプ５２によりチャンバ２７内を減圧するとともに溶剤ノズル３３からチャンバ２７内に溶剤蒸気を供給する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which drops chemical liquid onto the substrate and processes the substrate by rotating the substrate, and reduces suspended mist without disturbing the environment in the substrate processing apparatus, and a coating development system comprising the same.
基板に薬液を滴下し、基板を回転することによって基板を処理する基板処理装置であって、当該基板処理装置内の環境を大きく乱すことなく浮遊ミストを低減することが可能な基板処理装置およびこれを備える塗布現像システムを提供する。 - 特許庁 - Corresponding image data are captured for that time and a compression image data expanding means 64 applies expanding processing to the image data, an image display means 65 displays the expanded image data on the liquid crystal display device and a selected image defining means 66 defines the image and then the processing proceeds to the succeeding processes.
その間に対応の画像データを取込んで圧縮画像データ伸張手段６４により伸張処理を行って、画像表示手段６５で伸張された画像データを液晶ディスプレイに表示し、選択画像確認手段６６で画像の確認を行ってから次の処理に移行する。 - 特許庁 - To provide a base board transporting device and a manufacturing method for liquid crystal display devices capable of protecting the board properly against a damage and electrostatic breakdown originating from a physical touch in case where the board transport between different processing chambers and position of each are to be made and enhancing the processing efficiency of the base boards.
各処理室間において基板の搬送および位置決めを行なう場合に、物理的接触による損傷および静電破壊などから基板を適切に保護し、かつ基板の処理効率を向上させた基板搬送装置および液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Therefore, when the liquid film thickness exceeds the prescribed range and a sufficient removal ratio cannot be expected, the substrate processing is terminated even in the middle of a recipe, without executing the freezing processing (step S5), the frozen film decompression and removal (step S6) and the substrate dehydration (step S7) on the substrate.
したがって、液膜の膜厚が所定範囲を超えて十分なパーティクル除去率が期待できない場合には、レシピの途中であるが、基板に対する凍結処理（ステップＳ５）、凍結膜の解凍除去（ステップＳ６）および基板乾燥（ステップＳ７）を行うことなく、基板処理を終了する。 - 特許庁 - The substrate processor comprises an indexer 21 for carrying in/out a plurality of substrates W housed in cassettes, four substrate processing parts 24 for processing the substrates W with a treating liquid, and a pair of transporting mechanisms 22, 23 for transporting the substrates W.
基板処理装置は、複数枚の基板Ｗをカセット１０に収納した状態で搬入・搬出するためのインデクサ部２１と、処理液により基板Ｗを処理するための４個の基板処理部２４と、基板Ｗを搬送する一対の搬送機構２２、２３とを備える。 - 特許庁 - The gas sensor includes: a plurality of sensitive sections applied with a sensitive material between electrodes which senses a plurality of the components contained in the vapor or a liquid; and a signal processing means for processing an electrical signal between the electrodes when a plurality of the sensitive sections are varied based on a plurality of the components and concentrations.
電極間にガス若しくは液体に含まれる複数の成分に感応する感応物質が塗布された複数の感応部と、該複数の感応部が前記複数の成分と濃度に基づいて変化する前記電極間の電気信号を処理する信号処理手段を備えている。 - 特許庁 - A liquid crystal television set is provided, including a display unit, a video processing unit that extracts a still image from a video signal, a ROM that stores the still image extracted by the video processing unit and that stores a set state of set items associated with the still image, and a CPU.
液晶テレビは、表示部と、映像信号から静止画像を抽出する映像処理部と、映像処理部により抽出された静止画像を記憶するとともに、静止画像に関連付けられた設定項目の設定状態を記憶するＲＯＭと、ＣＰＵとを備える。 - 特許庁 - In a liquid crystal television 100, a microcomputer 26 acquires information about a processing function of itself, response information of video processing ICs 12-18 and voltage statuses of a power supply circuit 24 and an inverter circuit 23, etc. and classifies the acquired information for every purpose or level.
液晶テレビジョン１００において、マイコン２６は自身の処理関数の情報、映像処理ＩＣ１２〜１８の応答情報、電源回路２４やインバータ回路２３の電圧ステータス等の状態情報を取得しており、これら取得した情報を目的別もしくはレベル別に分類する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the polarizer applies at least a dyeing step, a cross-linking step and a stretching step to a polyvinyl alcohol film, and the method is characterized in that the method has an ozone processing step of immersing the polyvinyl alcohol film in a processing liquid containing ozone.
ポリビニルアルコール系フィルムに、染色工程、架橋工程および延伸工程を少なくとも施す偏光子の製造方法において、オゾンを含有する処理液中に、ポリビニルアルコール系フィルムを浸漬するオゾン処理工程を有することを特徴とする偏光子の製造方法。 - 特許庁 - This detector is provided with a sensor unit 11 for transmitting/receiving the microwave to/from the container 100, an elevating mechanism 12 for elevating the sensor unit 11 along a longitudinal direction of the container 100, and a detection processing part for detection-processing an interface position of he liquid, based on an output signal from the sensor unit 11.
容器１００との間でマイクロ波を送受信するセンサユニット１１と、容器１００の長手方向に沿ってセンサユニット１１を昇降させる昇降機構１２と、センサユニット１１の出力信号に基き液体の界面位置を検出処理する検出処理部とを備える。 - 特許庁 - To provide a substrate processing device and method, which excellently processes a surface peripheral edge part of a substrate without being adversely affected by a droplet of a processing liquid by discharging the droplet sticking on a nozzle insertion hole from the surface peripheral edge part of the substrate, from the nozzle insertion hole.
基板の表面周縁部からノズル挿入孔に付着した処理液の液滴を該ノズル挿入孔から排出し、該液滴による悪影響を受けることなく、基板の表面周縁部を良好に処理することができる基板処理装置および方法を提供する。 - 特許庁 - To provide satisfactorily dry a substrate surface while preventing the generation of fall of a pattern formed on the substrate surface in a substrate processing apparatus and a substrate processing method for drying the substrate surface wetted with a liquid using steam of an organic solvent such as IPA (isopropyl alcohol).
ＩＰＡなどの有機溶剤の蒸気を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面に形成されたパターンの倒壊が発生するのを防止しながら、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁 - The liquid crystal controller 200 controls the host IF 240 such that the display image data transferred from the display data generating device 300 is written in the RAM 210 at timing of starting the rotation processing of the display image data by the rotation processing unit 250.
液晶コントローラ２００は、上記回転処理部２５０による表示用画像データの回転処理の開始のタイミングで、上記表示用データ生成装置３００から転送された表示用画像データを上記ＲＡＭ２１０に書き込むように上記ホストＩＦ２４０を制御する。 - 特許庁 - In a sixth processing step, a high-pressure liquid jet 33 is made to act on the initial surface pattern at a predetermined processing temperature, whereby at least partial parts of the coatings 29 covering the sacrificial layer regions 25 are mechanically removed or at least broken off in order to provide the final surface pattern.
第６処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット３３を作用させ、それにて犠牲層領域２５を覆うコーティング２９の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 - 特許庁 - To provide a photograph printing and developing machine (photographic processing apparatus) equipped with a drying part 12 which dries photographic paper having been processed with processing liquid by introducing a hot blast while conveying the photographic paper along a prescribed conveyance path, and in which the drying time is made as short as possible while increase in cost and power consumption are suppressed.
処理液によって処理された印画紙を、所定の搬送路に沿って搬送しながら、熱風の導入により乾燥させる乾燥部１２を備えた写真焼付現像機（写真処理装置）において、コストや消費電力のアップを抑制しつつ、乾燥時間を出来る限り短縮する。 - 特許庁 - When a through-hole is formed using laser such as UV-YAG laser, excimer laser or the like with a wavelength of 150-500 nm fitted to fine processing, the absorptance of laser beam in the region with a wavelength of 150-500 nm of the liquid crystal polymer layer is enhanced and, as a result, the laser processing time of the insulating film can be shortened.
波長が150〜500ｎｍで微細加工に適したＵＶ−ＹＡＧレーザやエキシマレーザ等のレーザを用いて貫通孔を形成する際、液晶ポリマー層の波長150〜500ｎｍの領域におけるレーザ光の吸収率が向上し、その結果、絶縁フィルムのレーザ加工時間を短縮することができる。 - 特許庁 - To provide a surface processing method of a film with metal foil, with which a life of roughening liquid is prolonged, a stable roughening processing is realized and a wiring board superior in bonding reliability of a wiring circuit layer, a via conductor and an insulating layer can easily be manufactured, and to provide a manufacturing method of the wiring board.
粗化液の寿命を延長し、安定した粗化処理を可能とし、配線回路層と、ビア導体及び絶縁層との接合信頼性に優れた配線基板を容易に作製できる金属箔付きフィルムの表面処理方法および配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - That means, the recycled IPA is supplied to the substrate W subjected to rinsing processing to substitute a rinse liquid (DIW) adhering on a substrate surface Wf with the recycled IPA, and then, the unused IPA is supplied to the substrate surface Wf to form a surface state suitable to drying processing.
つまり、リンス処理を受けた基板Ｗに対して再利用ＩＰＡを供給して基板表面Ｗfに付着しているリンス液（ＤＩＷ）を再利用ＩＰＡに置換した後に未使用のＩＰＡを基板表面Ｗfに供給して乾燥処理に適した表面状態を形成している。 - 特許庁 - To provide an abrasive for magnetic polishing, a processing liquid and a manufacturing method of the abrasive for magnetic polishing, for providing a superior processing surface, by uniformly acting on a workpiece without deviating the abrasive, without damaging the workpiece, without generating rust, in the magnetic polishing.
磁気研磨の際に、錆が発生せず、被加工物を傷つけることがなく、かつ、被加工物に対して研磨材が偏らずに均等に作用して、良好な加工面が得られるための磁気研磨用研磨材、加工液、および磁気研磨用研磨材の製造方法を提供する。 - 特許庁
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