「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 60 61 62 63 64 65 66 67 68 .... 85 86 次へ＞- This foam processing apparatus E is used in a manufacturing process for an electronic circuit board, and provided to a surface treatment apparatus 1 which emits an alkali treatment liquid B to a substrate material A to treat the surface.
この泡処理装置Ｅは、電子回路基板の製造工程で使用され、基板材Ａに対しアルカリ処理液Ｂを噴射して表面処理する表面処理装置１に、付設される。 - 特許庁 - A water repellent processing method includes applying a solution containing the water repellent agent which reversibly undergoes the solid-liquid phase transition within the range of 0 to 100°C to a fiber aggregate and drying it.
０〜１００℃の範囲内で可逆的に固液相転移する撥水剤を含む溶液を繊維集合体に適用し、乾燥することを特徴とする撥水加工方法。 - 特許庁 - A nitrogen gas 18 is introduced from a gas generator 16 via an inlet pipe 15 into the space between the liquid repellent film 6 formed on the processing target member 5 and the photomask 7.
また、被処理部材５上に形成された撥液膜６とフォトマスク７との間の空間には、気体発生装置１６から導入管１５を介して窒素ガス１８を流入させる。 - 特許庁 - The signal processing unit 30 calculates a water level of the liquid based on the two-dimensional information, the height of the infrared array sensor 20 installed and the detection angle of the infrared array sensor 20.
さらに信号処理部３０は、２次元情報と、赤外線アレイセンサ２０の設置高さと、赤外線アレイセンサ２０の検出角度とに基づき、液体の水位を算出する。 - 特許庁 - An image processing circuit 13 segments only an image in a preset prescribed area among infrared images photographed by the infrared camera 12 and displays the image on a liquid crystal panel 15.
画像処理回路１３は、赤外線カメラ１２が撮影した赤外線画像の中から、予め設定された所定領域の画像のみを切り出して液晶パネル１５に表示させる。 - 特許庁 - To obtain an image forming device for silver halide photosensitive materials which is capable of obtaining uniform and bright images by adequately imparting a processing liquid containing hydrogen peroxide water to the photosensitive materials.
過酸化水素水を含む処理液を感光材料へ適正に付与し、均一で鮮明な画像を得ることができるハロゲン化銀感光材料用の画像形成装置を得ること。 - 特許庁 - The water-soluble lubricant for metal processing allows little change in the solution viscosity, inhibits decrease in the liquid stability when diluted with water and inhibits generation of mists in cutting process.
この水溶性金属加工用油剤は、溶液の粘度変化が少なく、水に希釈した際の液安定性の低下を防ぐと共に、切削加工工程においてミストの発生を抑制する。 - 特許庁 - Besides, the polymer particulates 21 in the first processing liquid layer 22 suppress the shift of the ink droplets 24, then, the good image free from the abnormal dot size and the displacement of dots is obtained.
また、第１処理液層２２内のポリマー微粒子２１によってインク液滴２４の移動を抑制し、ドットサイズ異常やドットの位置ズレが防止された好ましい画像を得ることができる。 - 特許庁 - To provide a video signal-processing method for ensuring visibility while reducing unnecessary electromagnetic waves at a multiplied frequency of a horizontal synchronization signal emitted from the entire surface of a liquid crystal panel.
液晶パネル全面から放射される水平同期信号の周波数の逓倍の不要電磁波を低減しつつ、視認性も確保することのできる映像信号処理方法を提供する。 - 特許庁 - The method comprises a process of forming a layer doped with fluorine on the surface of a glass material, and a process for immersing the glass material in an etching liquid and processing.
ガラス材料表面に予めフッ素をドープした層を形成する工程と、そのガラス材料をエッチング液に浸漬して加工する工程とを具備することを特徴とするガラス加工方法。 - 特許庁 - At the time of processing the contour, a grinding liquid is poured in from the side face of the base 2 of the grindstone 1 is fed to the surface 3 through the hole 4.
輪郭加工に際しては、電着砥石１の円板状台金２の側面から研削液を注液し、研削液供給孔４を介して電着面３に研削液を供給する。 - 特許庁 - To perform development processing with high uniformity by making a supply quantity of a developer uniform, when a treatment liquid such as the developer is supplied to a substrate being held nearly horizontal.
略水平に保持した基板に対し処理液例えば現像液の供給を行なう場合において、現像液の供給量を揃え、均一性の高い現像処理を行うこと。 - 特許庁 - In addition, on a liquid crystal panel 28, a moving image illustrating a condition of discharge of the medals from a time when the lease switch 28 is operated to a time when storing processing of the medals is finished.
また液晶パネル２８には、貸出スイッチ２６が操作されてからメダルの貯留処理が終了するまでの間に、メダルが排出される様子を示す動画像が表示される。 - 特許庁 - An ejection region of the nozzle 4 is selected in accordance with the region to be coated of the wafer W, and consequently the ejection to regions outside the wafer W is reduced to save the processing liquid.
これによりウエハＷの塗布領域に併せてノズル４の吐出領域が選択され、ウエハＷ以外の領域への吐出が少なくなるので、処理液の省量化が図られる。 - 特許庁 - When the nonthermal energy source 45 serves as an ultrasonic energy source, the nonthermal energy is dispersed along a conductive medium 51, filled in between the processing liquid delivery line 43 and a sheath 53.
非熱的エネルギが直接処理液体送出ラインに加えられ、又は、処理液体送出ラインに沿ってエネルギを分散する伝導性媒体を通して間接的に加えられるだろう。 - 特許庁 - An visual sense simulator 10 with a wide viewing angle is provided with a curved surface screen 12 and six liquid crystal projector 14-24 connected to an image processing apparatus 28 via a blending unit 26.
広視野角視覚シミュレータ１０は、曲面スクリーン１２、ブレンディング・ユニット２６を介して画像処理装置２８に接続された６つの液晶プロジェクタ１４〜２４を備えている。 - 特許庁 - A contact angle of liquid with a surface of the intermediate transfer body is measured, and the time of recycling or exchanging processing of the intermediate transfer body is determined based on the measured value.
中間転写体の表面に対する液体の接触角を測定し、その測定値に基づいて中間転写体の再生処理あるいは交換処理の時期を判定する。 - 特許庁 - The minute domain is preferably formed of an oriented birefringent material, and further the birefringent material preferably exhibits liquid crystallinity at least at orientation processing.
前記微小領域は、配向された複屈折材料により形成されていることが好ましく、さらには複屈折材料は、少なくとも配向処理時点で液晶性を示すことが好ましい。 - 特許庁 - Since the faster the plate 4 rotates, the more the amount of the air flow 50 increases the splashing of the processing liquid can be prevented surely from reaching the center region of the wafer W.
この空気流５０の流量は、遮断板４の回転が速くなるほど増大するから、処理液の飛沫がウエハＷの中央領域に到達することを確実に防止できる。 - 特許庁 - The resist film removal method attached on a processing surface of a workpiece includes: dry processing the resist film attached on the processing surface of the workpiece by supplying active hydrogen atom generated by an inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa; and dry processing by supplying active oxygen atom generated by the inductively coupled plasma method between atmospheric pressure and 100 Pa and/or wet processing by medical liquid.
被処理物の処理表面に付着したレジスト膜を除去する方法であって、被処理物の処理表面に付着したレジスト膜に対し、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性水素原子を供給することによるドライ処理と、大気圧から１００Ｐａの間で誘導結合プラズマ法によって生成された活性酸素原子を供給することによるドライ処理及び／又は薬液によるウェット処理とを行う。 - 特許庁 - The oxidation-resistant rare earth based magnet powder has a coating layer principally comprising a pigment on the surface thereof, and its producing process comprises a step for mixing rare earth based magnet powder and processing liquid containing a pigment, and a step for drying the processing liquid containing a pigment adhering to the surface of the rare earth based magnet powder.
本発明の耐酸化性希土類系磁石粉末は、顔料を主たる構成成分とする被着層を表面に有してなることを特徴とするものであり、その製造方法は、希土類系磁石粉末と顔料含有処理液を混合した後、顔料含有処理液が表面に付着した希土類系磁石粉末を乾燥することを特徴とするものである。 - 特許庁 - To provide an automatic developing device for photographic sensitive material which is capable of executing an efficient dehumidifying treatment by hermetically or pseudo-hermetically confining a drying section and waste photographic processing liquid concentration treatment section into the same space, executing dehumidification by the same dehumidifying unit to enable always the stable drying treatment and selectively dehumidifying the drying section and the waste photographic processing liquid concentrating treatment section by the same dehumidifying unit.
乾燥部と写真廃液濃縮処理部とを同一の空間に密閉又は疑似密閉し、同一の除湿ユニットにより除湿し、常に安定した乾燥処理を可能にし、又、同一の除湿ユニットにより乾燥部と写真廃液濃縮処理部を選択的に除湿することにより、効率の良い除湿処理を可能にする写真感光材料用自動現像装置を提供する。 - 特許庁 - The flow rate control portion 134 controls the flow rate control valve 133 based upon the pressure difference between both the sides of the constriction portion 132a when supplying the processing liquid at a first flow rate F1, and controls the flow rate control valve 133 based upon pressure on one side of the constriction portion 132a when supplying the processing liquid at a second flow rate F2 smaller than the first flow rate F1.
流量制御部１３４は、第１の流量Ｆ１で処理液を供給するときは、絞り部１３２ａの両側の圧力差に基づいて流量制御弁１３３を制御し、第１の流量Ｆ１よりも小さい第２の流量Ｆ２で処理液を供給するときは、絞り部１３２ａの片側の圧力に基づいて流量制御弁１３３を制御する。 - 特許庁 - To provide a processing liquid for forming a pattern due to a chemically amplified resist composition superior in in-plane uniformity (CDU) and defect performance of a resist pattern and in addition, for forming the resist pattern reducing an amount of use of the processing liquid in order to stably form a highly precise fine pattern for manufacturing highly integrated and highly precise electronic device, and to provide a method for forming the pattern using it.
高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、レジストパターンの面内均一性（ＣＤＵ）及び欠陥性能に優れ、また処理液の使用量を低減できるレジストパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物によるパターン形成用の処理液及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The ink set for inkjet recording comprises an ink containing a pigment, fine particles and a processing liquid for coagulating or thickening the ink, and is used for inkjet recording for forming images using the ink and the processing liquid, in which the volume average particle size of the fine particles is within a range of from 5 to 2,000% of the volume average particle size of the pigment.
顔料を含むインクと、微粒子とを含む処理液とからなり、前記インクおよび前記処理液を用いて画像を形成するインクジェット記録に用いられるインクジェット記録用インクセットにおいて、前記微粒子の体積平均粒径が、前記顔料の体積平均粒径の５〜２０００％の範囲内であることを特徴とするインクジェット記録用インクセットである。 - 特許庁 - The additive composition for a color development processing liquid for a silver halide color photosensitive material is the one to be added to a color development processing liquid used for forming the image of a silver halide color photosensitive material, and contains a compound expressed by general formula (1) by ≥15 mass%.
ハロゲン化銀カラー写真感光材料の画像形成に用いる発色現像処理液に添加するハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物であって、下記一般式（１）で表される化合物を１５質量％以上含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像処理液用添加剤組成物。 - 特許庁 - The substrate processing method comprises steps of forming a prescribed pattern by etching a film to be etched formed on a substrate; denaturing a substance remained after ending etching processing so as to be soluble in a prescribed liquid; subsequently silylating a surface of the film to be etched on which a pattern is formed; and thereafter dissolving and removing the substance denatured by supplying the prescribed liquid.
基板上に形成された被エッチング膜をエッチング処理して所定パターンを形成する工程と、エッチング処理を終了した後に残存する物質を所定の液に対して可溶化するように変性させる工程と、次いで、パターンが形成された被エッチング膜の表面をシリル化処理する工程と、その後、所定の液を供給して変性された物質を溶解除去する工程とを有する。 - 特許庁 - By employing ink including an anionic or cationic dye and a hydrophilic polymer homopolar with the dye or non-ionic and a processing liquid including a flocculating agent selected from the group consisting of a polyvalent metal salt, an organic amine, an onium salt, an organic acid or its salt and inorganic acids as an ink set, the fixing of ink is accelerated by bringing the ink into contact with the processing liquid on a recording medium.
アニオン性またはカチオン性の染料と、該染料と同極性または非イオン性の親水性ポリマーとを含むインクと、多価金属塩、有機アミン、オニウム塩類、有機酸またはその塩、および無機酸類から選択される凝集剤を含む処理液とからなるインクセットを使用し、記録媒体上でインクと前期処理液とを接触させることによってインクの定着を促進する。 - 特許庁 - This game machine also executes a mini character forenotice selection processing and a sound change determination processing as a second performance group, controls to display a predetermined forenotice performance according to the result of the forenotice selection processing, to the display area 42 of the liquid crystal display 116 and outputs a drive signal to an acoustic wave device 115 to output predetermined sound.
また、第２演出群として、ミニキャラ予告選択処理と音変更判定処理とを実行して当該予告選択処理の結果に応じた所定の予告演出を液晶表示器１１６の表示領域４２にて表示制御するとともに、音波装置１１５に駆動信号を出力して所定の音を出力させる。 - 特許庁 - When a cocking mode is selected, a digital camera 1 changes the degree of white balance adjustment of a photographed image in automatic white balance processing performed by an image processing section 8 according to the operation of an upper or lower button in a multiselector performed by a photographer to an operation section 10, while a through image is being displayed on a liquid crystal display 16 by the processing of a control section 12.
料理モードが選択されると、デジタルカメラ１は、制御部１２の処理により、液晶ディスプレイ１６にスルー画像を表示した状態で、撮影者が操作部１０に対して行うマルチセレクタの上または下のボタンの操作に応じて、画像処理部８が行うオートホワイトバランス処理における撮像画像のホワイトバランス調節の度合いを変化させる。 - 特許庁 - To provide a method for bending-processing of a resin pipe and a jig for the bending-processing which permit to be adapted to other resin than a thermoplastic resin material without leakage of a liquid or the like in the connecting portion due to no need for a pipe joint, and to perform the bending- processing in a short time without worker's skill only by using a simple jig.
管継手を使用することがないため連結部における液体等の漏れの心配がなく、熱可塑性樹脂材以外の樹脂にも適用することができ、簡単な治具を使用するだけで作業者の熟練が不要で短時間で曲げ加工を施すことのできる樹脂管の曲げ加工方法及び曲げ加工用治具を提供する。 - 特許庁 - To provide a means for improving the jam processing operability from near respective inspection doors when a user moves from a normal position for the purpose of the jam processing of recording paper and opens the respective inspection doors with an image forming device of a copying machine, etc., having an elevation liquid crystal display for displaying a jam processing explanation diagram of the recording paper atop the device.
装置上面に、記録紙のジャム処理説明図を表示する立面液晶表示１を有する複写機等の画像形成装置において、使用者が、記録紙のジャム処理の目的で正規の位置から移動して、各点検用扉を開放した時、その近傍からジャム処理操作性を向上させる手段を提供する。 - 特許庁 - To provide a modification processing method in which a portion exhibiting the modifying effects equal to the ones obtained by the conventional mercerization can be formed and in which a dye is hardly decomposed even if the dye comes into contact with a treatment liquid for modification processing, and processed fabric obtained by the modification processing method.
従来のシルケット加工で得られるのと同等の改質効果を奏する部分を形成することができるとともに、改質加工を行うための処理液が染料と接触しても、染料が分解され難い改質加工方法を提案することであり、さらには、これらの改質加工方法によって得られる加工布帛を提案することである。 - 特許庁 - This substrate processing apparatus includes a processing chamber 36, a carrier roller 42 to horizontally carry the substrate W in the processing chamber, a spray nozzle 44 to discharge etching liquid 48 to the top of the substrate carried by the carrying roller, and a gas discharge nozzle 52 to discharge cold air or warm air to a required region on the top of the substrate carried by the carrier roller.
処理チャンバ３６と、処理チャンバ内で基板Ｗを水平方向へ搬送する搬送ローラ４２と、搬送ローラによって搬送される基板の上面へエッチング液４８を吐出するスプレーノズル４４と、搬送ローラによって搬送される基板上面の所要領域に対して冷風または温風を吐出する気体吐出ノズル５２とを備える。 - 特許庁 - Before developer is discharged onto an exposed resist film formed on a surface of the substrate W from a developer discharge nozzle 28, and the resist film is developed; solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from a liquid discharge nozzle 30 as pre-wetting liquid, and a pre-wetting processing is performed.
現像液吐出ノズル２８から基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜上へ現像液を吐出してレジスト膜を現像処理する前に、液体吐出ノズル３０からプリウェット液として界面活性剤を含む溶液をレジスト膜上へ吐出してプリウェット処理する。 - 特許庁 - To provide a cleaning device for an electrophotographic apparatus capable of surely removing residual developer which is not used for printing processing and remains on the surfaces of each of printing members of the electrophotographic apparatus using liquid developer without causing liquid leakage by simple structure.
この発明の課題は、液体現像剤を用いた電子写真装置の各印刷部材の表面に、印刷処理に使用されずに残った残存現像剤を、簡単な構造で、液漏れを起こさず、確実に除去することができる、電子写真装置のクリーニング装置を実現することにある。 - 特許庁 - The ultraviolet ray can also irradiate to the part of the thin film after the orientation processing is applied to the thin layer formed on the substrates 15, 16, on which electrodes are formed beforehand, and after the liquid crystal panel 5 is completed by enclosing liquid crystal between the substrate members 11, 12.
また前記紫外線は、前記電極形成後の基板１５，１６上に形成された薄膜に前記配向処理が施された後、前記基板部材１１，１２間の液晶が封入されて液晶パネル５が完成した後に、前記薄膜内の前記部分に照射されてもよい。 - 特許庁 - In addition, in the liquid applicator 1 for applying the application liquid to the hairs to be applied by the brush implanted on the core part, the brush is slanted in the axial direction of the core part by implanting the brush on the core part or is slanted in the axial direction of the core part by thermal processing after implanting the brush on the core part.
また、基幹部に植毛されたブラシによって塗布対象毛に塗布液を塗布する液塗布具１において、ブラシを、基幹部に植毛することにより基幹部軸方向に傾斜させ、または基幹部に植毛した後熱加工により基幹部軸方向に傾斜させている。 - 特許庁 - The plurality of calculating devices for control 3A, 3B, 5 and 6 the plurality of liquid crystal touch panel display units 1 and 2 are connected to the same transmission line 4, and switches the interfacing destination of the liquid crystal touch panel display units 1 and 2 by selectively locking the transmission processing of the calculating devices for control 5 and 6.
複数の制御用演算装置３Ａ、３Ｂ、５、６と複数の液晶タッチパネル表示器１、２とを同一の伝送路４に接続し、制御用演算装置５、６の伝送処理を選択的にロックすることによって液晶タッチパネル表示器１、２のインターフェース先を切り替える。 - 特許庁 - In the standby state which is the non-processing state of a PS plate, a thermistor is used to detect the liquid temperature in the piping; and when the detection result is deviated from a prescribed range, a circulating pump is operated to send a developer in a developing tank into the piping, and the liquid temperature is detected again.
ＰＳ版の非処理状態であるスタンバイ状態では、サーミスタを用いて配管内の液温検出を行い、検出結果が所定の範囲を外れると、循環ポンプを作動させて、現像槽内の現像液を配管内に送り込んで、再度液温検出を行う。 - 特許庁 - To provide a liquid-cooling structure suitable for reductions in size and thickness to provide a necessary and sufficient circulating liquid flow rate in view of an increase in a heating amount of a heating element in association with an improvement in a processing performance of an electronic device and to provide the electronic device capable of enduring against the use for a long period.
電子装置の処理性能向上に伴う発熱素子の発熱量増大に対して、必要かつ十分な循環液流量となる、小型化、薄型化に適した液冷構造を提供するとともに、長期間の使用に耐え得る電子装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a fine-processing surface-treatment liquid with a uniform composition for a glass substrate containing multi-components, by which a glass substrate containing multi-components, e.g. a glass substrate for a flat panel display of liquid crystal or organic eletroluminescent (EL) can be worked without precipitation of crystal or generation of surface roughness.
多成分を有する例えば液晶や有機ＥＬなどのフラットパネルディスプレイ用のガラス基板自体を結晶の析出及び表面あれを生じさせることなく加工する事が出来る多成分を有するガラス基板用の均一組成を有する微細加工表面処理液を提供すること。 - 特許庁 - A sheet united by applying thermal-embossed processing to a water- absorbing polymer between nonwoven fabric sheets containing an antibacterial mildewproof agent that prevents development of odor caused by components eluting into water and an adsorbent is sealed between a liquid permeable and a liquid impermeable sheet.
水中へ溶出する成分により臭いの発生を防止する抗菌防黴剤と吸着剤を含有させた不織布の間に吸水性ポリマーを加熱エンボス加工して一体化したシートを液体透過性のシートと液体不透過性シートの間に封入したものである。 - 特許庁 - To provide an image display device with which arithmetic processing of control values of a luminance liquid crystal panel performing image display of an HDR system (two modulation optical systems) and a color liquid crystal panel for every RGB can be performed with simplicity and high accuracy.
ＨＤＲ形式（２変調光学系）の画像表示を行う輝度液晶パネル及びＲＧＢ毎の色液晶パネルの制御値を、入力される映像信号から簡易に高い精度で演算処理することのできる画像表示装置及びその方法を提供する。 - 特許庁 - A liquid crystal control circuit 2 is mounted on a control substrate 11, and is provided with a plurality of connection wires to receive input of image data and power supply and to connect a plurality of circuits including a signal processing circuit 51 and a liquid crystal driving circuit 52, as well as the power supply, a plurality of circuits and the driver circuit 42.
液晶制御回路２は、制御基板１１に搭載され、画像データ及び電源の入力を受け、信号処理回路５１や液晶駆動回路５２を含む複数の回路、並びに、電源、複数の回路及びドライバ回路４２を接続する複数の接続線を備えている。 - 特許庁 - In a resist application device, a long-sized resist nozzle 12 ejects a resist liquid from an ejection port above a slit toward a substrate G on a stage 10, the resist liquid being force-fed from a main resist pump 22 and an auxiliary resist pump 24 through a main resist pipe 26 during the application processing.
このレジスト塗布装置において、長尺型のレジストノズル１２は、塗布処理中に主レジストポンプ２２および補助レジストポンプ２４より主レジスト管２６を介して圧送されてくるレジスト液をスリット上の吐出口よりレジスト液をステージ１０上の基板Ｇに向けて吐出する。 - 特許庁 - A coating processing part 84 of a resist coating unit (COAT) 44 discharges resist liquid from a long resist nozzle 100 into a band shape while conveying a substrate G floating in the air above a levitation stage 96 in a longitudinal direction of the stage, thereby forming a coating film of the resist liquid on the substrate G.
レジスト塗布ユニット（ＣＯＡＴ）４４の塗布処理部８４は、浮上ステージ９６上で空中に浮いている基板Ｇをステージ長手方向に搬送しながら、長尺型のレジストノズル１００よりレジスト液を帯状に吐出して、基板Ｇ上にレジスト液の塗布膜を形成する。 - 特許庁 - The ink jet recorder has a recovering mechanism for applying a recovery processing to the recording head for performing at least either one of the operation for suppressing the thickening of the ink and treatment liquid stored in the recording head and the operation for removing the ink and treatment liquid adhered to the recording head.
インクジェット記録装置は、記録ヘッドに貯留されたインク及び処理液の増粘を抑える、あるいは記録ヘッドに付着したインク及び処理液を取り除くことのうち、少なくともいずれか一方のために、記録ヘッドに回復処理を行う回復機構を有している。 - 特許庁 - This immersion exposure device includes: a stage for mounting a substrate to be subjected to exposure processing thereon; a projection lens located above the substrate; a shower head for supplying an immersion liquid between the substrate mounted on the stage and the projection lens; and a dummy wafer W1 mounted on the stage for cleaning the immersion liquid.
液浸露光装置は、露光処理を行う基板を戴置するステージと、基板の上方に位置する投影レンズと、ステージに戴置された基板と投影レンズとの間に液浸液を供給するシャワーヘッドと、ステージに戴置され、液浸液を洗浄するダミーウェハＷ１と、を有する。 - 特許庁 - This system displays the image stored in the recording medium of the digital camera 200 by the operation of the digital camera 200 on a liquid crystal projector 100, and allows the result of the image processing input on the digital camera 200 to be reflected on the image displayed on the liquid crystal projector 100.
このシステムは、デジタルカメラ２００の記録メディアに保存した画像をデジタルカメラ２００の操作によって、液晶プロジェクタ１００により表示し、デジタルカメラ２００上で入力した画像処理の結果を液晶プロジェクタ１００により表示された画像にも反映させる。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
