「processing liquid」を含む例文一覧(4296)

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  • The wallpaper is produced by coating a processing liquid obtained by mixing the hydrophilic stainproof chemical and the dry soil-preventing chemical on a surface layer in a wallpaper obtained by laminating the surface layer on a base material layer, and drying the coated product.
    基材層に表面層を積層した壁紙において、前記表面層上に、親水性防汚薬剤と、ドライソイル防汚薬剤とを混合した加工液を塗布し、乾燥したことを特徴とする壁紙。 - 特許庁
  • To provide a method and device which prevent functional degradation of a water-soluble processing liquid in a simple manner and at low cost without needing complicated maintenance nor using expensive equipment with high maintenance cost such as a dialysis apparatus.
    透析装置等の高価かつ維持管理コストの高い機器を使わずに、また煩雑なメインテナンスを必要とせずに、簡便かつ低コストで水溶性加工液の機能劣化を防止できる方法及び装置を提供する。 - 特許庁
  • Each small region of a liquid crystal slit layer 300 is provided under the light emitting layer 200, has two states; a light shield state and a transparent state, and a slit processing control section 122 controls formation of a slit 310.
    液晶スリット層300は発光層200の下に設けられ各小領域が遮光状態と透明状態の2状態を備え、スリット処理制御部122の制御によりスリット310を形成する。 - 特許庁
  • The substrate processing apparatus is provided with an air valve 14 by branching a pipe in the vicinity of a delivery port 41b of the magnet pump 4, and a liquid level sensor 15 placed at a position slightly higher than the position of the delivery port 41b of the magnet pump 4.
    マグネットポンプ4の送出口41b近傍から配管を分岐してエアバルブ14を備えると共に、マグネットポンプ4の送出口41bよりもわずかに高い位置に液面センサ15を設ける。 - 特許庁
  • Then, during the display, the data of the memory 6 are reduced to the above-mentioned size, a filtering processing is performed, foldover distortion accompanying reduction is suppressed and then, the display of a second time is performed at the liquid crystal display device.
    次にこの表示中に上記メモリ6のデータは上記サイズに縮小されると共に、フィルタ処理されて縮小に伴う折り返し歪みを抑えられた後、液晶表示装置に二回目が表示される。 - 特許庁
  • The substrate 200 is supported by a roller shaft 400 and transfer rollers 40, and spraying pipes 2 and 2a to which the processing liquid is supplied are arranged in parallel and rotatably by supporting members 12 and 13 above the substrate 200.
    ローラ軸400および搬送ローラ40により基板200が支持され、処理液が供給されるスプレーパイプ2,2aが基板200の上方に支持部材12,13により並列にかつ回動可能に配列されている。 - 特許庁
  • Visual measurement is performed with reference to a scale M previously installed near the seal edge portion, or the area where the wettability testing liquid is repelled can be calculated with the processing of the photographed image of the seal edge portion.
    測定においては、予めシールエッジ部近傍に設置したスケールMを参照して目視により測定、あるいは、シールエッジ部を撮影した画像を画像処理して、濡れ性試験液をはじいた面積を算出してもよい。 - 特許庁
  • To provide an elevator button manufacturing method can save a variety of labor and time required for using liquid resin, and eliminate a lot of labor and time because there is no need of defoaming processing, and an elevator button.
    脱泡処理を行う必要がないので手間と時間がかからず、また、液体樹脂を使用することによる様々な手間や時間を省くことができるエレベータのボタンの製造方法およびエレベータのボタンを提供する。 - 特許庁
  • To provide a radiation crosslinkable polymer composition having excellent thermal resistance, high flexibility and superior handling ability at the processing because a liquid substance does not bleed out, which is useful, particularly, as a coating material for electric wires.
    耐熱性、柔軟性に優れ、液状物質がブリードアウトすることなく、加工時などのハンドリング性に優れており、特に電線用被覆材として有用な放射線架橋性ポリマー組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To ensure that appropriate deletion processing is automatically applied to data groups generated by implementation of a measurement sequence in a liquid scintillation counter provided with a repeat measurement function and a cycle measurement function.
    リピート測定機能及びサイクル測定機能を備えた液体シンチレーションカウンタにおいて、測定シーケンス実行により生成されたデータ群に対して自動的に適切な削除処理等が適用されるようにする。 - 特許庁
  • Liquid material 21 is applied on a section analysis spot 11 of the semiconductor device 100, and a protective film 22 is formed by burning or the like, and thereafter section processing of the semiconductor device 100 is executed by using a focused ion beam 1.
    半導体装置100の断面解析箇所11に液体材料21を塗布し、焼成等により保護膜22形成後、集束イオンビーム1を用いて半導体装置100の断面加工を行う。 - 特許庁
  • A directivity control part 31a inside a display processing part 31 controls movement of a liquid crystal shutter provided on a display 33, and overlaps a plurality of directivity display output with the directivity imparted to the display output of the display 33.
    表示処理部31内部の指向性制御部31aは、ディスプレイ33に設けた液晶シャターの動作を制御し、ディスプレイ33の表示出力に指向性を持たせて複数の指向性表示出力を重ねる。 - 特許庁
  • A signal processing circuit 100 is provided between a video signal generation circuit 11 and an LCD driver 13 and a signal obtd. by emphasizing a level difference between fields of a video signal is supplied to each liquid crystal panel 23.
    映像信号生成回路11とLCDドライバ13との間に信号処理回路100を設けて、映像信号のフィールド間のレベル差を強調した信号を各液晶パネル23に供給する。 - 特許庁
  • To reduce appearance of gray scale coloring due to a very small error caused in digital signal control by correcting color reproduction specific to a liquid crystal panel by the digital signal control and processing the correction with high precision.
    液晶パネル特有の色再現をデジタル信号制御で補正し、その補正が高精度で処理可能であり、デジタル信号制御で生じる微小誤差によるグレースケール着色の見えを軽減するようにする。 - 特許庁
  • The generated volatile component is emitted into the space between the liquid repellent film 6 formed on the processing target member 5 and the photomask 7, and then externally discharged together with the nitrogen gas 18 from the space through an exhaustion pipe 19.
    発生した揮発成分は、被処理部材5上に形成された撥液膜6とフォトマスク7との間の空間に放出され、窒素ガス18とともに該空間から排出管19を介して外部へ排出される。 - 特許庁
  • The glass fiber cartridge for radioactive waste liquid processing formed in a specific shape body by combining glass fiber with inorganic binder, is characterized in that penetration holes are provided in the center part of the formed body.
    ガラス繊維を無機質バインダーで結着して所定形状の成形体に形成してなる放射性廃液処理用ガラスファイバーカートリッジであって、前記成形体の中心部に貫通孔を設けてなることを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a liquid chromatograph analyzing device capable of performing a process unaffected by a fluctuation in room temperature and an appearance of a ghost peak without setting a complicated processing condition before an analyst measures a sample.
    分析者が試料の測定前に複雑な処理条件の設定を行なわなくても、室温変動やゴーストピーク出現の影響を受けない処理を行なうことができる液体クロマトグラフ分析装置を提供する。 - 特許庁
  • In the metal replacement processing liquid on aluminum or an aluminum alloy at least containing a metal salt replaceable with aluminum and an alkali compound, as the alkali compound, quaternary ammonium hydroxide is contained.
    少なくともアルミニウムと置換可能な金属の塩とアルカリ化合物とを含有するアルミニウム又はアルミニウム合金上の金属置換処理液において、アルカリ化合物として、水酸化第4級アンモニウムを含有させる。 - 特許庁
  • The waste photographic processing liquid is then diffused in a laminated form of ≤5 mm in thickness and is further evaporated and concentrated to slid.
    写真廃液を、流動性を失わない範囲で、その体積が1/3以下に減少した濃縮写真廃液まで蒸発・濃縮した後、厚さが5mm以下の層状に拡散させ、更に、固形物まで蒸発・濃縮する。 - 特許庁
  • To provide a multilayered analyzing element for analyzing a liquid sample improved in the adhesion force between a transparent support and a detection layer even by handling at the time of processing while holding fundamental capacities such as sensitivity, preserving properties or the like.
    感度、保存性能等の基本性能を保ったまま、加工時のハンドリングによっても透明支持体と検知層との間の密着力が改善された、液体試料分析用多層分析素子を提供すること。 - 特許庁
  • Translucent information such that the nipples becomes thin as it goes to the vicinity of an outline of the liquid surface is set, and translucent processing can be executed on the basis of the translucent information when plotting the nipple object.
    液面の輪郭付近に近づくほど波紋を薄くするような半透明情報を設定しておき、波紋オブジェクトを描画する際に当該半透明情報に基づき半透明処理を行うようにしてもよい。 - 特許庁
  • Further, the liquid processing apparatus 10 includes a shielding mechanism 30 shielding the wafer W from the cover mechanism 60 between the cover mechanism 60 and the wafer W when the cover mechanism 60 is positioned at the lifted position.
    また液処理装置10は、カバー機構60が上昇位置にある時にカバー機構60とウエハWとの間でウエハWをカバー機構60から遮蔽することができる遮蔽機構30をさらに備えている。 - 特許庁
  • Since a flow of the process liquid parallel to the approximately horizontal direction can thus be uniformly formed in the entire processing reservoir 1, occurrence of a swirling current and formation of retention can be effectively inhibited.
    このため、処理槽1の全体に略水平方向に沿った平行な処理液の流れが均一に形成できることから、渦流の発生及びそれに伴う滞留部の形成を効果的に抑制できる。 - 特許庁
  • When a country name and an amount of money intended for denomination computing are specified by a user of the information processing device 1, the specified country name and amount of money, and denominations are displayed on a liquid crystal display 2.
    情報処理装置1の使用者により金種計算の対象国名と対象金額が指定されると、指定された対象国名と対象金額及び通貨単位を液晶表示装置2に表示する。 - 特許庁
  • To provide a method for production of dainty with a good preservability free from going moldy by improving taste and flavor by directly spraying a liquid seasoning to a material for fry processing.
    フライ仕掛品に液状の調味料をそのまゝ直接振り掛けて味や風味を向上させ、かつこれによりかびを生ずることがないようにして日持ちをよくした珍味食品の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a recording apparatus capable of improving the quality of an image formed on a recording medium by reducing a fluctuation in the conveyance speed of the recording medium when a processing liquid on the recording medium is leveled.
    記録媒体上の処理液を均す際の記録媒体の搬送速度の変動を低減させることで、記録媒体に形成される画像の画質を向上させることが可能な記録装置を提供すること。 - 特許庁
  • When rhythm game performance processing (S6) is started, an operation timing report part 40 provided with a first marker moving lane 42A to sixth marker moving lane 42F respectively in a semicircular shape is displayed on a first liquid crystal display 3.
    リズムゲーム実行処理(S6)が開始されると、第1液晶ディスプレイ3には、夫々半円形状をなす第1マーカ移動レーン42A〜第6マーカ移動レーン42Fを有する操作タイミング報知部40が表示される。 - 特許庁
  • At that time, execution of insulating resistance drop deciding processing using the output of an insulating resistance drop detecting circuit is stopped so that dispatch of information on insulation resistance drop caused by the conductivity of the cooling liquid is prohibited.
    このとき、冷却液の導電率を要因とする絶縁抵抗低下の報知が禁止されるように、絶縁抵抗低下検出回路の出力を用いた絶縁抵抗低下判定処理を実行しないようにする。 - 特許庁
  • The spin coater is provided with an exhaust damper 13 for regulating the exhaust air flow at an opening for exhausting the atmosphere produced through evaporation of resist liquid solution in a fixed cup 5 in order to suppress the exhaust air flow except during spin processing.
    スピン塗布装置において、固定式カップ5内のレジスト液溶媒が蒸発した雰囲気を排気する排気口に排気量を調節する排気ダンパ13を設け、スピン処理時以外は排気量を抑制する。 - 特許庁
  • To provide a liquid crystal display device having a simple structure that can suppress degradation of picture quality due to color drift and can achieve dimming processing, using sub-pixel structure of four colors R, G, B, and Z for video display.
    R,G,B,Zの4色のサブ画素構造を用いて映像表示を行う際に、簡易な構成で色ずれによる画質低下を抑えつつ、ディミング処理を実現することが可能な液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
  • Further, since the density of the insulator can be increased, when subjecting the conductors to a plating processing, the conductor peeling caused by a plating liquid penetrating the insulator can be prevented, and the sticking of the plating to the underlaid conductors of the insulator can be also prevented.
    さらに絶縁体を高密度化することが出来るため、導体にめっき処理を行った場合、めっき液進入による導体剥離、絶縁体下の導体へのめっき付着を防止することが出来る。 - 特許庁
  • The used oil type discharge machining liquid in the processing trough 10 is reserved in a reservoir trough 50 upon passing through an exhaust line 40 and is delivered forward so as to be mixed with the water reserved in the lower part of the separator trough 21.
    加工槽10の使用済の油系放電加工液は、排出管路40を通って貯留槽50に貯留され、分離槽21の下層に貯留される水に混入するように送液される。 - 特許庁
  • When the preparation of the processing liquid in an automatic mode is selected, whether the inside of a developing tank is empty or not is checked and when the developing tank is empty, the supply of diluting water, agitation and temperature control are carried out after a stock solution is fed.
    自動モードでの処理液の仕込みが選択されると、現像槽内が空か否かを確認し、現像槽が空であるときには、原液が投入された後に、希釈水の供給及び攪拌、温調を行う。 - 特許庁
  • The processing liquid fed to the chamber 40 flows toward an outlet port 44 provided to the side 43 opposed to the side 41 where the inlet port 42 is provided and then flows out of the chamber 40 through the outlet port 44.
    供給された処理液は、チャンバー40における流入口42の形成された側部41に対向する側部43に形成された流出口44に向かって流れ、該流出口44から流出する。 - 特許庁
  • Although the wafer W becomes thin as a result of hydrofluoric-nitric acid processing, since the suction base 10 is lifted, the thickness of the liquid film of hydrofluoric-nitric acid formed on the upper surface of the wafer W can be kept to be almost constant.
    ふっ硝酸処理の結果ウエハWは薄くなるが、吸着ベース10が上昇されるために、ウエハWの上面に形成されるふっ硝酸の液膜の厚みをほぼ一定に保つことができる。 - 特許庁
  • To provide a wholly aromatic liquid crystalline polyester excellent in thin-wall fluidity under melt processing and scarcely causing defects including deformation and projected pin traces in releasing from a high-temperature mold, and to provide a composition containing the same.
    溶融加工時の薄肉流動性に優れ、高温金型での離型時に変形や突き出しピン痕などの不良の起こりにくい全芳香族液晶性ポリエステルおよびその組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁
  • To provide a liquid ejector which can wipe by contacting a nozzle formation face under a uniform pressure distribution with the use of a contact force of a level not to damage a water repellency processing layer on the nozzle formation face.
    ノズル形成面上の撥水処理層を傷つけない程度の当接力を用いて、ノズル形成面に均一な圧力分布で当接して払拭可能とする液体噴射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • When a substrate (W) is carried to a flaking processing chamber 2, by using a roller conveyer 1, a pump 19 of a liquid feeding mechanism 10 is driven under control by a control unit 21 to feed an organic flaking agent containing amine.
    基板Wがローラコンベア1により剥離処理室2内に搬入されると、制御装置21は液供給機構10のポンプ19をインバータ20を介して駆動制御し、アミンを含む有機剥離液を供給する。 - 特許庁
  • To provide a polishing method which can inhibit the dishing in a small amount of use of a polishing liquid and can carry out an LSI processing of high performance when chemically and mechanically polishing a workpiece in a semiconductor device manufacturing process.
    半導体デバイス製造工程で被加工体を化学的機械的研磨する際に、低い研磨液の使用量でかつディッシングを抑制し、高性能のLSI加工を行うことができる研磨方法を提供すること。 - 特許庁
  • The dry-processing apparatus of the display panel dries a wire group 27 of the liquid crystal panel 100 configured by superposing a first substrate 10 and a second substrate 20 on each other across a seal material 30.
    本発明にかかる表示パネルの乾燥処理装置は、第1基板10と第2基板20とをシール材30を介在させて重ね合わせた液晶表示パネル100の配線群27を乾燥させるものである。 - 特許庁
  • The image processing circuit 10 display-outputs the respective right and left divided image data from which the added data are removed to the right panel 20R and left panel 20L of a liquid crystal panel module 20 by matching a display timing by a TC 16.
    画像処理回路10は、前記付加データを除去した左右の各分割画像データを、TC16で表示タイミングを合わせて、液晶パネルモジュール20の左パネル20L,右パネル20Rに表示出力する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processor where all parts of a substrate required to be processed can be processed in short time and the invasion of processing liquid into the parts of the substrate, which are not required to be processed, can be prevented.
    処理が必要とされる基板の総ての部位を短時間で処理することができ、かつ、処理の必要がない基板の部位への処理液の侵入を防止することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a lubricating oil composition which is liquid and excellent in handling properties, and does not cause seizing under processing conditions of high temperatures and high bearing pressures without using an extreme-pressure additive and an oiliness agent.
    液状で取扱い性に優れると共に、極圧剤や油性剤などの添加を要することなく、高温・高面圧の加工条件下において焼付き等を起こすことのない潤滑油組成物を提供すること。 - 特許庁
  • In a pattern application method for forming a pattern of a coating film on the substrate film by applying a coating liquid on the substrate film, part of the substrate film is subjected to pattern-like surface reform processing.
    基材フィルム上に塗布液を塗布することによって基材フィルムに塗布膜のパターンを形成するパターン塗布方法において、まず、基材フィルムの一部にパターン状の表面改質を施す加工を行う。 - 特許庁
  • To airtightly or liquid-tightly mount a sensor where a semiconductor sensor section, a signal processing circuit section, and a pad section are formed on a semiconductor substrate over the inside and outside of a wall section of a pipe, vessel or the like.
    半導体センサ部及び信号処理回路部並びにパッド部を半導体基板に形成してなるセンサを、パイプあるいは容器などの壁部の内外にわたって気密に又は液密に取り付けることができるようにする。 - 特許庁
  • In this image forming method, the processing liquid being the color material fixing material having usual concentration is applied on the whole surface of an image forming region of the intermediate transfer body 12 in the first image recording, and transfer recording is performed after forming primary image data.
    最初の画像記録では中間転写体12の画像形成領域の全面に色材固定材料濃度が通常濃度の処理液を付与し、1次画像データを形成したのちに転写記録を行う。 - 特許庁
  • This invention provides the projection type display device, the liquid crystal projector, and the image processing system, the projection condition of which can be changed and that configure a means to automatically correct distortion of a projected image depending on the revision of the projection condition.
    投射条件を変え得る投射型表示装置、液晶プロジェクタ装置、および画像処理システムであって、前記投射条件の変更に応じて投射画像の歪を自動的に補正する手段を構成する。 - 特許庁
  • To provide a multilayered analyzing element for analyzing a liquid sample improved in the adhesion force between a transparent support and a sensing layer even by handling at the time of processing while holding fundamental capacities such as sensitivity, preserving properties or the like.
    感度、保存性能等の基本性能を保ったまま、加工時のハンドリングによっても透明支持体と検知層との間の密着力が改善された、液体試料分析用多層分析素子を提供すること。 - 特許庁
  • The frame of this display is made small by forming the signal processing circuit outside the area, where the liquid crystal is sealed so as to effectively use the side area of the FPC-attaching section which has conventionally been a dead space.
    信号処理回路を液晶などの封止領域の外側にだし、従来デッドスペースになっていたFPC装着部の横領域を有効活用することによって、額縁の小さな表示装置を提供する。 - 特許庁
  • In the application softwares of contents for multi-display on a client PC sending the image display signal to the liquid crystal circuit (personal computer), it is unnecessary to perform overlapping processing, and overlapping display are performed among respective screens on the screen of this display device.
    液晶表示回路に映像表示信号を送出するクライアントPC上でのマルチ表示用のコンテンツのアプリケーションソフトはオーバーラップ処理する必要が無く、スクリーン上の各画面間でオーバーラップ表示ができる。 - 特許庁
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