「processing liquid」を含む例文一覧(4296)
＜前へ 1 2 .... 67 68 69 70 71 72 73 74 75 .... 85 86 次へ＞- To suppress the production variation between lots in a method of forming a coating film by applying a liquid crystalline compound dissolved in an organic solvent, keeping the compound at a temperature higher than a coating temperature and after that, performing aligning and fixing processing.
有機溶媒に溶解した液晶性化合物を塗布したのち、塗布温度より高い温度に保持し、その後に配向固定処理を行う塗布フィルムの製造方法において、ロット間の製造ばらつきを抑制する - 特許庁 - To configure a device which hardly damages a sensitive material by avoiding the phenomenon of depositing crystals from a development processing liquid on a guide roller bearing part which guides the photosensitive material, and making the guide roller rotate smoothly.
感光材料を案内するガイドローラの軸受け部に現像処理液から結晶が析出する現象を回避してガイドローラを円滑に回転させると共に、感光材料を傷つけ難い装置を構成する。 - 特許庁 - To provide a filter unit for a waste liquid processing device capable of surely separating processed scraps such as cutting scraps in spite of a filter with a comparatively coarse mesh and improving life of the filter.
比較的メッシュの粗いフィルターであっても切削屑等の加工屑を確実に分離することができるとともに、フィルターの寿命を向上されることができる廃液処理装置のフィルターユニットを提供する。 - 特許庁 - To provide a flame retardant fabric for printing which is capable of having both a flame-proofing property and a dye-adhering property at high levels, to provide a pre-treating liquid enabling achievement thereof, and to provide a method for flame-retardant processing of a fabric for printing.
防炎性と染料の染着性とを高水準で両立し得る防炎性捺染用布帛、並びに、その実現を可能とする前処理液及び捺染用布帛の防炎加工方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, the TFT 4 is never destroyed by the potential to be applied to the pixel electrode 3b and also a voltage applying time (aging processing time) is shortened by enlarging the voltage to be applied to the liquid crystal 2.
これにより、ＴＦＴ４は、画素電極３ｂに印加される電位によって破壊されることは無く、しかも液晶２に印加する電圧を大きくして電圧印加時間（エージング処理時間）を短縮できる。 - 特許庁 - A notification control CPU30a (central processing unit) detects the connected state or the unconnected state between the first and second connectors 41 and 51 to actuate a liquid crystal pattern display device 18 on the basis of the result in the detection.
また、報知制御ＣＰＵ３０ａは、第１コネクタ４１及び第２コネクタ５１の接続状態または非接続状態を検出し、その検出結果に基づいて液晶式図柄表示装置１８を作動させる。 - 特許庁 - Carbon dioxide for generating lignified carbon dioxide is supplied from a liquid carbon dioxide cylinder 26 to the processing tank through a piping 26a having a pressure regulating valve 26b and stop valve 26c arranged in the middle of it.
炭酸ガスハイドレートを生成するための炭酸ガスは、液化炭酸ガスボンベ２６から圧力調整弁２６ｂ及び開閉弁２６ｃをその途中に配設された配管２６ａを介して処理槽に供給される。 - 特許庁 - Focused pixels are selected from among each pixels of those pictures by the picture processing means 42, and a focused picture to be observed which is constituted of only the focused pixels is generated, and displayed on the liquid crystal display 5.
これらの画像の各画素のうちから合焦点画素が画像処理手段４２によって選択され、合焦点画素だけからなる観察対象の合焦点画像が生成されて、液晶ディスプレイ５に表示される。 - 特許庁 - To provide a liquid detergent composition for metal excellent in initial detergency, exerting excellent detergency even contaminated with processing oil or the like in continuously cleaning industrial metal products or parts.
連続的に金属製工業製品・部品を洗浄する際に、初期洗浄力にすぐれ、加工油などの汚れが混入しても優れた洗浄力を発揮する金属用液体洗浄剤組成物を提供すること。 - 特許庁 - To enhance intra-plane uniformity in laser processing, in an apparatus in which a cup with a chuck arranged is horizontally moved and in which for example dicing is performed by a laser beam with a liquid interposed on the surface of a wafer.
チャックが配置されたカップを水平方向に移動させ、ウエハの表面に液体を介在させてレーザー光により例えばダイシングを行う装置において、レーザー処理の面内均一性を向上させること。 - 特許庁 - The detergent composition is used for washing a mold for molding and processing a plastic and contains water being a solvent, a water soluble phosphate such as potassium pyrophosphate or the like dissolved in water, liquid paraffin and a surfactant.
プラスチック成形加工用金型の洗浄に使用する洗浄剤組成物であって、水を溶媒とし、その水に溶解したピロリン酸カリウム等の水溶性のリン酸塩と、流動パラフィン及び界面活性剤を含む。 - 特許庁 - To provide a display device preventing misoperation in a dual view liquid crystal touch panel, and allowing certain processing to correct operation, and to provide an image forming apparatus with the display device.
デュアルビュー液晶タッチパネルにおける誤操作を防止すると共に正しい操作に対して確実に処理を実行することが可能な表示装置、及び、当該表示装置を備えた画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - A system for processing a multilayer of a liquid crystal film display material is provided with UV irradiation apparatuses 60 for applying polarized UV irradiation onto a substrate fed from a web 16 at a desired angle.
液晶ディスプレイフィルム材料の多重化層の加工に関するシステムであって、ウェブ１６から供給される機材上に、所望の角度で、偏光された紫外照射を適用するための放射装置６０を持つ。 - 特許庁 - The sawdust of the hinoki cypress- hiba arborvitae is distilled by steam of purified water from which the cation is removed by purification processing, and the vaporized liquid after distilling is cooled to extract solution including hinokitiol.
また、ヒノキアスナロのオガクズを、予め浄化処理されて陽イオンが除去された浄化水の蒸気で蒸留し、その蒸留後の気化液を冷却することでヒノキチオールを含んだ溶液を抽出するようにした。 - 特許庁 - Then, after curing the filled underfill resin 10, by immersing the semiconductor apparatus 23 loaded with the resin dam 8 in a dissolution liquid 22 stored in a processing tank 21, the resin dam 8 is dissolved.
そして、その充填したアンダーフィル樹脂１０を硬化した後、処理槽２１に貯留された溶解液２２内に、樹脂ダム８が搭載された半導体装置２３を浸漬させることで、樹脂ダム８を溶解する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a microstructure that is improved in productivity by simplifying a processing stage of forming a desired pattern by using a liquid material, a functional element, an optical element, an integrated circuit, and electronic equipment.
液状材料を用いて所望パターンを形成する際の処理工程を簡略化し、生産性の向上を図った微細構造物の製造方法、機能性素子、光学素子、集積回路及び電子機器を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive lithographic printing plate material with good resistance to a processing liquid on a printing machine, excellent printing wear, and excellent stain resistance during printing, a supporting body providing it and a method for manufacturing the printing plate.
印刷機上での処理液耐性が良好で、耐刷性に優れ、印刷時の汚れ防止性に優れる感光性平版印刷版材料並びにそれを与える支持体及びその製版方法を提供する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the electrode foil for an electrolytic capacitor includes an etching step with an aluminum foil, an immersion step in which the aluminum foil is immerged in a processing liquid at least once, a thermal treatment step, and a chemical formation step.
電解コンデンサ用電極箔を製造するにあたっては、アルミニウム箔に対するエッチング工程、アルミニウム箔を処理液に１回以上浸漬する浸漬工程と、熱処理工程、および化成工程を行う。 - 特許庁 - To provide a fluid injection device, which can easily, securely and swiftly restart recording processing to a medium without deteriorating the quality of an image even in the case the clogging of a nozzle is generated, and furthermore can optionally change a nozzle group injecting liquid without exchanging a recording head.
ノズル詰まりが発生した場合であっても、容易、確実、速やかに、また、画像品質を低下させることなく、媒体への記録処理を再開することができる流体噴射装置を提案する。 - 特許庁 - This device is provided with a dehumidifying unit for executing dehumidification from the gases of the drying section and the waste photographic processing liquid concentrating treatment section and is provided with a gas distribution means for inhaling the gases prior to the dehumidification and discharging the gas after the dehumidification.
前記乾燥部と前記写真廃液濃縮処理部の気体から除湿する除湿ユニットを設け、除湿前の気体を吸入し、除湿後の気体を排出する気体流通手段を設ける。 - 特許庁 - A jig 100 for manufacturing electronic parts is arranged facing to both main surfaces WP of the work W respectively, and provided with a single pair of jig bodies 1 and 1 immersed into a processing liquid L, with the work W retained.
電子部品製造用治具１００は、ワークＷの両主面ＷＰに各々対向して配置され、該ワークＷを保持した状態にて処理液Ｌ中に浸漬される１対の治具本体１，１を有する。 - 特許庁 - The space between the inner peripheral wall 16a of the outer cylindrical member 16 and the outer peripheral wall 18a of the inner cylindrical member 18 is formed with annular minute gaps through which the liquid material is passable, so as to be an annular processing zone 34.
外筒部材１６の内周壁１６ａと内筒部材１８の外周壁１８ａとの間には液状原料が通過可能な環状微小隙間を形成して、環状処理帯３４とする。 - 特許庁 - The respective tanks of the first washing tank 16, second washing tank 18, third washing tank 20 and fourth washing tank 22 of the photosensitive material processing device 10 are provided with liquid concentration detecting sensors 46 for detecting the iron concentrations in the liquids.
感光材料処理装置１０の第１水洗槽１６、第２水洗槽１８、第３水洗槽２０及び第４水洗槽２２の各槽に液中の鉄濃度を検出する液濃度検出センサ４６を設ける。 - 特許庁 - To provide an actuator which can anticipate not only dust-free effect but also high dew-free effect and, for example, is capable of using without hindering anything even in a field etc. of food processing where splash of liquid scatters.
防塵効果はもとより高い防滴効果をも期待でき、例えば、液体の飛沫が飛び散るような食品加工の現場等においても、何等支障なく使用することが可能なアクチュエータを提供すること。 - 特許庁 - Moreover, by opening or closing valves 75, 77 and 79 of the aforementioned changeover valve unit 71, it is possible to individually open or close a communication state among the nozzle 59, the processing liquid lines 81 and 83, and the pure water line 85.
切替弁部７１の開閉弁７５，７７，７９を開閉することにより、ノズル５９と処理液ライン８１，８３及び純水ライン８５との間の管路の連通状態を個別に開閉することができる。 - 特許庁 - To provide a recycling method which enables methane fermentation processing even in the case of collected waste not subjected to separate collection, efficient processing for dehydrated separated liquid and effective use of dried sludge, in a waste treatment facility comprising an incineration site, human-waste treatment plant, sewage treatment plant and recycling facility.
焼却場、し尿処理場、下水処理場、リサイクル施設からなる廃棄物処理施設において、収集ごみを分別収集していない場合でもメタン発酵処理を可能とし、脱水分離液の効率的な処理及び乾燥汚泥の有効利用を可能とするリサイクル処理方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a processing method for a lithographic printing plate having a hydrophilic layer and an image forming layer formed on a plastic film substrate, by which a non-image part is easily removed by use of a chemical-less processing liquid to which an alkaline agent is not added, and printing contamination caused by insufficient removal is eliminated.
プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版の処理方法において、アルカリ剤の添加されていないケミカルレス処理液による非画像部の除去が容易で、除去が不十分な事による印刷汚れが発生しない平版印刷版の処理方法を提供する。 - 特許庁 - A transmission type liquid crystal display device has a switching means 3 of switching to the mode of low power consumption, and upon the switching of the switching means, the lightness 5 of a back light, whether a choice of use of an image processing circuit 2, for example, an edge correction processing circuit is correct, and output sound volume 4 are controlled respectively.
透過型の液晶表示装置において、低消費電力のモードに切り替える切替手段３を有し、切替手段の切り替えによって、バックライトの明るさ５、エッジ補正処理回路を一例とする画像処理回路２の使用選択の是非、出力する音量４をそれぞれ制御する構成とする。 - 特許庁 - By providing the substrate processing device with the above structure, the time when a photoresist liquid reaches the surface of the substrate W can be accurately detected without influenced by the film state of the substrate W and timings to execute the series of the processing programs can be accurately determined to process the substrate with good accuracy.
上述のような構成を基板処理装置に備えることによって、基板Ｗの成膜の状態に影響されずに、フォトレジスト液が基板Ｗの表面に到達したことを正確に検出することができて、一連の処理プログラムを実行するタイミングを正確に把握して、基板処理を精度良く行うことができる。 - 特許庁 - The distributing device for supplying the low-viscosity processing liquid to the processing device includes the storage container having a nozzle at one end and containing a piston and means for activating this piston in such a manner that a specified volume of the solution is delivered through the nozzle from the container every time the piston is activated.
低粘度処理液を処理装置へ供給するための配給装置であって、一端にノズルを有し、かつ、ピストンを内蔵する貯蔵容器と、該ピストンを作動させる度に該容器から該ノズルを介して一定量の溶液が送り出されるように該ピストンを作動させるための手段とを含むことを特徴とする配給装置。 - 特許庁 - To provide a signal processing method, a signal processing device, and a Coriolis flowmeter capable of always performing measurement at constant accuracy even when there are temperature variation in a fluid to be measured, mixing of bubbles, and rapid change from gas to liquid, having high filtering capability, and performing phase measurement with a small amount of computation.
被測定流体の温度の変化、気泡の混入、気体から液体への急速な変化があった場合でも常に一定の精度で計測でき、高いフィルタリング能力をもち位相計測を少ない演算量で行うことのできる信号処理方法、信号処理装置、およびコリオリ流量計を提供する。 - 特許庁 - To provide semiconductor manufacturing equipment, a semiconductor manufacturing system and a substrate processing method, in which only a required amount of a substance, such as gas, liquid, or solid, which is directly or indirectly used for substrate processing, can be supplied, when required, and thereby reduction in size of supply equipment or transport equipment is realized.
基板処理に直接的に又は間接的に使用される液体、気体又は固体等の物質を、必要な時に必要な量だけ供給可能にし、供給設備や輸送設備の小型化を実現することができる半導体製造装置、半導体製造システム及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - The system 1 for processing a substrate comprises a shielding section 12 provided with a large number of micro openings 121b for jetting gas, a rotating base 11 having pins 112 secured to a rotary base 111, a motor 21 for rotating the rotary base 111, and a supply pipe 311 for jetting processing liquid towards the lower surface of a substrate 9.
ガスを噴出する微小な噴出口１２１ｂが多数形成された遮蔽部１２、回転台１１１に固定されたピン１１２を有する回転ベース１１、回転ベース１１を回転させるモータ２１、および、基板９の下面に向けて処理液を吐出する供給管３１１を基板処理装置１に設ける。 - 特許庁 - Metal impurity at the surface area of the substrate is removed by supplying a substrate processing liquid formed of alkali solution of 10 weight% or more including CyDTA (trans-1, 2-diaminocyclohexane 4 acetic acid) reaction of metal impurity dispersed into the substrate processing solution and CyDTA.
ＣｙＤＴＡ（トランス−１,２−ジアミノシクロヘキサン４酢酸）を含む１０重量％以上のアルカリ溶液からなる基板処理液を基板に供給してこの基板の表面部にある金属不純物を除去し、基板処理液中に分散した金属不純物とＣｙＤＴＡとを反応させる構成とする。 - 特許庁 - In processing method of a lithographic printing plate having physical development nuclei layer as an upper layer over silver halide emulsion layer formed on a support by using a silver salt diffusion transfer method, the processing method is characterized to use treatment liquid containing polyethylene imines having average molecular weight of 200 or more after development.
支持体上に設けられたハロゲン化銀乳剤層の上層に物理現像核層を有する銀塩拡散転写法を利用した平版印刷版の処理方法において、現像処理後に平均分子量が２００以上のポリエチレンイミンを含有する処理液にて処理することを特徴とする平版印刷版の処理方法。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus includes: a means for carrying a substrate at a predetermined speed; a spray wand to which multiple spray nozzles are attached; a pump that supplies a processing liquid to the spray wand; and a pressure indicator provided at an optional position of a flow path in the pump and spray wand, and at an end point of the spray wand.
基板を所定の速度で搬送する手段と、スプレーノズルを複数個取り付けたスプレー管と、処理液を前記スプレー管に供給するポンプとを備え、前記ポンプと前記スプレー管との流路の任意の位置と、スプレー管の終点の位置に圧力計を備えた基板の処理装置を用いることである。 - 特許庁 - To provide a processing device with a larger reforming effect by heightening an effect of a processing ability of a reforming means relative to manufacturing costs, and using a plurality of reforming means in combination in a manner seeking reasonable consistency, while various reforming devices of liquid fuel exist in a market.
液体燃料の改質装置は幾種も市場に既存するが、それらの改質手段の処理能力の効果を製造費用に対して更に高め、複数の改質手段を合理的整合性を追及した方法で組合せて使用し、更に改質効果の大きい処理装置を提供する。 - 特許庁 - With this configuration, a wafer W which is temperature-controlled at high precision in the second cooling part 3 is transferred as far as the processing unit in a high-precision adjusted atmosphere, for suppressed temperature-change during transfer, so that a coating liquid is applied while the temperature of substrate is kept with high precision, resulting in improved processing yield.
このような構成では、第２の冷却部３にて高精度に温度制御されたウエハＷは、高精度調整雰囲気内を処理ユニットＵまで搬送されるので、搬送中の温度変化が抑えられ、高精度に基板の温度を維持した状態で塗布液の塗布処理が行われるので、処理の歩留まりが向上する。 - 特許庁 - The processing composition container for a photographic liquid is a container housing the processing composition used by being batchwise taken out by a nozzle for taking out the composition inserted into the container, and is characterized in that its mouth is provided with an inside plug having a through-hole disposed with the nozzle insertably into the container.
容器内に挿入された組成物取り出し用ノズルによって回分式に取り出されて使用される処理組成物を収納した容器であって、該ノズルが容器内部に挿入可能に設けられた貫通孔を有する中栓を口部に設けてあることを特徴とする写真用液体処理組成物容器。 - 特許庁 - To provide a silver halide photosensitive material which is suitable for an area gradation image forming that is less liable to a change of dot gain and a hue fluctuation due to the change of a processing liquid in the case of successive development treatment of the silver halide photosensitive material after long-term preservation, its processing method, and an image forming method.
本発明の目的は、経時保存後のハロゲン化銀感光材料を連続現像処理する際に、処理液変化によるドットゲイン変動、色調変動が少ない面積階調画像形成に好適なハロゲン化銀感光材料、その処理方法及び画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁 - In the method for cutting and grinding a workpiece with easy waste liquid treatment excellent in both lubrication property and cooling property, the cutting and grinding processing oil agent containing 0.01-20 mass% of the moisture content comprising an extremely fine water drop based on the whole amount of the composition is fed to the processing portion.
被加工部材を切削・研削加工する方法において、極微小水滴からなる水分を組成物全量に対し０．０１〜２０質量％含有する切削・研削加工用油剤を加工部位に供給することを特徴とする、潤滑性、冷却性ともに優れ、しかも廃液処理が容易な切削・研削加工方法。 - 特許庁 - The processing method of substrate for removing a resist layer 3 and a polymer layer 5 form a substrate W following etching comprises a first step for rendering the surface part 6 of a resist layer 3 and a polymer layer 5 existing on a substrate W to be hydrophilic, and a second step for subsequently removing the resist layer 3 and the polymer layer 6 with a processing liquid.
エッチング後の基板Ｗからレジスト層３およびポリマー層５を除去する基板処理方法であって、基板Ｗ上に存在するレジスト層３およびポリマー層５の表面部分６を親水性にする第１工程と、その後処理液によりレジスト層３およびポリマー層６を除去する第２工程とを具備する。 - 特許庁 - The video processing circuit determines the difference between the gray scale value of an attention pixel and the gray scale value of the remaining pixel within a region including the attention pixel in the second liquid crystal panel from the video source and changes the size of the region which is the object for the smoothing processing including the attention pixel according to the difference.
上記映像処理回路は、上記映像ソースから、上記第２の液晶パネルにおける、注目画素を含む領域内で、該注目画素の階調値と、残りの画素の階調値との差分を求めて、この差分に応じて上記注目画素を含むスムージング処理の対象となる領域のサイズを変化させる。 - 特許庁 - To provide a rubbing processing method and device by which an optical compensation film of high quality requested by high luminance and high definition of a liquid crystal display can be manufactured by efficiently removing dust generated in rubbing processing and productivity can be enhanced by attaining a long life of a rubbing sheet.
ラビング処理で発生する塵埃を効率良く除去し、液晶表示装置の高輝度化、高精細化により求められる高品質の光学補償フィルムを製造すると共に、ラビングシートの長寿命化を図ることで生産性を向上できるラビング処理方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing device of a rugged film, which can improve a processing speed by producing no offset to a film substrate or no bubble entrainment on a resin layer in manufacturing the rugged film, and further, improve the processing speed without upsizing equipment such as a recovery apparatus of a resin liquid.
凹凸フィルムの製造に当たって、フィルム基材への裏移りを生じさせることなく、また樹脂層に泡かみを生じることなく加工速度を向上させることができ、更に樹脂液の回収装置等の設備の大型化を伴うことなく加工速度を向上させることの可能な凹凸フィルムの製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and a substrate processor for supplying treatment liquid to the lower face of a rotating substrate, and for operating predetermined processing such as washing treatment to the lower face, and for effectively removing droplet residually sticking to the central part of the lower face of the substrate and the top end part of a nozzle.
回転する基板の下面に処理液を供給して該下面に対して洗浄処理などの所定の処理を施した後に、該基板の下面中央部およびノズル先端部に残留付着している液滴を効果的に除去することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - This thermometer is provided with a temperature detecting part 3 for detecting the body temperature, a control part 11 for processing the body temperature value data output from the temperature detecting part 3 by a prescribed processing, and for outputting a control signal to each part, a liquid crystal display 6, a USB module 15, and a series A plug 16 of USB standards.
体温を検温する検温部３と、この検温部３から出力された体温値データに所定の処理を施すとともに各部に対して制御信号を出力する制御部１１と、液晶表示器６と、ＵＳＢモジュール１５及びＵＳＢ規格仕様のシリーズＡプラグ１６とを備える。 - 特許庁 - When the mask information is input to the image display apparatus 2, a mask processing part in the image display device 2 applies mask processing based on the mask information to the image information of which the output is started, and the same image as the image displayed on the liquid crystal display 16 is displayed on the image display device 2 in a state where a mask area is masked.
画像表示装置２にマスク情報が入力されると、画像表示装置２のマスク処理部は、出力が開始された画像情報に対して、マスク情報に基づくマスク処理を施し、画像表示装置２には、液晶ディスプレイ１６と同一の画像が、マスク領域がマスクされた状態で表示される。 - 特許庁 - To provide an oven dryer of a cord processing machine effective for improving the productivity of the cord processing step by minimizing the heat discharged with the cord and suppressing the tar contamination in the case of suppressing the concentration of the evaporated solvent below a prescribed level by dilution in the oven in which a wound cord is dipped in a treating liquid and dried with hot air.
コード処理機のオーブン乾燥装置で、コードを懸回させて処理液にディップし熱風乾燥させる炉内に、揮散する溶剤を所定濃度以下に希釈抑制する際に、持出される熱量を必要最少にし並びにタール汚れを削減してコード処理工程の生産性向上が出来る装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a photograph printing and developing machine (photographic processing apparatus) equipped with a drying part 12 which dries photographic paper having been processed with processing liquid by introducing a hot blast while conveying the photographic paper along a prescribed conveyance path, and in which the whole drying part 12 is held at proper temperature while an increase in cost is suppressed.
処理液によって処理された印画紙を、所定の搬送路に沿って搬送しながら、熱風の導入により乾燥させる乾燥部１２を備えた写真焼付現像機（写真処理装置）において、コストアップを抑制しつつ、乾燥部１２全体の温度を適切な温度に維持できるようにする。 - 特許庁
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