An out-of-tank processing rack 50 which performs processing by supplying a stabilizer (STB) while horizontally linearly conveying the photographic paper P is arranged in the position above a plurality of stabilizing tanks and the other stabilizing tank is equipped with a submerged rack 40 for conveying the photographic paper P under the liquid level of the stabilizer. 複数の安定処理槽の上方位置に、印画紙Pを水平方向に直線的に搬送しながら安定処理液(STB)を供給して処理を行う槽外処理ラック50を配置し、他の安定処理槽に安定処理液の液面下に印画紙Pを搬送する液中ラック40を備える。 - 特許庁
A car washing system comprises a car washing machine 1, waste water collector tank (waste water pit 2) recovering waste water generated by car washing, filter filtering the waste water by a hollow string film 6 of 0.3 μm or less separation characteristic, and a feeder (processing water tank 7, processing water pump 8, pipe 9) feeding filtered liquid filtered by the filter to the car washing machine. 洗車機1と、洗車により発生する廃水を回収する廃水集合槽(廃水ピット2)と、該廃水を分離特性が0.3μm以下の中空糸膜6で濾過する濾過器と、該濾過器により濾過された濾過液を洗車機に送る供給器(処理水タンク7、処理水ポンプ8、配管9)とを備えた洗車システム。 - 特許庁
In the regeneration method of the water-soluble processing oil agent for the wire saw, the solid materials are flocculated and removed by adding an ammonium chloride and/or acrylate-based polymer as a flocculant into the abrasive grain slurry used in the processing treatment by the wire saw or the slurry liquid after coarsely removing the solid materials contained in the abrasive grain slurry. ワイヤソーによる加工処理に用いた砥粒スラリーに、又はこの砥粒スラリーに含まれる固形物を粗除去した後のスラリー液に、凝集剤として塩化アンモニウム及び/又はアクリル酸塩系ポリマーを添加して、固形物を凝集除去することを特徴とするワイヤソー用水溶性加工油剤の再生方法。 - 特許庁
To enhance cleaning power by employing a cleaning liquid for semiconductor substrate composed of ammonia, hydrogen peroxide and ultrapure water and specifying the relationship between the processing temperature, processing time and the mol concentration ratio between ammonia and hydrogen peroxide thereby suppressing roughness on the surface of the substrate. 半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板の表面あれを発生させずに基板表面から異物を効果的に除去できる半導体基板表面の洗浄液、および当該洗浄液を用い処理後の基板表面状態を厳密に制御できる基板表面の処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a color developing concentrated composition which diminishes a variation of the oxidation-reduction potential of the liquid due to storage at high temperature and can suppress a variation of the developability of a photosensitive material in continuous processing, that is, gamma balance when used as a replenisher solution after storage and to provide a processing method for a photosensitive material using the same. 高温での保存による液の酸化還元電位の変化を改善し、保存後に補充液とした使用時における連続処理時の感光材料の現像性能、つまりガンマバランスの変化を抑制することができる発色現像濃縮組成物及びこれを用いた感材の処理方法を提供する。 - 特許庁
Such a wet processing apparatus 10 can reduce the wet processingliquid 8 from being adhered to the chuck facing surface 22 opposed to the chuck 1 by uniformly jetting the gas 24 jetted from the jetting port 16 from a space sandwiched between the outer peripheries 14, 15 of the objects 7 to be wet-processed and the chuck 1. このようなウェット処理装置10は、噴出口16から噴出した気体24がウェット処理対象7の外周14、15とチャック1とに挟まれた隙間からに均一に噴出されることにより、チャック1に対向するチャック対向面22にウェット処理液8が付着することを低減することができる。 - 特許庁
In the manufacturing method of a printed wiring board wherein a solder mask is formed by coating the surface of a base material having formed circuits and through holes with a liquid solder resist and by subjecting the solder resist to its exposure processing and its development processing, the solder resist remaining in each through hole after the formation of the solder mask is sublimated and removed by a laser. 回路及びスルーホールを形成した基材の表面に、液状のソルダーレジストを塗布し、露光処理、現像処理をすることによってソルダーマスクを形成するプリント配線板の製造方法において、ソルダーマスクの形成後、スルーホール内に残存したソルダーレジストをレーザーにより昇華除去するものとした。 - 特許庁
A display area of a liquid crystal display apparatus 14 in a digital camera 10 is divided into a plurality of division areas, a parameter settable for image processing is associated with one to one to at least one of a plurality of the division areas, and an image being an image processing object subjected to image processing with the applied parameter is displayed on the division area to which the parameter is associated. デジタルカメラ10における液晶ディスプレイ14の表示領域を複数の区分領域に区分し、当該複数の区分領域の少なくとも1つに1対1で画像処理に関して設定可能なパラメータを対応付けると共に、パラメータを対応付けた区分領域に当該パラメータを適用して当該画像処理を施した状態の画像処理対象とする画像を表示する。 - 特許庁
In this substrate processing apparatus for performing substrate processing by discharging two fluids obtained by mixing a gas and a liquid in a substrate processing chamber to store the substrate toward the substrate, an internal mixing means to mix the two fluids inside a nozzle and discharge it to the outside, and an external mixing means to mix the two fluids in the outside by separately discharging them to the outside are provided. 本発明では、基板を収容する基板処理室内で気体と液体とを混合した2流体を基板に向けて吐出して基板の処理を行う基板処理装置において、前記基板処理室内に、ノズルの内部で2流体を混合して外部に吐出する内部混合手段と、ノズルの外部に2流体をそれぞれ吐出して外部で混合する外部混合手段とを設けることにした。 - 特許庁
The display control part 81 carries out a display image update processing to display the image for direction on a liquid crystal panel 80 every time the image for direction is outputted from the subsidiary CPU 71 until a stop button 18 is pushed down. 表示制御部81は、静止ボタン18が押下されるまでの間、サブCPU71から演出用画像が出力される毎に、この演出用画像を液晶パネル80に表示させる表示画像更新処理を行う。 - 特許庁
To highly accurately align a top plate and an element substrate without receiving the shift of a perforating position at a time of the processing of jet orifices or the effect of the cutting accuracy of the element substrate in the production of a liquid jet recording head. 吐出孔の加工時の穴開け位置のずれや素子基板の切断精度の影響を受けることなく、天板と素子基板とを高精度に位置合わせすることができる液体噴射記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a processing system for a wafer or the like which performs process steps from a wet process to a supercritical drying process, and is highly versatile, stable, and highly productive, satisfying economical requirements in production of semiconductor wafers, liquid crystal substrates, or the like. 半導体ウェハ、液晶基板等の生産において、湿式処理から超臨界乾燥の工程を、汎用性が高く、安定で生産性が高く、経済的要望を満足しうる、ウェハ等の処理システムを提供することにある。 - 特許庁
A HTML analysis processing part 219 analyzes and displays received HTML data on a liquid crystal display 214, and extracts and stores an anchor text, an URL and a communication interface of each link in a link information storage part 220. HTML解析処理部219は、受信したHTMLデータを解析して液晶ディスプレイ214に表示させるとともに、各リンクのアンカテキストとURLと通信インタフェースとを抽出し、リンク情報格納部220に格納する。 - 特許庁
To provide a paper packaging material for liquid food having metal gloss in which a service life equal to that of a conventional cutting blade for the perforation processing of a paper material is enabled without using a film obtained by metallizing a biaxially stretched film. 二軸延伸フィルムに金属蒸着したフィルムを用いないで、従来の紙材の穴開け加工用の切断刃と同等の寿命を可能にする金属光沢を有する液体食品用紙包装材を提供する。 - 特許庁
The plant processing method further comprises forming a film of a liquid polysilazane-containing coating material on the surface of a plant base material, converting the polysilazane to silica, to form a primary coating layer, and forming a secondary coating layer of an organic material on the primary coating layer. また、植物基材の表面に液状のポリシラザン含有コーティング材の膜を形成し、ポリシラザンをシリカ転化して一次コーティング層を形成し、当該一次コーティング層の上に有機材料の二次コーティング層を形成する。 - 特許庁
To provide a method for accurately detecting the concentration of divalent iron ions in a solution in a process of etching a metal when an iron (III) chloride is a main component, in a process of processing a waste liquid containing the divalent and trivalent iron ions, or the like. 塩化第二鉄を主成分として金属をエッチングする工程または二価と三価の鉄イオンを含有する廃液処理する工程等において、溶液中の二価の鉄イオン濃度を精度よく検出する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a grinding apparatus of an optical raw material for easily performing repairing, maintaining soundness of the grinding apparatus over a long period, while shortening processing time of the optical raw material by using a colloidal silica liquid. コロイダルシリカ液を使用して光学素材の加工時間を短縮化しつつ、研削装置の健全性を長期間にわたって維持することができ、さらに手入れを容易に行うことができる光学素材の研削装置を提供すること。 - 特許庁
The display device 1 mainly comprises a processor body 5 performing processing such as retrieval of a similar case 2; a liquid crystal display 6 displaying the similar case 2; a console 7 for operation input; and various kinds of recording equipment 9. 表示装置1は、類似症例2の検索等の処理をする処理装置本体5と、類似症例2を表示する液晶ディスプレイ6と、操作入力用のコンソール7と、種々の記録機器9とを具備して主に構成されている。 - 特許庁
Then, the final fixing processing is performed on the exit side of the nip part 69 while leaving the liquid carrier L, so that such a failure that the toner T sticks on a heat roller 61, what is called, an off-set is effectively prevented. したがって、液体キャリアLを残存させたままニップ部69の出口側で最終的な定着処理を実行しているので、トナーTが加熱ローラ61に付着する、いわゆるオフセットを効果的に防止することができる。 - 特許庁
The liquid level detection part 32 includes a float 36 floating in the arrow Z-direction; a storage part 38 provided in the processing tank 20, for storing the float 36 inside; and a lead switch 40 for detecting the position of the float 36. 液面検出部32は、矢印Z方向に浮動するフロート36、処理タンク20に設けられその内部にフロート36を収容する収容部38、およびフロート36の位置を検出するためのリードスイッチ40を含む。 - 特許庁
Ultraviolet light 13 is applied to a wiring pattern formation of the processing target member 5 via light transmitters 10 of the photomask 7, so that the liquid repellent film 6 corresponding to the wiring pattern formation breaks down and a volatile component is generated. さらに、フォトマスク7の光透過部10を介して、被処理部材5上の配線パターン形成部分に対して紫外線13を照射することにより、配線パターン形成部分の撥液膜6が分解して揮発成分が発生する。 - 特許庁
The medium has a structure layering a cholesteric liquid crystal layer 101 having undergone hologram processing, a lenticular lens 102, and a stripe printing layer 103 having a stripe pattern corresponding to the lens array of the lenticular lens 102, from the observation side. 観察する側から、ホログラム加工が施されたコレステリック液晶層101、レンチキュラーレンズ102、レンチキュラーレンズ102のレンズ配列に対応したストライプ模様が形成されたストライプ印刷層103を積層した構造とする。 - 特許庁
Further, in the unit area adjacent to the unit area where the value of the precoat data is changed in the step S3, a change is performed so as to increase the amount of the processingliquid discharged to the adjacent unit area (S12 and S14). さらに、ステップS3においてプレコートデータの値が変更された単位領域に隣接する単位領域について、その隣接する単位領域に吐出される処理液の量が増加するように変更する(S12、S14)。 - 特許庁
To provide a signal processing device capable of always performing measurement at constant accuracy even when there are temperature variation in a fluid to be measured, mixing of bubbles, and rapid change from gas to liquid, and performing phase and density measurement with a small amount of computation. 被測定流体の温度変化、気泡混入、気体から液体への急速な変化があっても、常に一定の精度で計測でき、位相及び密度計測を少ない演算量で行える信号処理装置を提供する。 - 特許庁
An image processing device 1 simultaneously displays an uncompleted job stored in an uncompleted job storage unit 23A and a completed job stored in a completed job storage unit 23B on a liquid crystal display unit 41 in the order of execution, respectively. 画像処理装置1は、未完了ジョブ記憶部23Aに記憶した未完了ジョブと、完了ジョブ記憶部23Bに記憶した完了ジョブとを、それぞれ実行する順番に同時に液晶表示部41に表示させる。 - 特許庁
To provide a wet processor which prevents a re-adhesion due to a fact that a chemical liquid or a waterdrop adhered to a cup is dropped to a wafer by an air flow caused by a high-speed rotation in drying, and carries out a good wafer processing. 乾燥の際の高速回転による空気流れによってもカップに付着した薬液や水滴が、ウエハに滴下して再付着することを防止した、良好なウエハの処理を行うことのできるウエット処理装置を提供すること。 - 特許庁
The cellulousic fiber subjected to a liquid ammonia treatment is subjected to a steam treatment at a high temperature under a high pressure in a state in which ≥20 wt.% of water based on the fiber is previously added thereto in the method of shape-stabilizing processing for the cellulousic fiber. 液体アンモニア処理を施したセルロース系繊維を、予め繊維に対して20重量%以上の水分を付与した状態で高温高圧水蒸気処理を行うセルロース繊維の形態安定加工方法。 - 特許庁
In a pachinko game machine 1, a big winning drawing processing is performed in a main control board 100 corresponding to the entry of a ball to a start winning port 17 and the drawing result is displayed at a liquid crystal display part 11 by pattern variation. パチンコ遊技機1は、始動入賞口17への玉の入賞に応じて主制御基板100にて大当たり抽選処理が実行され、その抽選結果が図柄変動により液晶表示部11に表示される。 - 特許庁
A substrate W is immersed into the rinse liquid rC dissolving carbon dioxide stored in a processing tank 20 to clean the surface, and then the substrate W is pulled up into a chamber 10 under IPA gas atmosphere and dried. 二酸化炭素溶解リンス液rCを貯留した処理槽20内に基板Wを浸漬して表面洗浄を行った後に、IPAガス雰囲気下におかれているチャンバ10内に引き上げて基板Wを乾燥する。 - 特許庁
To provide a liquid jet apparatus which performs processing at high speed by shortening an overall time required for printing by performing a simultaneous process even when a PF motor is driven under position control, and to provide a simultaneous operation method. 位置制御にてPFモータが駆動している場合であっても、重ね合わせ処理を行うことにより印刷時間全体の時間を短縮し、処理の高速化を図る液体噴射装置及び重ね合わせ方法を提供する。 - 特許庁
To dry the substrate surface well while suppressing consumption of organic solvent component in the method and equipment for processing a substrate where the substrate surface wetted with liquid is dried using organic solvent component such as IPA. IPAなどの有機溶媒成分を用いて液体で濡れた基板表面を乾燥させる基板処理方法および基板処理装置において、有機溶媒成分の消費量を抑制しながら基板表面を良好に乾燥する。 - 特許庁
To provide a facility for processing distilled spirit lees without using cooling water for cooling a gas generated by the distillation of a concentrated liquid obtained from distilled spirit lees and capable of decreasing the amount of steam for the evaporation of alcohol. 焼酎粕から得られる濃縮液を蒸留して得られる気体を冷却するための冷却水をなくすことができ、さらにアルコール蒸発のための蒸気の使用量を低減できる焼酎粕処理設備を提供すること。 - 特許庁
A liquid electrolyte is used as a gate 8, and a hydrogen terminal surface is partially oxidized by the ozone processing 2, to thereby acquire the p-channel field effect transistor having as a channel, a diamond surface wherein a hydrogen terminal and an oxygen terminal are intermingled. 液体電解質をゲート8として使用し、オゾン処理2により水素終端表面を部分的に酸化し、水素終端と酸素終端が混在したダイヤモンド表面をチャネルとしてなるpチャネル電界効果トランジスタを得る。 - 特許庁
To provide a material for manufacturing a direct-to-plate flexographic printing plate precursor which can be developed without using an aqueous or organic processingliquid and a method for manufacturing the direct-to-plate flexographic printing plate precursor. 水性もしくは有機処理液を用いずに現像され得るダイレクト−ツウ−プレートフレキソグラフ印刷版前駆体の製造のための材料、ならびにダイレクト−ツウ−プレートフレキソグラフ印刷版前駆体の製造法を提供すること。 - 特許庁
A liquidprocessing apparatus processes the object to be processed W including a body part W_i and a plurality of projecting-shape parts W_m disposed on the body part W_i, with the inorganic film and a different film different in property from the inorganic film being laminated to each other. 液処理装置は、本体部W_iと、本体部W_iに設けられた複数の凸形状部W_mとを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体Wを処理する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device in which the occurrence of multi-contour in the display of a moving image can be reduced as much as possible by changing contents of backlight scanning processing in accordance with an executed double speed drive mode. 実行される倍速駆動モードに応じてバックライトスキャン処理の内容を変更することにより,動画表示における多重輪郭の発生を極力抑制することのできる液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a liquid-cooled integrated substrate reduced in raw material cost and processing cost, reduced in warpage (shape deformation) as the integrated substrate, and excellent in strength and heat radiating property, and to provide a method of manufacturing the same. 原材料コストや加工コストを低く抑え、一体型基板としての反り(形状変形)が低減され、優れた強度および放熱性を備えた液冷一体型基板およびその液冷一体型基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The sheet material 3 is formed of a laminate of a stretched porous film 31 with a plurality of pores formed by carrying out a stretching processing, and a nonwoven fabric 32, and has a property of disallowing a liquid to permeate while allowing a gas to permeate. シート材3は、延伸加工を行って複数の微細孔を形成してなる延伸多孔質フィルム31と、不織布32との積層体で構成され、気体を透過させる一方、液体は透過させない性質を有している。 - 特許庁
To further enhance removal efficiency of particles or the like in a substrate processing method and apparatus for subjecting the substrate surface to physical cleaning in a state that a pattern is structurally reinforced by solidifying liquid entering gaps of the pattern. パターンの間隙内部に入り込んだ液体を凝固させることでパターンを構造的に補強した状態で基板表面を物理洗浄する基板処理方法および装置において、パーティクル等の除去効率をさらに高める。 - 特許庁
A second control signal processing circuit 16 generates a control signal for skipping scanning electrode lines of upper and lower parts of a liquid crystal display panel 17 and for thinning pixel signals of specific lines to supply it to the scanning electrode driving circuit group 18. 第2制御信号処理回路16は、液晶表示パネル17の上下部分の走査電極線をスキップし、特定ラインの画素信号を間引く制御信号を生成し、走査電極駆動回路群18に与える。 - 特許庁
To provide a regenerating process system for a color filter substrate, capable of increasing facility efficiency, reducing an amount of chemical liquid required for a regenerating process by a processing device exclusive for regeneration, and preventing cracks or the like in a substrate during a process exclusive for regeneration. 設備効率を上げ、再生専用処理装置による再生処理に要する薬液の削減と再生専用処理時の基板の割れ等の発生を防ぐことを可能とするカラーフィルタ用基板の再生処理システムを提供する。 - 特許庁
The information processing apparatus having a plurality of the display parts comprising a liquid crystal display 10 and a touch screen 20 with the key input part 30 in between includes a control part 50 for controlling the display of objects displayed on a plurality of the display parts. 情報処理装置は、キー入力部30を挟んで液晶ディスプレイ10およびタッチスクリーン20の複数の表示部を備え、複数の表示部に表示されるオブジェクトの表示を制御する制御部50を備える。 - 特許庁
In this processing method of a covering layer removal part of a covered wire, the covering layer removal part is immersed in a photo-cured resin liquid and thereafter pulled out of it, and then the photo-cured resin of the covering layer removal part is cured by being irradiated with light. 被覆電線の被覆層除去部の処理方法において、被覆層除去部を液状の光硬化樹脂に浸漬した後引き上げ、次いで光を照射して該被覆層除去部の光硬化樹脂を硬化させる。 - 特許庁
By optimizing a relative speed between the porous roller 16 and the internal rotating body 20, the liquid on the porous roller 16 is recovered before exceeding the absorption capacity of the porous roller 16, so that solvent removal processing can be continued. 多孔質ローラ16と内部回転体20の相対速度を最適化することで、多孔質ローラ16の吸収能力を超える前に多孔質ローラ16の液体が回収され溶媒除去処理を継続可能である。 - 特許庁
The processingliquid supply nozzle N1 has substantially tubular shape and receives chemical from the chemical introduction pipe 16 through an inlet made in one end plate and then damping the chemical flow by bringing it into collision against the other end plate. 処理液供給ノズルN1は、ほぼ円筒形状を有し、一方の端板に形成された入口開口から薬液導入管16からの薬液を受け入れ、他方の端板に薬液を衝突させてその勢いを減衰させる。 - 特許庁
To provide an electric discharge machining wire capable of sufficiently exerting an intrinsic electric discharge performance by keeping a non-insulative resin formed on a wire under a stable condition without being influenced in its property by a processingliquid. ワイヤ上に形成された非絶縁性樹脂が、加工液によってその性状に影響を受けることなく安定した状態を維持することで、本来の放電性能を十分に発揮できる放電加工用ワイヤを提供する。 - 特許庁
The support ring 9 icnldues an annular expansion surface 61 provided enclosing the entire circumference of the substrate W and expanding an outer circumferential edge of the substrate W outward so that the processingliquid may flow out. 支持リング9は、基板Wの上面から外方へと処理液が流れていくように、基板Wの全周を取り囲んで基板Wの外周縁を外方に拡張するように設けられた環状の拡張面61を有している。 - 特許庁
To provide an endoscope washing/disinfecting apparatus capable of reducing the amount of processingliquid used in washing and being left in an endoscope after finishing respective washing processes in the endoscope washing/disinfecting apparatus for washing the endoscope. 内視鏡を洗浄する内視鏡洗浄消毒装置において、洗浄の各工程の終了後に、洗浄において使用した処理液が内視鏡に残留する量を低減できる内視鏡洗浄消毒装置を提供する。 - 特許庁
To further enhance the efficiency of particle removal in a method and apparatus for processing a substrate, in which a substrate surface is physically cleaned while a pattern is structurally reinforced by solidifying a liquid entering gaps of the pattern. パターンの間隙内部に入り込んだ液体を凝固させることでパターンを構造的に補強した状態で基板表面を物理洗浄する、基板処理方法および装置においてパーティクル除去効率をさらに高める。 - 特許庁
To provide a polishing monofilament having not only excellent acid-resistant property but also excellent wet-heat resistant property and particularly preferably used in acid liquid washing and polishing processing under high temperature and high humidity of a stainless steel plate. 耐酸性に優れるばかりか、耐湿熱性にも優れた特性を有し、特にステンレス鋼板などの高温、高湿下における酸液洗浄研磨加工において好ましく使用することができる研磨用モノフィラメントの提供。 - 特許庁