「second-layer」を含む例文一覧(21457)

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  • In addition to a first gate 13 for channel formation which is provided between a source 15 and a drain 14 of the MIS transistor, a second gate 20 is provided whose electric potential is fixed for controlling the electric potential of the silicon layer 12 by capacity coupling.
    MISトランジスタのソース15、ドレイン14間に配置されたチャネル形成のための第1のゲート13とは別に、シリコン層12の電位を容量結合により制御するための電位固定された第2のゲート20が設けられる。 - 特許庁
  • The part of each heat-storage layer which is located in the part just above the heating element 16a is defined as the first representative points Pg1, Pc1, Pa1, and the part separated from the first representative points in the direction of sub scanning is defined as the second representative points Pg2, Pc2.
    発熱素子16aの直上部分に位置する各蓄熱層の部分を、第1代表点Pg1,Pc1,Pa1とし、この第1代表点から副走査方向に離れた部分を第2代表点Pg2,Pc2とする。 - 特許庁
  • The metallic thin-film layer is formed by dividing into nearly rectangular shapes by a first non-metallic band that is formed in the movement direction of the support, and a second non-metallic band that is formed in a direction being nearly perpendicular to the movement direction of the support.
    金属薄膜層を、支持体の移動方向に形成された第1の非金属帯と支持体の移動方向と略直角方向に形成された第2の非金属帯とにより略矩形状に分割して形成する。 - 特許庁
  • A second imaging portion 106 is formed, by having a laser beam on the ink-applying portion 104 irradiated from the outside of a protective layer of the label for recording the manufacturing information, or the like, that is acquired at the manufacturing the battery pack 1.
    電池パック1の製造時に、製造情報等を取得し、ラベル10の保護層の外側からインキ塗着部104にレーザ照射して製造情報等を記録することで、第2印写部106が形成されている。 - 特許庁
  • In a wood floor material 10 for a hot water type floor heating floor having a base material part 5 and a surface decoration layer 8, the base material part 5 is formed such that a first base material 1, a metallic foil 3, and a thin second base material 3 are adhered together for lamination.
    基材部5と表面化粧層8とを備えた温水式床暖房フロア用木質床材10において、基材部5を、第1の基材1と金属箔3と薄手の第2の基材3とを接着積層して形成する。 - 特許庁
  • The light-transmitting and reflecting layer, wherein a pattern for controlling transmittance on the basis of an area ratio between the light-transmitting region and the light-reflecting region is applied, has a first luminance uniformity section, and a second luminance section which has luminance different from that of the first luminance uniformity section.
    透過反射層は、光透過領域と光反射領域との面積比により透過率を制御するパターンが施され、第1輝度均一部と、この第1輝度均一部と輝度の異なる第2輝度部と、を有している。 - 特許庁
  • The surface on the side opposite to the translucent substrate 43 of the light diffusion layer 45 is formed in an irregular shaped surface based on a part of the first translucent light diffusion material 452 and a part of the second translucent light diffusion material 452'.
    光拡散層45の透光性基材43の側とは反対側の面は、第1透光性光拡散材452の一部及び第2透光性光拡散材452’の一部に基づく凹凸形状面とされている。 - 特許庁
  • The encoder 20 is connected with and fixed to the retainer 19 through an intermediate layer 21 formed of a high-polymer material of a third kind which is different from both of the high-polymer material of the first kind and the high-polymer material of the second kind.
    上記エンコーダ20を上記保持器19に対し、上記第一種の高分子材料とも、上記第二種の高分子材料とも異なる、第三種の高分子材料製の中間層21を介して結合固定する。 - 特許庁
  • A protrusion 17 is formed on the opposite face 16 of the heat sink 15, and bites into the second metal surface layer 14 in the state that the side f the board body 12 and the heat sink 15 are diffused and bonded.
    放熱板15の対向面16上には突起状の凸部17が形成されており、基板本体12側と放熱板15とが拡散接合された状態では、第2金属表層14に食い込んだ状態になっている。 - 特許庁
  • A third and fourth seal segments are connected along their respective peripheral edges to form a second seal layer having a seam defined by the seam edge of the third seal segment and the seam edge of the fourth seal segment.
    第3および第4シールセグメントが各々の外側の周縁エッジに沿って結合され、第3シールセグメントの継ぎ目エッジおよび第4シールセグメントの継ぎ目エッジによって画定された継ぎ目を備えた第2シール層を形成する。 - 特許庁
  • As another example, a constitution may be adopted, wherein the magnetostrictive film is formed on the coil through the second insulating layer, and either or both insulating layers are formed from the heat-shrinkable material, to thereby perform the stress adjustment of the magnetostrictive films.
    他の例として、コイル上に第2の絶縁層を介して磁性膜が形成され、一方もしくは両方の絶縁層が熱収縮性の材料で形成され、それによって磁歪膜の応力調整がなされている構成でもよい。 - 特許庁
  • The light emitting diode comprises an emission chip 1 having a surface electrode 3 at the first surface side, and a light-reflecting layer 6 that is provided at the second surface side that is located on the opposite-side surface that opposes the first surface side of the emission chip 1.
    発光ダイオードは、第1の面側に表面電極3を有する発光チップ1と、この発光チップ1の第1の面側と対向する反対側の面にある第2の面側に設けられてなる光反射層6とを有する。 - 特許庁
  • The aerosol container 1 having a three-layer structure comprises an inner bag 11 for storing the first liquid, an outer bag 12 which is located outside of the inner bag for storing the second liquid, and an outer container 13 which is located outside of the outer bag for storing gas to be ejected.
    第1液収納用の内袋11,当該内袋の外側に位置し第2液収納用の外袋12,当該外袋の外側に位置し放出用ガス収納用の外容器13からなる三層構造のエアゾール容器1にした。 - 特許庁
  • In respective open end parts 14 and 16 of the magnetic yoke 18, maximum thickness T1 in a magnetic yoke diameter direction Y is made larger than maximum thickness T2 in the magnetic yoke diameter direction Y of a second magnetic layer 28 in a magnetoresistance effect element 20.
    磁気ヨーク18の各開放端部14、16における、磁気ヨーク径方向Yの最大厚さT1を、磁気抵抗効果素子20の第2磁性層28の磁気ヨーク径方向Yの最大厚さT2よりも大きくした。 - 特許庁
  • The circumference of a noble metal core particle of ≤8 nm is coated with a 1 to 6 atomic layer, i.e., with a second noble metal of ≤1 nm, so as to provide a core shell type noble metal nanocolloid particle having a particle diameter of ≤10 nm.
    8nm以下の貴金属コア粒子の周囲を、1〜6原子層、すなわち1nm以下の第2の貴金属で被覆することにより、粒子径が10nm以下のコアシェル型の貴金属ナノコロイド粒子提供することができる。 - 特許庁
  • Since the first optical structure and the second optical structure are disposed on different planes and can be installed while they are overlapped on each other, the light released from the organic EL layer can be extracted to the outside efficiently.
    第1の光学構造体と第2の光学構造体は異なる面に設置されており重畳した状態に設置することができるため、有機EL層から放出される光を効率よく外部に取り出すことができる。 - 特許庁
  • First and second low concentration diffusion layers 104-2 and 104-3 which are worked as the field alleviating layer and the gate electrode 111 are formed so that a first insulating pattern 102 is used in a self-alignment process manner as a common mask.
    電界緩和層として働く第1及び第2の低濃度拡散層104−2、104−3と、ゲート電極111とは、共に、第1の絶縁膜パターン102を共通のマスクとして自己整合的に形成される。 - 特許庁
  • In the display apparatus, at least a thin-film transistor, a planarization film and a plurality of light-emitting elements are formed on a substrate, wherein each light-emitting element has at least a light-emitting layer, a first electrode and a second electrode.
    表示装置において、基板上に少なくとも薄膜トランジスタ、平坦化膜及び複数の発光素子が形成されており、発光素子には、少なくとも発光層と、第1の電極及び第2の電極を有している。 - 特許庁
  • A flat parallel surface plate 5 is placed between the beam splitter 3 and the collimator 6 to correct the spherical aberration caused by the thickness difference of the transparent substrate for the first and second information recording layer 9a, 9b of an optical disk 9.
    光ディスク9の第一と第二の情報記録層9a、9bに対する透明基板の厚み差異により生じる球面収差を補正するための平行平板5をビームスプリッタ3とコリメータ6との間に配置する。 - 特許庁
  • An ink layer 3 to be a decorative portion printed on a film 10 is arranged between a first die 7 and a second die 8 ((a)), and a polylactic resin having transparency is injected in a cavity 9 and molded under a clamping condition ((b)).
    フィルム10に印刷された、加飾部となるインク層3を、第1及び第2の成形型7,8間に配置し((a))、型締めした状態で、透明性を有するポリ乳酸樹脂をキャビティ9内に射出して成形する((b))。 - 特許庁
  • The process for forming the color filter layer includes a process for sticking a dry film for the third color filter on the transparent substrate while pressing in a first direction 70 after formation of a first color filter 56 and a second color filter 58.
    カラーフィルタ層を形成する工程は、第1カラーフィルタ56および第2カラーフィルタ58を形成した後に、透明基板上に第3カラーフィルタ用ドライフィルムを第1方向70に向かって押圧しながら貼り合わせる工程を含む。 - 特許庁
  • The second discharge electrode 24 side of the vessel body 18 is stuck on a chassis 11 made of a metal excelling in heat conductivity through a jointing material layer 17 formed out of a thermally-conductive material such as a thermally-conductive epoxy resin adhesive.
    容器本体18の第2放電電極24側は、熱伝導性エポキシ樹脂接着剤等の熱伝導性材料からなる接合材層17を介して、熱伝導性に優れた金属からなるシャーシ11上に接着される。 - 特許庁
  • In the method of treating substrate, pretreatment performed for removing a damaged layer formed on the surface of the organic film pattern and the second developing treatment performed for contracting at least part of the organic film pattern or removing part of the pattern are performed in this order.
    有機膜パターンの表面に形成されたダメージ層を除去する前処理と、有機膜パターンの少なくとも一部を縮小するか又は前記有機膜パターンの一部を除去する現像処理(2回目)と、をこの順に行う。 - 特許庁
  • The printing layer 4 is formed along the peripheral edge part of the resin film 5 as a bordering part (blackout) and a space 8 is formed between the peripheral edges of the first and second binder layers 6, 7 and the peripheral edge of the resin film 5.
    印刷部4は樹脂フィルム5の周縁部に沿った縁取り部(ブラックアウト)として形成され、第1のバインダ層6及び第2のバインダ層7の周縁と樹脂フィルム5の周縁との間にスペース8が形成されている。 - 特許庁
  • The second nitride semiconductor layer 14 is provided with a contact 14a having a recessed cross section that is provided with an inclined part whose bottom face or wall face is inclined to the substrate face, and the ohmic electrodes 16 and 17 are formed in the contact 14a.
    第2の窒化物半導体層14は、底面又は壁面が基板面に対して傾斜した傾斜部を持つ断面凹状のコンタクト部14aを有し、オーム性を持つ電極16、17はコンタクト部14aに形成されている。 - 特許庁
  • The surface of a not-yet-fired ceramic substrate 30 for forming a surface conductor 32 is coated with ceramic paste 70 and further applied with a second ceramic green sheet 7p thus forming a ceramic green coating layer 7 being integrated by simultaneous baking.
    未焼成セラミック基板30の表面導体32形成面に、セラミックペースト70を塗布し、さらに第2セラミックグリーンシート7pを積層することにより、同時焼成により一体化されるセラミックグリーン被覆層7を形成。 - 特許庁
  • In this method, an aqueous dispersion-type pressure-sensitive adhesive composition is applied to at least one of first and second sides of a non-woven fabric (substrate) and the composition is allowed to dry to form a pressure-sensitive adhesive layer.
    本発明に係る両面粘着シート製造方法では、不織布(基材)の一面および他面のうち少なくとも一方の面に水分散型の粘着剤組成物を付与し、該組成物を乾燥させて粘着剤層を形成する。 - 特許庁
  • In the semiconductor light-emitting element, a composite buffer layer 12, formed by alternately laminating a plurality of Al_xB_yGa_1-x-yN first layers 12A and a plurality of Al_aB_bGa_i-a-bN second layers 12b upon another is provided on a low-resistance silicon substrate 11.
    低抵抗のシリコンから成る基板11の上にAl_xB_xGa_1-x-yNから成る第1の層12aとAl_aB_bGa_i-a-bNから成る第2の層12bとを交互に複数積層した複合層構造のバッファ層12を設ける。 - 特許庁
  • The carbon fiber reinforced resin material 10 comprises such a three-layer structure that first laminated portions 30, 32 and a second laminated portion 34 constructed to be laminated in the direction perpendicular to laminated faces 30A, 32A of the first laminated portions 30, 32 are layered.
    炭素繊維強化樹脂材10は、第1積層部30、32と、第1積層部30、32の積層面30A、32Aと直交する方向の積層構造とされた第2積層部34と、を重ねた3層構造となっている。 - 特許庁
  • An anode activator layer 12 contains an anode activator, a first polymer with weight average molecular weight of not less than 550,000, and a second polymer with weight average molecular weight of not less than 1,000 and not more than 400,000.
    負極活物質層12は、負極活物質と、重量平均分子量が55万以上である第1の重合体と、重量平均分子量が1000以上40万以下である第2の重合体とを含んでいる。 - 特許庁
  • In the semiconductor light emitting element, a composite laminated buffer layer 12, formed by alternately laminating a plurality of Al_xIn_yGa_1-x-yN first layers 12a and a plurality of Al_aIn_bGa_i-a-bN second layers 12b upon another, is provided on a low-resistance silicon substrate 11.
    低抵抗のシリコンから成る基板11の上にAl_xIn_xGa_1-x-yNから成る第1の層12aとAl_aIn_bGa_i-a-bNから成る第2の層12bとを交互に複数積層した複合層構造のバッファ層12を設ける。 - 特許庁
  • In one of the first and the second seed layers, the normal orthogonal to a crystal lattice plane preferentially oriented in a prescribed direction of crystal grains of the one seed layer is inclined from the normal direction of the surface of the substrate.
    第1及び第2シード層の何れか一方は、該一方のシード層を構成する結晶粒の所定の方向に優先配向している結晶格子面に直交する法線が基板表面の法線方向から傾斜している。 - 特許庁
  • The dry immune analysis element is obtained by applying any of methods of (1) increasing the speed at which the maltoses are turned to a lower molecular compound of glucose (first pattern), and (2) removing the maltoses before reaching the reagent layer (second pattern).
    1)マルトースがグルコースに低分子化される速度を大きくする(第一の形態)、又は2)マルトースが試薬層に達する前に除去する(第二の形態)、のいずれかの方法を適用した乾式免疫分析要素によって解決される。 - 特許庁
  • Sum total sectional area of the first and the second connection electrode layers 5a and 5b in the width direction of the wiring substrate 4 is equal to or smaller than the sectional area of the base end electrode layer 5c in the width direction of the wiring substrate.
    第1接続部電極層5aと第2接続部電極層5bの配線基板4の幅方向断面積の総和が、基端部電極層5cの配線基板の幅方向断面積と同等またはそれ以下に構成されている。 - 特許庁
  • The P-N rectifying junction includes a base region of first conductivity type (e.g., P-type) provided in the substrate and a semiconductor layer of second conductivity type extending between the base region and the light collecting surface.
    前記P−N整流接合は、前記基板に提供される第1導電型(例えば、P型)のベース領域及び前記ベース領域と前記光受容表面との間に延長される第2導電型の半導体層を含む。 - 特許庁
  • A catheter body 2 has a resin layer 5 which is spirally arranged on the outer periphery of a base-material tube 4 and composed of first and second filamentary bodies 51 and 52 made of resin materials having different rigidity.
    カテーテル本体(2)は、基材チューブ(4)と、基材チューブ(4)の外周に螺旋状に配設された、互いに剛性が異なる樹脂材料で構成された第1の線状体(51)および第2の線状体(52)からなる樹脂層(5)を有する。 - 特許庁
  • The first physical quantity and the second physical quantity are expressed in terms of the function of the low frequency ω, and in particular, the phase velocity CR is obtained, and a flaw in a back face layer can be clearly detected from the comparison with the reference value.
    第1物理量と第2物理量は、その低周波の周波数ωの関数で表され、特に、位相速度C_Rが求められ、基準値との比較から明瞭に背面層の欠陥を検出することができる。 - 特許庁
  • Here, a reproduction signal, a tracking signal and a focus signal corresponding to each recording layer is obtained by means of return light of the first wavelength from the optical recording medium, and a signal for a gap control is obtained by means of return light of the second wavelength.
    この際、光記録媒体からの第1の波長の戻り光により、再生信号、トラッキング信号及び各記録層に対応した焦点信号を得、第2の波長の戻り光によりギャップ制御用信号を得る。 - 特許庁
  • The method of manufacturing this semiconductor element includes a step of forming the second-conductivity impurity diffusing layer in a prescribed area of the active region by limiting the active region by forming the element separating film in the prescribed area of the substrate.
    この素子の製造方法は、第1導電型基板の所定の領域に素子分離膜を形成して活性領域を限定し、活性領域の所定の領域に第2導電型不純物拡散層を形成する段階を含む。 - 特許庁
  • Wiring grooves 16a are formed in insulating films 15a, 11b, 12b and 15b, and in the wiring grooves 16a, embedded second layer wirings L2 each having a conductive barrier film 17a and a main conductive film 18a containing copper as a main component by the CMP method.
    絶縁膜15a,11b,12b,15bに配線溝16aを形成した後、CMP法により配線溝16a内に導電性バリア膜17aと銅を主成分とする主導体膜18aとを有する埋込第2層配線L2を形成する。 - 特許庁
  • When the host 11 reaches the ordinary operating mode, the application layer in the host 11 transmits a transmission permission command to a control section 12c to shift the data from the second storage means 12b to a first storage means 12a.
    ホスト11が通常の動作モードに至ると、ホスト11内のアプリケーション層が制御部12cに送信許可コマンドを送信し、前記データが第2の記憶手段12bから第1の記憶手段12aに移動させられる。 - 特許庁
  • The second optically anisotropic layer 38 is a birefringent structure acting as a negative C plate wherein inorganic materials having refractive indices different from each other are alternately laminated and compensates positive optical retardation generated by a vertical alignment region A1.
    第2の光学異方性層38は、屈折率の異なる無機材料が交互に積層された負のCプレートとして作用する複屈折性構造体であり、垂直配向領域A1により生じる正の位相差を補償する。 - 特許庁
  • After that, a paste layer 10x is cured by ultraviolet irradiation, and the first and second film base materials are separated from each other, so as to bring about a film 10c for the touch panel, which is composed of an acrylic silicone resin film subjected to non-glare treatment by the inorganic particles.
    その後は紫外線照射により前記ペースト層10xを硬化させ、第一及び第二フィルム基材を剥離することにより、前記無機粒子によってノングレア処理されたアクリルシリコーン樹脂フィルムからなるタッチパネル用フィルム10cを得る。 - 特許庁
  • The first and second structural members 2, 6 are highly accurately positioned with a gap (an air layer) 10 therebetween and they are bonded to be assembled by an adhesive directly or with a third structural member 11 in the above condition.
    第1構成部材2と第2構成部材6は、間隙(空気層)10を介してが高精度に位置決めされ、その状態で直接あるいは第3構成部材11を介して接着剤により接着組み立てが行われる。 - 特許庁
  • The luggage compartment of two-layer structure is formed of the first cover body 10 moved up by the link mechanism 30, and the second cover body 40 mounted to the opening part of the article storage recessed part 5, to make effective use of the luggage compartment.
    リンク機構30によって上昇させた第1の蓋体10と物品収納凹部5の開口部分に取り付けた第2の蓋体40とにより、2層構造の荷室を形成して荷室を有効利用することができる。 - 特許庁
  • The moistureproof layer 21 is inhibited from permeating the gaps between the columnar crystals 16, by integrally forming the second section 20 of the columnar crystals 16, so that the columnar crystals 16 are less likely to penetrate into optical contact with each other to avoid a deterioration of the image resolving power.
    柱状結晶16の第2の部分20を一体形成により、防湿層21が柱状結晶16間に浸透するのを防止し、柱状結晶16間が光学的に接触しにくくし、画像分解能の低下を防止する。 - 特許庁
  • To provide a welding method, which reduces a welding bead which of a second layer to prevent shrinkage crack from occurring by property setting the weaving of welding torch and improves welding strength and welding quality without requiring repair.
    溶接トーチのウィービングを適切に設定することで、二層目の溶接ビード幅を狭くして収縮割れの発生を防ぎ、手直しを要することなく、溶接強度及び溶接品質の向上が図れる溶接方法を提案する。 - 特許庁
  • A laminated layer structure is formed with the first metal electrode film, the dielectric film of dielectric constant 15 or more formed using the amorphous metal oxide of BiZnNb, and the second metal electrode film in order.
    ポリマー基盤複合体基材上に、順次、第1金属電極膜と、BiZnNb系非晶質金属酸化物を用いて成る、誘電率が15以上の誘電体膜と、第2金属電極膜を形成して積層構造物とする。 - 特許庁
  • A data line and a drain electrode having a source electrode, separate from each other, are formed on the first semiconductor, and a protection layer having a contact hole exposing the drain electrode and an opening exposing the second semiconductor is formed.
    その後、第1半導体上に、互いに分離され、ソース電極を有するデータ線及びドレイン電極を形成し、ドレイン電極を露出させる接触孔と第2半導体を露出させる開口部とを有している保護膜を形成する。 - 特許庁
  • The p^+ collector layer 8 is uniformly formed by performing second laser irradiation and thereby activating a region 21 where the particle 20 is adhered before first laser irradiation as well as a region where the particle 20 is not adhered.
    そして、2台目のレーザーを照射することで、1台目のレーザー照射前にパーティクル20が付着していた領域21もパーティクル20が付着していない領域と同様に活性化し、p^+コレクタ層8を均一に形成する。 - 特許庁
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