「source process」を含む例文一覧(1590)

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  • In a process of correcting the beam intensity, first, laser intensities at a non-lighting state and a lighting state of a laser light source are measured by an optical sensor (S104).
    ビーム強度補正処理において、先ずレーザ光源が非点灯状態と点灯状態のレーザ強度を光センサで測定する（Ｓ１０４）。 - 特許庁
  • Therefore, a prize ball control command receiving process is surely completed even if the power source is cut off during reception of the prize ball controlling command from the main base board.
    よって、主基板からの賞球制御コマンド受信中に電源断しても、賞球制御コマンド受信処理が確実に完了する。 - 特許庁
  • The initial value of the potential difference VGS between a gate and a source of a switching transistor upon a verify process is varied in accordance with the resistance value level of the multi-value information.
    スイッチングトランジスタのゲート・ソース間の電位差ＶＧＳのベリファイ時の初期値を、多値情報の抵抗値レベルに応じて異なる値とする。 - 特許庁
  • Further, the method includes a process of removing the side wall film and forming a base region and a source region in the semiconductor layer using the mask layer as a mask.
    また、サイドウォール膜を除去し、マスク層をマスクにして半導体層にベース領域及びソース領域を形成する工程を有する。 - 特許庁
  • For example, if you want to see both the source and the design view of a BPEL process at the same time (or the Design and Mapper view) follow the instructions below.
    たとえば、BPEL プロセスのソースビューとデザインビュー (またはデザインビューとマッパービュー) の両方を同時に表示する場合、次の手順に従います。 - NetBeans
  • The many gate wirings 3 are divided between the pitches of the source wirings 4 which are connected through conductor thin films 6 formed in a later process.
    多数のゲート配線３…は、ソース配線４…のピッチ間で分断されており、後工程で形成される導電体薄膜６で接続されている。 - 特許庁
  • To provide a constant current source circuit capable of making the fluctuation of output current, and a temperature coefficient small, without depending on process control.
    プロセス制御に依存することなく、出力電流の変動および温度係数を小さくすることのできる定電流源回路を提供する。 - 特許庁
  • This manufacturing method of the organic thin-film transistor has an electrode-forming process of forming a source electrode 103 and a drain electrode 104; an organic semiconductor layer process of forming an organic semiconductor layer 105, connected to the source electrode 103 and the drain electrode 104; and an aging process of heating the organic semiconductor layer 105 and applying an AC voltage to a portion between the source electrode 103 and to the drain electrode 104.
    本発明に係る有機薄膜トランジスタの製造方法は、ソース電極１０３及びドレイン電極１０４を形成する電極形成工程と、ソース電極１０３及びドレイン電極１０４に接続される有機半導体層１０５を形成する有機半導体層工程と、有機半導体層１０５を加熱し、ソース電極１０３及びドレイン電極１０４間に交流電圧を印加するエージング工程とを含む。 - 特許庁
  • A request transmission means 102 transmits a request to a plurality of adjacent nodes in a forward flooding process from a source node to a destination node when a route is searched for from the source node to the destination node in the plurality of nodes.
    リクエスト送信手段１０２は、発信元ノードから宛先ノードまでの経路を探すとき、発信元ノードから宛先ノードに向かう方向の順方向フラッディング処理により、リクエストを複数の隣接ノードに送信する。 - 特許庁
  • A reply transmission means 103 transmits a reply to the plurality of adjacent nodes in an inverse flooding process from the destination node to the source node when the reply is transmitted from the destination node to the source node.
    リプライ送信手段１０３は、宛先ノードから発信元ノードへリプライを返送するとき、宛先ノードから発信元ノードに向かう方向の逆方向フラッディング処理により、リプライを複数の隣接ノードに送信する。 - 特許庁
  • Then, a pattern forming process is carried out for the transparent conductive layer, a source and a drain are formed, an active layer is formed in such a manner that the source, the drain, and the dielectric layer are covered, and a self-alignment TFT structure is completed.
    次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 - 特許庁
  • To provide a thin film transistor which can be manufactured in a simple process even a size of a semiconductor layer is small and does not increase contact resistances between a source electrode and a source area and between a drain electrode and a drain area.
    半導体層のサイズを小さくしても簡素な工程で製造でき、ソース電極とソース領域との接触抵抗やドレイン電極とドレイン領域との接触抵抗を増加させない薄膜トランジスタの提供。 - 特許庁
  • A substrate can be exposed in the process windows by using a patterning means having a pattern corrected in accordance with the determined optical proximity correction rules and by using the radiation source having the intensity distribution of the radiation source.
    前記決定した光学的近接補正規則に従って修正したパターンを有するパターニング手段と前記線源強度分布の線源を使って前記プロセスウインドウ内で基板を露出することもできる。 - 特許庁
  • To provide a high-frequency electron source not including any electron emitting source, and therefore requiring no heating process, and managing without any complicated, high-cost structural component which requires a protection against oxygen and water/moisture.
    電子放出源を含まず、そのため、加熱段階を必要とせず、酸素及び水分に対する保護が必要となるいかなる複雑で高価な構造コンポーネントを要しない高周波電子源を提供することである。 - 特許庁
  • An MFP receives source specification information for identifying a user of the source, destination specification information as a data destination, data specification information and a procedure which defines a process for the specified data.
    ＭＦＰは、発信元のユーザを識別するための発信元特定情報と、データの宛先として宛先特定情報と、データの指定と、指定されたデータに実行する処理を定義する処理手順とを受け付ける。 - 特許庁
  • According to the principle of this invention, it becomes possible to form the low resistance metallic film on the whole surface of the data wiring and the source electrodes by using a diffracting exposure method in the process for patterning the data wiring and the source electrodes.
    本発明の原理に従えば、データ配線及びソース電極をパターンする工程で回折露光方式を用いて、データ配線及びソース電極の全面に低抵抗金属膜を形成することが可能となる。 - 特許庁
  • To provide a nonvolatile semiconductor storage device that forms a continuous metal silicide without any disconnection on common source diffusion wiring by a simple process, and can form low-resistance common source line reliably.
    簡単な工程で共通ソース拡散配線上に断線することなく連続した金属シリサイドを形成して、低抵抗な共通ソース線を確実に形成できる不揮発性半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁
  • A setting circuit 22 for setting the position of the virtual sound source and a control circuit 24 for controlling the process of the audio signal and changing the virtual sound source set by the setting circuit 22 in the vicinity thereof under control.
    仮想音源の位置を設定する設定回路２２と、この設定回路２２による仮想音源の位置を、その近傍で変化させるようにオーディオ信号の処理を制御する制御回路２４とを設ける。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the porous body includes a process for obtaining a porus honeycomb fired body 1 consisting essentially of aluminum titanate by firing a honeycomb formed body containing an aluminum source raw material and a titanium source raw material.
    アルミニウム源原料及びチタン源原料を含むハニカム成形体を焼成して、チタン酸アルミニウムを主成分とする多孔質のハニカム焼成体１を得る工程を含む多孔質体の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A radiation source 11, a detector 12 which is arranged by placing a container advancing space S between it and the radiation source 11, and an operation device 13 which performs an operation process conforming to the output of the detector 12 are provided.
    放射線源１１と、放射線源１１との間にコンテナ進入スペースSをあけて配置されるディテクタ１２と、ディテクタ１２の出力に基づいて演算処理を行う演算装置１３とを設ける。 - 特許庁
  • To correct a beam pitch without adversely affecting other beam characteristics in an image forming device for forming an image by an electrophotographic process by using a multibeam light source device and an optical write-in device using the light source device.
    マルチビーム光源装置及びそれを光書込装置に用いて電子写真プロセスにより画像形成を行う画像形成装置において、他のビーム特性に支障を来たすことなく、ビームピッチを補正できるようにする。 - 特許庁
  • The image forming apparatus is characterized in that the process cartridge which can be attached to/detached from the image forming apparatus provided with a power source is integrated with the direct current axial fan motor operated by receiving supply of power from the power source.
    電源を備えた画像形成装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジと、前記電源からの電力の供給を受けて動作する直流軸流ファンモータとを一体化して構成したことを特徴とする。 - 特許庁
  • The distillate carbonic acid diester may be further purified and the distillate component can be used as a heating source for both the extractive distillation process and the purification distillation process.
    留出炭酸ジエステルは精製蒸留工程で、精製蒸留によりさらに精製してもよく、留出成分は抽出蒸留工程及び精製蒸留工程の両方の工程の加熱源として利用できる。 - 特許庁
  • The method for manufacturing the toner includes: a process of kneading a source material 5 comprising at least a resin, a colorant and wax by using a kneading machine 1 to obtain a kneaded product 7; and a process of cooling the kneaded material 7.
    本発明のトナーの製造方法は、少なくとも、樹脂と、着色剤と、ワックスとを含む原料５を、混練機１を用いて混練して混練物７を得る工程と、混練物７を冷却する冷却工程とを有する。 - 特許庁
  • In a power source device 1, a control IC 3 manufactured by a bipolar process and a power supply element 4 manufactured by an MOS process are die-bonded on a lead frame 2 so that their chip ends are close to each other.
    電源用デバイス１は、バイポーラプロセスにより製造された制御用ＩＣ３とＭＯＳプロセスにより製造された電力供給用素子４のチップ端同士を密着させてリードフレーム２上にダイボンディングしている。 - 特許庁
  • To provide an electronic device capable of facilitating operation necessary for a reading/writing process of electronic information to a storage part inside the device without receiving power supply from a main power source for the purpose of the reading/writing process.
    機器内部の記憶部に対する電子情報の読み書き処理のために主電源からの電源供給を受けることなく、その処理に要する操作を簡易化することができる電子機器を提供する。 - 特許庁
  • The method for manufacturing a white synthetic zeolite from a colored foundry waste sand comprises a first process of manufacturing a sodium silicate solution from a foundry waste sand by way of a filtration process, a second process of manufacturing a sodium aluminate solution from an aluminum source, and a third process of synthesizing a synthetic zeolite from both the sodium silicate solution made in the above first process and the sodium aluminate solution made in the above second process.
    鋳物廃砂からケイ酸ソーダ溶液を途中にろ過行程を入れて製造する第１工程と、アルミニウム源からのアルミン酸ソーダ溶液を製造する第２工程と、前記第１工程によって製造されたケイ酸ソーダ溶液と前記第２工程によって製造されたアルミン酸ソーダ溶液とから合成ゼオライトを合成する第３工程とによって有色の鋳物廃砂から白色の合成ゼオライトを製造する。 - 特許庁
  • In the process, a first temporary gate sidewall spacer defines a rising source/drain formation area, a second temporary spacer defines a source/drain injection and source/drain silicification area, and the temporary gate is protected from being silicified by the hard mask.
    その処理において、第１の一時ゲート側壁スペーサは隆起したソースおよびドレインの形成用の領域を定義し、第２の一時スペーサはソースおよびドレインの注入用ならびにソースおよびドレインの珪化用の領域を定義し、一時ゲートはハードマスクによって珪化から保護される。 - 特許庁
  • The process for producing a beer-like alcoholic beverage comprises producing a pre-fermentation liquid from a syrup comprising a carbon source, a nitrogen source comprising the nitrogen source obtained from soybean or pea, hop and water as raw materials, and fermenting the pre-fermentation liquid by using yeast.
    本発明による方法は、炭素源を含有するシロップと、大豆又はえんどう豆より得られた窒素源を含む窒素源と、ホップと、水を原料として発酵前液を製造し、該発酵前液を酵母を使用して発酵させることによりビール様アルコール飲料を製造する。 - 特許庁
  • A plasma generating coil 6 is arranged in the surrounding of a process chamber 4, a source shield 8 is arranged so that the periphery of the plasma generating coil can be covered, cooling water is made to circulate through the plasma generating coil, and outside air is made to circulate inside the source shield in this plasma generating source.
    プロセスチャンバ４の周囲にプラズマ発生コイル６が設けられ、該プラズマ発生コイルの周囲を覆う様にソースシールド８が設けられ、前記プラズマ発生コイルには冷却水が流通され、前記ソースシールド内部を外気が流通する様にしたプラズマ発生源を具備する。 - 特許庁
  • In this process, holes which are minor carriers for the source area (SBL1) are injected into the charge storage film 12 from the source side, and the amount of the charges in the source side parts 12s of the charge storage film 12 is relatively shifted to the positive polarity side 12d for other parts of the charge storage film.
    このとき、ソース領域（ＳＢＬ１）の少数キャリアであるホールを電荷蓄積膜１２にソース側から注入し、電荷蓄積膜１２のソース側部分１２ｓの電荷量を、電荷蓄積膜の他の部分１２ｄに対し相対的に正極性側にシフトさせる。 - 特許庁
  • To provide a constant current source that is not restrained by a manufacturing process therefor, not affected by a variation in the threshold value of an MOS transistor and the temperature dependence, and can be jointly used with an ED type standard voltage source, and an amplifier circuit and a constant voltage circuit using the constant current source.
    製造プロセスの制約がなく、ＭＯＳトランジスタのしきい値のバラツキや温度依存性の影響を受けず、更にＥＤ型基準電圧源と共用することが可能な定電流源、並びにその定電流源を使用した増幅回路及び定電圧回路を得る。 - 特許庁
  • To provide a plane light source capable of reducing the number of components by arranging a frame body having a linear light source holding function and a linear light source reflecting function concurrently, capable of reducing the size and weight of construction and manufacturing cost, and simplifying a manufacturing process.
    線状光源の保持機能と線状光源の光反射機能とを併せて有する枠体を設けることにより、従来例に比べて部品点数を低減でき、構成の小型化及び軽量化、製造工程の簡略化、並びに製造コストの削減を図れる面光源体を提供する。 - 特許庁
  • To obtain a high drive current by forming a fine channel and shallow source and drain of nm order size by utilizing a heavily doped silicon layer of a source and drain junction without separate lithographic process as a diffusion source and increasing an effective width of the channel in the same area.
    別途のリソグラフィ工程なしにソース及びドレイン接合部の高不純物濃度のシリコン層を拡散源として利用してｎｍ大きさの微細チャネルと浅いソース及びドレインを形成すること、また同じ面積内でチャネルの実効幅を増加させることによって高い駆動電流を得ること。 - 特許庁
  • When the maintenance timing of a light source 13 is reached, after inspection process has been interrupted temporarily and an image sensor element for light source adjustment is conveyed to be placed on a placing section 11 (S1), imaging is carried out with the image sensor element for light source adjustment (S2), under identical conditions as the imaging conditions at inspection of image sensor element 12.
    光源１３のメンテナンスのタイミングになると、検査工程が一時中断され、光源調整用撮像素子が載置部１１へと搬送されて載置され（Ｓ１）、撮像素子１２を検査する際の撮像条件と同じ条件で、光源調整用撮像素子により撮像が行われる（Ｓ２）。 - 特許庁
  • The present invention is a process of making the germanium-antimony-tellurium alloy film using the process selected from the group consisting of atomic layer deposition and chemical vapor deposition, wherein a silyltellurium precursor is used as the source of tellurium for the alloy film and is reacted with an alcohol during the deposition process.
    シリルテルル前駆体がゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜のためのテルル源として用いられ、堆積プロセスの際にアルコールと反応する、原子層堆積及び化学気相成長からなる群より選択されるプロセスを用いてゲルマニウム−アンチモン−テルル合金膜を製造する方法が提供される。 - 特許庁
  • When a silicon oxide film formed in the silicon wafer 26 is etched, the process gas containing the hydrofluoric acid mono-atoms is led into the process chamber 24, also a part of the nitrogen gas from the nitrogen gas source 38 is passed through a wafer bubbling unit, and the nitrogen gas to which vapor is annexed is led into the process chamber 24.
    シリコンウエハ26に形成したシリコン酸化膜をエッチングする場合、フッ素単原子を含む処理ガスを処理室24に導入するとともに、窒素ガス源38からの窒素ガスの一部を水バブリングユニットに通し、水蒸気を添加した窒素ガスを処理室24に導入する。 - 特許庁
  • A method of producing SRO comprises: a process of allowing a first silicon source gas containing no oxygen to adsorb to a substrate and then of forming a SiO_2 film by oxidation reaction between a reaction gas containing oxygen and the first silicon source gas; and a process of forming a Si film by reduction reaction between a second silicon source gas containing no oxygen and a reaction gas corresponding to it.
    Ｏが含まれていない第１シリコンソースガスを基板に吸着させた後、Ｏが含まれた反応ガスと第１シリコンソースガスとの酸化反応によりＳｉＯ_２膜を形成する工程と、Ｏ成分を含んでいない第２シリコンソースガスとこれに対応する反応ガスとの還元反応によりＳｉ膜を形成する工程と、を含むことを特徴とするＳＲＯの製造方法である。 - 特許庁
  • A process for production of aluminum titanate-based ceramics comprises firing either a precursor mixture obtained by mixing fine particles of an aluminum titanate-based ceramic with a titania source, an alumina source and, if necessary, a magnesia source and/or a silica source or a powder composed of fine particles of an aluminum titanate-based ceramic itself in a powdery or formed state, preferably in a formed state.
    微粒チタン酸アルミニウム系セラミックス、チタニア源およびアルミナ源、場合によりマグネシア源やシリカ源とも混合した前駆体混合物を、または微粒チタン酸アルミニウム系セラミックス粉末自体を、好ましくは成形して、粉末状態或いは成形体の状態で焼成することによりチタン酸アルミニウム系セラミックスを製造すること。 - 特許庁
  • The flavoring components are obtained by addition of flavor-generating whey source as a part of a fermentation process in which the whey source provides a source of flavor, and a lipid source is added which traps and stabilizes flavor compounds in the fermented mixture and thus preserves the compounds during a subsequent heat treatment used for culture inactivation.
    この風味付け成分は、発酵過程の一環として風味発現用ホエー源の添加により得られ、その発酵過程ではホエー源が風味の供給源を提供し、また脂質源を添加し、このものが発酵混合物中の風味化合物を捕集しかつ安定化し、こうして培養菌を不活性化するのに用いるその後の加熱処理の間、保全する。 - 特許庁
  • In the method for separating and refining hydrogen from a source gas containing hydrogen which is by-produced from a chemical conversion facility of ironworks or the like, and in an adsorption and desorption treatment process of impurities contained in the source gas, a hydrogen gas is separated and refined from the source gas by alternately using a plurality of heat exchangers, when cooling a treated source gas.
    製鉄所等の化成設備から副生する水素含有原料ガスから水素を精製分離する方法において、前記原料ガス中に含有する不純物の吸・脱着処理の過程で、被処理原料ガスの冷却に際し、複数台の熱交換器を交互に用いて該原料ガスからの水素ガスの分離精製を行なうこと。 - 特許庁
  • In a NAND flash memory, in particular, a first bit error which has occurred in the data reading process of a source page during a copyback operation is detected.
    特にＮＡＮＤフラッシュメモリ装置において、コピーバック動作時ソースページのデータを読み取る過程で発生した第１のビットのエラーを検出できる。 - 特許庁
  • When turning on a power source, rollers 91, 92 and 93 are rotated in a reverse transport direction by a sub motor 42 before the pre-rotation processing of image forming process sequence is performed.
    電源ＯＮ時には、画像形成プロセスシーケンスの前回転処理の前に、サブモータ４２によりローラ９１，９２，９３を反転搬送方向に回転させる。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing method of a field emission type electron source capable of extending its service life by considering a condition in a nano-crystallization process.
    ナノ結晶化処理の際の条件を考慮することにより、長寿命化を可能とした電界放射型電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The post-conversion source program 13 obtained in this way is converted into an execution form file by a compiler 14, and is executed by a computer to perform a debug process.
    こうして得られた変換後ソースプログラム１３をコンパイラ１４で実行形式ファイルに変換し、計算機で実行することによってデバッグ処理を行う。 - 特許庁
  • A shared memory-based header held in each inter-process communication queue allows all the clients of the queue to access queue information from a single source.
    各プロセス間通信キューによって保持される共有メモリベースのヘッダは、キューのクライアントのすべてが単一ソースからキュー情報へアクセスすることを可能にする。 - 特許庁
  • To provide an electron emission element, an electron source, and an image forming device, in which a manufacturing process is simple, a threshold for electron emission is low, and an element capacity is low.
    製造プロセスが簡便で、電子放出の閾値が低く、且つ素子容量が小さい電子放出素子、電子源および画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • Data recovery process using a working disk device as a main subject basically recovers data on a spare disk device 68 from the working disk device as a copy source.
    正常ディスク装置を主体としたデータ復元処理は、正常ディスク装置をコピー元として予備ディスク装置６８にデータを復元することを基本とする。 - 特許庁
  • A job information management part 3 manages transmission source identification information of the print job, which is in process or processed already, and job identification information.
    ジョブ情報管理部３は、現在処理中又は処理を終了した印刷ジョブの送信元識別情報とジョブ識別情報とを管理する。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a plastic lighting cover, which has high strength and can surely diffuse light from a light source, through a simple process.
    簡素な工程で、強度が高く、かつ、光源からの光を確実に拡散することができるプラスチック製照明カバーの製造方法を提供すること。 - 特許庁
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