「step pattern」を含む例文一覧(2084)
＜前へ 1 2 .... 19 20 21 22 23 24 25 26 27 .... 41 42 次へ＞- CAD data in which a plurality of pattern data are superimposed, and process management information including a plurality of process names are read in a CAD system (step A1).
複数のパターンデータが重ね合わされたＣＡＤデータ、及び複数の工程名を含む工程管理情報を、ＣＡＤシステムに読み込む（ステップＡ１）。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an electro-optic apparatus for forming a predetermined pattern with high accuracy by using a specified photomask and applying multi-step exposure.
特定のフォトマスクを使用して、多段階露光することにより、精度良く所定パターンを形成できる電気光学装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁 - A region 52 with a formed rugged pattern and a dummy electroforming area 53 are exposed as electrically conductive parts on an electrically conductive substrate 51 passed through a developing step.
現像工程を経た導電性基板５１上には、凹凸パターンが形成された領域５２と、ダミー電鋳部５３が導電部分として露出されている。 - 特許庁 - The method further enables a step (106) where the spot pattern including plural spots is decided on a second surface of the part to which the peening is given.
この方法はさらに、ピーニングを加えるべき部品の第２表面上に、複数のスポットを含むスポットパターンを定める段階（１０６）を可能にする。 - 特許庁 - So, when the information is transmitted from the portable terminal, the game machine provides an effect of executing the step of the rendition pattern according to the rightness of the information.
よって、携帯端末から情報を送信すれば、その情報の正当性に応じた演出パターンの段階を実行し得るという効果がある。 - 特許庁 - The wireless access point determines a transmission pattern minimizing the sum of expected values t_n, among the transmission patterns where the number of terminals does not exceed the minimum integer number n_m (step S11).
無線アクセスポイントは、最小の整数ｎ_mを超えない送信パターンの中から、の期待値ｔ_nの和が最小となる送信パターンを決定する（ステップＳ１１）。 - 特許庁 - The optical information reading apparatus compares the image by lighting patterns using image signals of partial images when being lit by a same lighting pattern (a step S17).
そして、同じ照明パターンにより照明されているときの部分画像の画像信号を用いて、照明パターン別の画像の比較を行う（ステップＳ１７）。 - 特許庁 - In an initial stage of etching, the first etching step in which a relatively high etching pressure is set is conducted to isotropically etch an opening region of a mask pattern.
エッチング開始当初はエッチング圧力を比較的高めに設定した第１のエッチング工程を実施し、マスクパターンの開口領域を等方エッチングする。 - 特許庁 - If the character code does not exist ("NO"), a read code pattern is determined as RSS_Limited, and if the character code exists ("Yes"), read "NG" is determined (step A14).
前記キャラクタコードが存在しなければ（「ＮＯ」）読取ったコードパターンをRSS＿Limitedとして確定し、前記キャラクタコードが存在すると（「ＹＥＳ」）読取りを「ＮＧ」とする（ステップＡ１４）。 - 特許庁 - Next, the dummy pattern 20 of the maximum size is located with the edge of the object as a basis point while selecting each object in order (step A2 and A3).
次に、各オブジェクトを順次選択しながら、当該オブジェクトの端部を基点として最大サイズのダミーパターン２０を配置する（ステップＡ２及びステップＡ３）。 - 特許庁 - Both data are overlapped so that pattern data are formed on a background of the document of printing document data, and they are synthesized into one image (step S5).
そして、印刷文書データの文書の背景に、このパターンデータを形成するように両者を重ね合わせて１枚の画像に合成する（ステップＳ５）。 - 特許庁 - The method also includes a step (124) of acquiring a measured electrical signal of electrical signals from the electrodes corresponding to each electrical signal pattern applied.
本方法はさらに、印加した各電気信号パターンに対応する電極から電気信号の計測電気信号を取得するステップ（１２４）を含む。 - 特許庁 - Thus, when a winding stem 8 is pulled by one step, the reset-lever 3 is moved over planar plane to a predetermined direction to contact its leading end 3a to the overhung pattern 4a.
従って、巻真８を１段引くと、リセットレバー３が所定の方向に平面移動し、その先端部３ａをオーバーハングパターン４ａに接触させる。 - 特許庁 - A wiring layer connecting with the wiring pattern exposed from the molding is laminated on the molding by printing, drying and curing (step S4).
そして、成形体から表出させた配線パターンに導通する配線層を、印刷、乾燥及び硬化させることにより、成形体に積層する（ステップＳ４）。 - 特許庁 - The controller controls the motor to follow a target pattern of a crus link rotation angle corresponding to one step from leaving the ground to reaching the ground during walking.
コントローラは、歩行時の離地から着地までの１ステップに相当する下腿リンク回転角の目標パターンに追従するようにモータを制御する。 - 特許庁 - In a step S3, first exposure treatment is performed by only deciding a grating pattern forming area as a substantial object to be exposed, and executed by using two-lens illumination.
ステップＳ３において、２眼照明を用いて、グレーティングパターン形成領域のみを実質的な露光対象とする第１の露光処理を実行する。 - 特許庁 - To reduce the amount of out gas generated from a resist film in a patternwise exposing step and to obtain a resist pattern having a good section shape.
パターン露光工程においてレジスト膜から発生するアウトガスの量を低減して、良好な断面形状を持つレジストパターンが得られるようにする。 - 特許庁 - A step 4b having a low tip side is formed on the upper face of a pattern termination part 4 while its lower level face 4c is made as a face to which a solder ball 7 is arranged.
パターン終端部４の上面に、先端側が低くなった段差４ｂを形成し、その低位面４ｃを、半田ボール７を配置する面とする。 - 特許庁 - Nano imprint lithography method is used for carrying out a step of imprinting a concavity and convexity pattern formed on a mold on a resist film applied on a lamination structure of a semiconductor.
ナノインプリントリソグラフィー法を用いて、モールドに形成された凹凸パターンを、半導体の積層構造上に塗布したレジスト膜に転写する工程を行なう。 - 特許庁 - The inspection area AX1 is moved based on a moving pattern of a specified moving direction M1 for guiding a sight line of the inspection person, in the moving step.
移動ステップでは、検査員の視線を誘導する特定の移動方向Ｍ１の移動パターンに基づいて検査領域ＡＸ１を移動させる。 - 特許庁 - In case the pattern formation has not been completed, a stage 5 is transferred to a predetermined position under a drawing unit 3 by step S9 as a stage transfer process.
パターンが完成していない場合は、ステージ移動工程としてのステップＳ９によって、ステージ５を描画ユニット３の下の所定の位置に移動する。 - 特許庁 - To provide a step-type proximity exposure method by which a measurement position of a gap and a position of an alignment mark can be disposed while avoiding overlapping on an exposure pattern.
ギャップの測定位置及びアライメントマークの位置を露光パターンに重ならないように設けることができるステップ式近接露光方法を提供する。 - 特許庁 - When the value in the counter CT is at least 100 and less than 200, a scene in summer is displayed as a background display of each special pattern (Step S260).
カウンタＣＴの値が１００以上２００未満の場合は、各特別図柄の背景表示として夏の風景が表示される（ステップＳ２６０）。 - 特許庁 - In the processing room 5, using a step and repeat system, the pattern is transferred to the whole film by pressing the mold repeatedly against a plurality of regions of the film.
プロセス室５においては、ステップ・アンド・リピート方式により、膜の複数の領域に繰り返しモールドを押し付けることにより、膜全体にパターンを転写する。 - 特許庁 - In a step of forming the interlayer insulating film 22, an exposure mask 56A is used, when the projecting and recessing pattern are formed on the surface of the interlayer insulating film 22.
層間絶縁膜２２を形成する工程では、層間絶縁膜２２の表面に凹凸パターンを形成する際に露光マスク５６Ａを用いる。 - 特許庁 - When the value in the counter CT is at least 300 and less than 400, a scene in winter is displayed as a background display of each special pattern (Step S280).
カウンタＣＴの値が３００以上４００未満の場合は、各特別図柄の背景表示として冬の風景が表示される（ステップＳ２８０）。 - 特許庁 - To provide a door having a flush structure capable of making an uneven step to unify a pattern without coating the end of a face and diversifying a design.
表面材の端部を被覆することなく、段差をつけて図柄も統一できるようにし、デザインを多様化しうるようにしたフラッシュ構造のドアを提供する。 - 特許庁 - The set pattern is displayed to an employee on an instruction monitor in the step S2, so that suitable kinds and amounts of sushis according to the number of customers are cooked.
設定されたパターンはステップＳ２で指示モニタで従業員に対して表示されることで、客数に応じた適切な種類と量のすしが調理される。 - 特許庁 - When the value in the counter CT is at least 200 and less than 300, a scene in autumn is displayed as a background display of each special pattern (Step S270).
カウンタＣＴの値が２００以上３００未満の場合は、各特別図柄の背景表示として秋の風景が表示される（ステップＳ２７０）。 - 特許庁 - The method also comprises a step for collectively calcinating a wiring pattern 79 constituted of the underlying film 71, the conductive film 73, and the diffusion prevention film 77.
そして、これら下地膜７１、導電膜７３、拡散防止膜７７とで構成された配線パターン７９を一括で焼成する工程を有する。 - 特許庁 - The dry film 12 remaining on the surface of the peelable copper foil 5 is peeled and removed (step 6:S6), thereby forming the desired wiring pattern 8.
そして、ピーラブル銅箔５の表面に残されたドライフィルム１２を剥離し除去する（ステップ６：Ｓ６）ことより、所望の配線パターン８が形成される。 - 特許庁 - To form an image with the quality of a print result image approximately kept constant in a print step without needing to print a special image such as a test pattern, etc.
テストパターン等の特殊な画像を印刷する必要なく、印刷において印刷結果画像の画質をほぼ一定に維持して画像形成を行う。 - 特許庁 - To provide a train control system which acquires accurate step response data by outputting a control command according to a notch pattern for a running test.
自動で走行試験用のノッチパターンに従って制御指令を出力することで正確なステップ応答データを得られる列車制御装置を提供する。 - 特許庁 - In a mounting process (step S1), an IC chip 3 is mounted on an interposer 1 formed with lands 7, a pad 8, a wiring pattern, etc. via a die-bonding material 2.
Ｓ１の実装工程にて、ランド７、パッド８、配線パターンなどが形成されているインターポーザ１に、ダイボンド材２を介してＩＣチップ３を実装する。 - 特許庁 - A method for controlling the screw advancing speed in the injection molding machine comprises a step of controlling the advancing speed of the screw according to a preset speed pattern until the screw arrives at a deceleration starting position LS4B.
スクリュが減速開始位置ＬＳ４Ｂに到達するまでは、予め設定された速度パターンに従ってスクリュの前進速度を制御する。 - 特許庁 - When an ON-flag of a drum sensor is set, the ON-flag of the drum sensor is reset, and a step counter is cleared (=0) to initialize the current display pattern data.
ドラムセンサＯＮフラグがセットされているときには、ドラムセンサＯＮフラグをリセットするとともに、ステップ数カウンタをクリア（＝０）し、現在表示図柄データを初期化する。 - 特許庁 - The first wiring pattern group has an inclined part 23a and the inclined part 23a forms a level difference part comprised of the plurality of step-like shapes.
第１配線パターン群１９ａは、傾斜部２３ａを有しており、傾斜部２３ａは複数段の階段状の形状からなる段差部を形成している。 - 特許庁 - First, as shown in Fig. 2 (a), in a step St 11, the analysis of signal data is performed with respect to respective test patterns P_1-P_n contained in a test pattern group 150.
まず、図２（ａ）に示すように、ステップＳｔ１１において、テストパターン群１５０に含まれる各テストパターンＰ_1〜Ｐ_nについて、信号データの解析を行なう。 - 特許庁 - Then, using the step part as an alignment mark, a photo resist pattern for forming an active region on the semiconductor substrate is formed.
その後、前記段差部をアラインメントマークとして用いて前記半導体基板に活性領域を形成するためのフォトレジストパターンを形成して行われる。 - 特許庁 - Consequently, the sending of information from the portable terminal has an effect of permitting the step of the performance pattern corresponding to the appropriateness of the information to be performed.
よって、携帯端末から情報を送信すれば、その情報の正当性に応じた演出パターンの段階を実行し得るという効果がある。 - 特許庁 - Next, a sheet laminate made of at least one of such ceramic green sheets 11 having the internal electrode pattern 20 and the step difference accommodation layer 31 formed thereon, is fabricated.
次に、内部電極パターン２０及び段差吸収層３１が形成されたセラミックグリーンシート１１を少なくとも一層含むシート積層体を作製する。 - 特許庁 - The method of manufacturing the wiring board includes a step for forming a wiring pattern 40 by etching a metal layer 20 formed with a patterned mask 30.
配線基板の製造方法は、パターニングされたマスク３０が設けられた金属層２０をエッチングして配線パターン４０を形成することを含む。 - 特許庁 - The plate patterns 24 and the reference data patterns 26 are compared in the subsequent pattern inspection step S28 and the dissidence of both patterns is defected as the defect patterns.
その後のパターン検査工程Ｓ２８にて、プレートパターン２４と基準データパターン２６とを比較して、両パターンの不一致を欠陥パターンとして検出する。 - 特許庁 - Moreover, a resist film 44 is formed on the pattern again in the same way as (c), and an eight step reflection type diffraction optics is formed by repeating the same processes.
又、再度(c)と同様にパターン上にレジスト膜４４を形成し(h)、同様の工程を繰り返すことにより、８段の反射型回折光学素子を作成する。 - 特許庁 - The set mask pattern is applied to the pixel region corresponding to each pixel, and recording pixels to be recorded at respective pixel regions are determined (step 260).
設定されたマスクパターンが各々の画素に対応する画素領域に適用され、各々の画素領域で記録される記録画素が決定される（ステップ２６０）。 - 特許庁 - And the simulation test bench to be inputted in the corresponding input signal line is generated by reading the test pattern file and performing bit distribution (a step 12).
そして、そのテストパターンファイルを読み込み、ビット分配して対応する入力信号線へ入力するシミュレーションテストベンチを生成する（ステップ１２）。 - 特許庁 - In the swelling step, the treatment of swelling the organic polymer constituting the resist film pattern, on which the oxidation of the cured layer has been done using the chemical, is carried out.
膨潤化工程では、薬液を用いて硬化層の酸化が実施されたレジスト膜パターンを構成する有機ポリマーを膨潤させる処理が実施される。 - 特許庁 - After that, when the coordinates are measured by turning the pattern face upward to the other CF substrate, (a, -b) is subtracted from an actual measurement value (a step S4).
その後、他のＣＦ基板に対してパターン面を上向きにして座標の測定を行う際には、実測値から（ａ，−ｂ）を減算することとする（ステップＳ４）。 - 特許庁 - This method includes a step for forming a gate electrode and a silicidation prevention film pattern successively stacked on the prescribed region of a semiconductor substrate.
この方法は半導体基板の所定領域上に順次に積層されたゲート電極及びシリサイド化防止膜パターンを形成することを含む。 - 特許庁 - To correct the warping of a lamination 5 during the manufacturing step that alternately laminates a conductor pattern 3 and an insulating layer 4 on an insulating substrate 2.
絶縁体基板２上に導体パターン３と絶縁層４を交互に積層形成する製造工程において、積層体５の反りを矯正する。 - 特許庁
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