「substrate processing system」を含む例文一覧(694)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14- To improve the yield of an FPD substrate to be restored, without requiring strict management regarding thickness and density, or the like, of a CVD film in a laser CVD treatment step for reducing the manufacturing cost, in a method for manufacturing the FPD substrate including wiring restoration processing by a laser CVD method of gas window system.
ガスウィンドウ方式のレーザＣＶＤ法による配線修復処理を含むＦＰＤ基板の製造方法において、レーザＣＶＤ処理工程におけるＣＶＤ被膜の厚さや密度等に関する厳密な管理を要することなく、修復されるＦＰＤ基板の歩留まりを向上させ、それにより製造コストを低減すること。 - 特許庁 - To provide a charged particle beam drawing method for reducing the deviation amount of electronic beam irradiation, position on a substrate with respect to a second charged particle beam writing apparatus, when differing charged-particle beam writing apparatus perform writing processing with respect to the substrate, and to provide a charged-particle beam writing system.
基板に対して異なる荷電粒子ビーム描画装置により描画処理を行う際、２番目の荷電粒子ビーム描画装置に対する基板上の電子ビーム照射位置ずれ量を小さくすることのできる荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a removing device, a protective film forming device, a substrate processing system, and a removing method, capable of nicely removing a protective film constituent without affecting to a resist film even when the constituent of protective film, formed so as to cover the resist film, is adhered to the peripheral rim of the substrate.
レジスト膜を覆うように形成された保護膜につき、その保護膜成分が基板の周縁部に付着した場合であっても、レジスト膜に影響を及ぼすことなく、かつ、良好に保護膜成分を良好に除去することができる除去装置、保護膜形成装置、基板処理システム、および除去方法を提供する。 - 特許庁 - Using a laser processing system comprising a carrying-in/out chamber for carrying in/out a substrate, a carring chamber including a robot arm, a heating chamber for heating the substrate, and a laser irradiating chamber for irradiating the substrate with a laser beam while heating the substrate, the crystalline semiconductor film is illadiated with the laser beam while moving the laser beam so as to epitaxial grow the crystalline semiconductor film.
本発明によると、基板を搬入搬出するための搬入搬出室と、ロボットアームを有する搬送室と、前記基板を加熱する加熱室と、前記基板を加熱しながら前記基板にレーザー光を照射するためのレーザー照射室と、を有するレーザー処理システムを用いて、前記レーザー光を前記結晶性半導体膜に対して移動させながら照射することで、前記結晶性珪素膜はエピタキシャル成長することができる。 - 特許庁 - The plasma processing system also includes an induction coil configured to form an electromagnetic field for creating a plasma for processing the substrate, and the optimized top piece coupled to the bottom piece which has a hollow cylindrical portion for accommodating a heating and cooling plate at a terminal end.
また、プラズマ処理システムは、基板を処理するプラズマを発生させるための電磁場を形成するように構成された誘導コイルと、その末端部に加熱及び冷却プレートを収容するための中が空洞で円筒形の部分を有する上部部材であって、下部部材と結合する最適化された上部部材を含んでなる。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus highly accurately executing exposure processing by stably forming a liquid immersion region and excellently recovering the liquid in executing exposure processing in a state where the liquid immersion region is formed between a projection optical system and a substrate, and by preventing outflowing or scattering of the liquid to the periphery.
投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁 - A metallic coating process is preferably carried out in an integrated processing system that includes both PVD and CVD processing chambers so that once the substrate is introduced into a vacuum environment, the metallic coating of the vias and contacts can be carried out without the formation of an oxide layer over the CVD Al layer.
金属被覆法は、統合された処理システムで実施されるのが好ましく、そのシステムは、ＰＶＤおよびＣＶＤ処理チャンバの両方を含み、基板が真空環境に入ると、バイアおよび接点の金属被覆が、ＣＶＤによるＡｌ層上に酸化物層を形成することなく行うことができる。 - 特許庁 - When the wafer W is stored in a hoop 14b of the substrate processing system 10, the wafer W is conveyed into the hoop 14b by the conveying arm mechanism 19 and thereafter the opening-closing door is maintained in an open state until a predetermined delay time passes.
基板処理システム１０のフープ１４ｂにウエハＷを収納する際、搬送アーム機構１９によってウエハＷをフープ１４ｂ内に搬入し、その後、所定の遅延時間が経過するまで開閉扉を開放状態のまま保持する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system in which operators are effectively stationed, and when an error occurs, it is possible to recover promptly, and moreover a statistical process can be carried out for maintenance outside the manufacturing factory at low cost and in safety by utilizing existing facilities.
オペレータを効率的に配置し、且つエラーが生じた場合には迅速に復旧可能であり、しかも既存の設備を利用して低コストで安全に製造工場外で保守のための統計処理を行うことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - A heat transfer system 118, which is capable of producing a high degree of processing uniformity across the surface of a substrate 110, comprises a uniformity pedestal 112 supported on and in good thermal contact with a heat transfer member 114.
熱伝達システム１１８は、基板１１０の表面にわたる高度な処理の均一性を生成することができ、熱伝達部材１１４の上に支持され、熱伝達部材１１４と良好に熱接触する均一性ペデスタル１１２を備える。 - 特許庁 - A laser beam 11 emitted from an excimer laser oscillator 10 is shaped to a pattern of a projection mask 20 through a total reflection mirror 12 and an optical system 13, and then is reductively projected by a lens 14 to be cast on a substrate 17 in a processing chamber 16.
エキシマレーザ発振器１０から発せられたレーザ光１１は、全反射ミラー１２や光学系１３を通り、投影マスク２０のパターンに従って成形され、レンズ１４により縮小投影されプロセスチャンバ１６内の基板１７に照射される。 - 特許庁 - To achieve data transmission with high resistance against turbulence noise even when a power supply voltage in a logic system processing digital video signals is decreased, by reducing the number of necessary terminals on a substrate, and to obtain an output image of high picture quality by reducing influences of radiation noise.
基板上に必要な端子数を少なくし、デジタルビデオ信号を処理するロジック系の電源電圧が小さくなっても外乱ノイズに強いデータ伝送を実現し、放射ノイズの影響を小さくして高画質な出力画像を得る。 - 特許庁 - The substrate processing system 1 is provided with a process module 2 to apply plasma to a wafer W, an atmosphere conveyance apparatus 3 to take out a wafer W from a hoop 5, and a load lock module 4 as an intermediate conveyance chamber to ship in/out the wafer W.
基板処理システム１は、ウエハＷにプラズマ処理を施すプロセスモジュール２と、フープ５からウエハＷを取り出す大気系搬送装置３と、ウエハＷを搬出入する中間搬送室としてのロード・ロックモジュール４とを備える。 - 特許庁 - The particle image analyzer includes an illuminating optical system 4 for implementing dark-field illumination to particles, an imaging optical system 5 for imaging particles dark-field-illuminated, an image processing substrate 6 extracting particle image from taken images by dark-field illumination to derive morphological characteristic information representing morphological characteristics of particles by analyzing the extracted particle images and an imagery data processing section 2b.
この粒子画像分析装置は、粒子を暗視野照明するための照明光学系４と、暗視野照明された粒子を撮像するための撮像光学系５と、暗視野照明による撮像画像から粒子像を抽出し、抽出された粒子像を分析して粒子の形態的特徴を表す形態的特徴情報を求める画像処理基板６および画像データ処理部２ｂとを備える。 - 特許庁 - The pattern manufacturing system comprises exposure to directly draw a resist overlying on a copper foil formed on both the faces of the substrate by using the line width of the pattern line and an exposure amount designated by processing pattern data 100, forming a resist pattern by developing the exposed resist, and forming a pattern by etching the copper foil of both the faces of the substrate forming the resist pattern.
加工用パターンデータ１００により指定されたパターン線の線幅と露光量を用いて、基板の両面に形成された銅箔上にラミネートされたレジストに直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、レジストパターンが形成された基板の両面の銅箔をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁 - In the plasma processing system employing an electrostatic suction unit 1, a semiconductor substrate 4 is charged negatively by applying a minus voltage to a suction electrode 2 which has been applied with a plus voltage before a plasma 5 disappears and then the plasma is extinguished.
静電吸着装置１を備えたプラズマ処理装置において、プラズマ５を消失する前にプラスの電圧を印加していた吸着用電極２にマイナスの電圧を印加することにより、半導体基板４をマイナスに帯電させ、その後プラズマを消失させる。 - 特許庁 - This process step is preferably implemented in an integrated processing system having a long-throw PVD chamber 36, where a target 64 is separated from the substrate 66 by a long-throw distance of at least 100 mm and a hot metal PVD chamber which serves also as a reflow chamber.
プロセスは、ターゲット６４と基板６６が少なくとも１００ｍｍのロングスロー距離によって分離されるロングスローＰＶＤ３６チャンバ及びリフローチャンバとしても働く熱い金属ＰＶＤを有する一体化された処理システム内で達成されるのが好ましい。 - 特許庁 - A throat exhaust pipe 15, which forms a throat exhaust system that evacuates the throat space 21 independently of the substrate processing space 20, is mounted on the throat flange 7, a purge gas is supplied to the throat space 21 while the throat space 21 is evacuated so that the contaminants are exhausted from the throat space 21.
基板処理空間２０とは独立に炉口部側空間２１を排気する炉口排気系を構成する炉口排気管１５を炉口フランジ７に設けて、炉口部空間２１にパージガスを供給しつつ排気して汚染物質を炉口部側空間２１から除去する。 - 特許庁 - A gas supply system for processing a semiconductor substrate includes a plurality of gas supplies 16, 18, and 20, a mixing manifold 30 in which gas from the plurality of gas supplies is mixed together, a plurality of gas supply lines 12 and 14 delivering the mixed gas to different zones in the chamber, and a control valve 34.
半導体基板処理のためのガス供給システムであって、複数のガス供給部１６，１８，２０と、複数のガス供給部からのガスを混合する混合マニホールド３０と、混合ガスをチャンバー内の異なったゾーンへ送る複数のガス供給ライン１２，１４と、コントロールバルブ３４とを含む。 - 特許庁 - To provide an inspection system for improving working efficiency by reducing a confirmation work load using a microscope by discriminating types of defects and deciding whether the types are appropriate, by processing the defective images with a plurality of thresholds for all the defects within a substrate.
基板内の全ての欠陥に対して複数の閾値によって欠陥画像を処理して欠陥の種類の判別と良否判定を行う事により、顕微鏡による確認作業負荷を削減する事を可能とし、作業効率を向上させる検査システムを提供する。 - 特許庁 - The supporting part 521 of a holding member 52 on the carrying truck 100 side and the supporting part 201 of a holding member 200 on the processing system side are arranged to fit each other in the plan view so that they can support the same substrate W simultaneously.
搬送台車１００側の保持部材５２における支持部５２１と、処理装置側の保持部材２００における支持部２０１と、が平面視にて互いに嵌合するよう当該各支持部を構成する事で、両者が同一の基板Ｗを同時に支持し得るようにする。 - 特許庁 - A substrate processing system comprising a vacuum deposition process chamber 133 having an exhaust port 152 arrange to discharge one or more particle during a deposition cycle and a cleaning gas reactive species during a cleaning cycle, and an insitu particle monitor 190 coupled with the exhaust port 152 is employed.
排気口１５２が堆積サイクルの間に１つ以上の粒子と洗浄サイクルの間に洗浄ガス反応種を排出するように構成された真空堆積プロセスチャンバ１３３と、排気口１５２に結合したインサイチュ粒子モニタ１９０とを含む基板処理システムを用いる。 - 特許庁 - Further, a system in which the respective conveying trays for a 200mm wafer and a 300mm wafer are provided with interchangeability for a side of a substrate processing device, and the tray is automatically selected according to the wafer size by a controller is constructed, thereby enhancing productivity.
また、２００ｍｍウェハと３００ｍｍウェハ用のそれぞれの搬送トレーに対して、基板処理装置側に対する互換性を持たせ、制御装置によってウェハのサイズによってトレーの選択を自動的に行うシステムを構築することにより、生産性を向上させることが可能となった。 - 特許庁 - A processing chamber (100) for performing atomic layer deposition (ALD), a substrate holder (120) provided within the process chamber, and a gas injection system (140) configured to supply a first process gas and a second process gas to the process chamber (100) are included in the subject apparatus.
処理チャンバ（１００）と、前記処理チャンバ内に設けられた基板ホルダ（１２０）と、前記処理チャンバ（１００）に、第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスを供給するように構成されたガス注入装置（１４０）とを含む、原子層堆積（ＡＬＤ）を実行する処理システム（１００）。 - 特許庁 - The processing apparatus is such one that transfers a pattern to the resist by bringing a mold with an irregular pattern formed into contact with the resist on a substrate, wherein the apparatus includes a means to supply the resist between the substrate and the mold, and a lighting optical system to irradiate ultraviolet rays to the resist through the mold, and to cure the resist.
凹凸のパターンを形成したモールドを、基板上のレジストに接触することによって前記レジストにパターンを転写する加工装置であって、前記レジストを前記基板と前記モールドとの間に供給する手段と、前記モールドを介して紫外線を前記レジストに照射して当該レジストを硬化させるための照明光学系とを有することを特徴とする加工装置を提供する。 - 特許庁 - There is provided a projection system used in a lithography tool for processing a modulated light used for forming an image on a substrate, comprising an off-axis mirror segment for receiving the modulated light; an aperture diaphragm for receiving the modulated light from an off-axis mirror segment; and a refractive lens group for focusing the modulated light on the substrate.
基板上に像を形成するために用いられる変調された光を処理するためのリソグラフィツール内で使用される投影システムであって、変調された光を受光するオフアクシスミラーセグメントと、オフアクシスミラーセグメントから変調された光を受光する開口絞りと、変調された光を基板上に焦点合わせする屈折レンズグループを有する、ことを特徴とする、リソグラフィツール内で使用される投影システム。 - 特許庁 - To provide a wafer transfer robot equipped with a wafer alignment/orientation flat alignment mechanism, having a simple structure using a mechanism and a control system inherent to a general wafer transfer robot without the need to provide a sensor unit mounting part, and to provide a substrate processing apparatus equipped with the wafer transfer robot.
ウェハーアライメント・オリフラ合わせ機構を備えるウェハー搬送ロボットであり、ウェハー搬送ロボットの本来有する機構および制御系を利用して当該機構を簡素に構成でき、センサユニット取付け部を配置する必要のないウェハー搬送ロボット、及び、ウェハー搬送ロボットを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - An image processing section 51 determines a position relationship between a region within guarantee or a region out of guarantee set beforehand to a reference image considering positional deviation caused by the movement of "a substrate 1" or "an imaging optical system 3 and an imaging device 4," and a feature pattern or a measuring region set to a control device 5.
画像処理部５１は「基板１」または「撮像光学系３および撮像装置４」の移動によって生じる位置ずれを考慮して参照用画像に予め設定されている保証内領域または保証外領域と、制御装置５に設定された特徴パターンまたは測定領域との位置関係を判定する。 - 特許庁 - Upon flattening the insulating plate 12 with a resist in the above method of processing a substrate, the insulating plate 12 with a resist is pressed to the exposure conveying board 13 by using the weight of the light transmitting plate 14 without requiring a conventional means of supplying high pressure air, and the system can be much simplified.
また、この基板の加工方法では、レジスト付絶縁板１２の平坦化にあたり、光透過板１４の自重を利用してレジスト付絶縁板１２を露光用搬送板１３側に押し付けるので、従来のように高圧空気を供給する手段は不要であり、構成を極めて簡単化できる。 - 特許庁 - To provide a conveyance control system for cassettes in process that suppresses increase of a capacity of a stacker facility in a color filter manufacturing process, a liquid crystal display panel manufacturing process, and a semiconductor manufacturing process, reduces a substrate waiting time of a processing device in each manufacturing process, and cuts down a facility cost and a material cost.
カラーフィルタ製造工程、液晶表示パネル製造工程、及び半導体製造工程におけるストッカ設備の容積の増大を抑制し、前記各製造工程に置ける処理装置の基板待ち時間を減らし、設備費用や材料費を削減する仕掛りカセット搬送制御システムを提供する。 - 特許庁 - In the prober 11, a travel control stage 111 for placing a wafer WF and a probe card 112, and a circuit substrate 113 for signal relay are arranged to test a probe via a tester body 13 where a test system related to the generation and analysis of a test signal is constructed, and a test head 12 for processing the transmission of a signal.
プローバー１１は、ウェハＷＦを載置する移動制御ステージ１１１及びプローブカード１１２、信号中継用の回路基材１１３を配備し、試験信号の生成、解析に関係するテストシステムが構築されたテスター本体１３と、信号伝達を処理するテストヘッド１２を介してプローブ試験が行える。 - 特許庁 - To provide a conveyance system capable of switching sheet conveyance and piling one, according to the situation of a processing device side by providing the sheet conveyance for conveying trays for stacking substrates one by one and a section for piling them up, and freely conveying trays in a conveyance path in the process of a liquid crystal substrate, or the like.
液晶基板などの工程内搬送経路に、基板を載せたトレイを１枚ずつ搬送する枚葉搬送と、トレイを積層して搬送する積層搬送の双方が自在な区間を設け、処理装置側の状況に応じて、枚葉搬送と積層搬送とを切り換えることのできる搬送システムを提供する。 - 特許庁 - In the method of printing a pattern part on a substrate by an inkjet system using an ink containing a catalyst and drying it, and forming the metal pattern by electroless plating processing on the pattern part, the catalyst is a soluble palladium metal complex, the ink containing the catalyst has a pH of 10.0-14.0, and the printed pattern part before the electroless plating processing has a surface roughness Ra of 30 to 45 nm.
基板の上に、触媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字、乾燥し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する方法において、該触媒が可溶性パラジウム金属錯体でかつ該触媒を含有するインクｐＨが１０．０〜１４．０であり、前記無電解めっき処理前の印字パターン部の表面粗さＲａが３０ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 - 特許庁 - A particle image processor 1 of this particle image analytical system 100 includes an image processing substrate 1b for generating a partial image containing a particle image extracted from the picked-up whole image, and image information containing positional information of the partial image, and a USB interface 62 for transmitting the partial image and the image information.
この粒子画像分析システム１００の粒子画像処理装置１は、撮像された全体画像から抽出した粒子画像を含む部分画像と、部分画像の位置情報を含む画像情報とを生成する画像処理基板１ｂと、部分画像と画像情報とを画像データ分析装置２に送信するためのＵＳＢインタフェース６２とを含む。 - 特許庁 - The weaving system 1 includes a creel 4 rotatably holding many bobbins 3 wound with yarns 2, an intermediate machine 5 pulling the yarns from the creel 4, a substrate processing machine 6 for the yarns 2, an ink-jet machine 7 as a means for dyeing the yarns 2, a means 8 for fixing ink, and a jacquard loom 9 for weaving the yarns 2.
製織システム１は、糸２が巻かれた多数のボビン３を回転自在に保持するクリル４と、クリル４から糸を引っ張ってくる中間機５と、糸２の下地加工を行う下地加工機６と、糸２の染色を行う染色手段であるインクジェット機７と、インクを定着させる定着手段８と、糸２を織るジャカード織機９とからなる。 - 特許庁 - In an SiP which constitutes a processing system for portable telephone by mounting a microcomputer chip 2 flip-chip mounted on a main plane of a wiring substrate 5 and a memory chip 3 mounted on the rear side thereof in the same sealing body, pads CP1, CP2 for clock signal are arranged in both sides located mutually in the opposite side of the main plane of the microcomputer chip 2.
配線基板５の主面上にフリップチップ実装されたマイコンチップ２と、その裏面上に搭載されたメモリチップ３とを同一封止体内に混載させて、携帯電話用の処理システムを構築したＳｉＰにおいて、マイコンチップ２の主面の互いに反対側に位置する両辺側に、クロック信号用のパッドＣＰ１，ＣＰ２を配置した。 - 特許庁 - The semiconductor manufacturing device management system for managing the processing characteristics of the substrate comprises: analysis means 13 for extracting a protruding position of trend chart data for the control parameters; condition setting means 12 for setting determination conditions of a protrusion degree to be extracted; and storage means 14 for storing protrusion data and the like matching the determination conditions.
基板の処理特性を管理する半導体製造装置管理システムであって、制御パラメータのトレンドチャートデータの突出位置を抽出する解析手段１３と、抽出すべき突出度合いの判定条件を設定する条件設定手段１２と、判定条件に一致する突出データ等を保存する保存手段１４とを備える。 - 特許庁 - To provide a plasma processing system capable of improving adhesion between slot bodies having a number of slot holes comprising conductors and dielectric arranged on the opposite side of a microwave radiation plane of the slot bodies, improving radiation efficiency and uniformity of microwave, radiating plasma for a long time, and coping with the substrate to be processed of a large area.
導体からなる多数のスロット孔を有するスロット体と、このスロット体のマイクロ波放射面と反対側に設けられている誘電体との密着性を良くして、マイクロ波の放射効率と均一性の向上を図ることができ、長時間のプラズマ放電が可能で、大面積の被処理基板に対応することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a CAD system for electronic circuit board design which can accurately grasp or check the conductive situation of a wiring part such as connection of plating wiring and a side face metallization layer with simple processing and also has a function capable of smoothly and simply changing its set content in accordance with an inspection target and the difference of a substrate type, etc.
メッキ線と側面メタライズ層との接合など、配線部の導通状況の把握あるいはチェックを簡単な処理により正確に行うことができ、しかも検査目的や基板品種の違い等に応じてその設定内容を柔軟かつ簡単に変更できる機能を有した電子回路基板設計用ＣＡＤシステムを提供する。 - 特許庁 - A plasma enhanced CVD system for processing one or more flat panel display substrate comprises a process chamber 133 arranged to contain gas, a residual gas analyzer 63 arranged to analyze and feed back gas in the process chamber, and a controller 250 for monitoring feedback from the gas analyzer.
１枚以上のフラットパネルディスプレイ基板を処理するためのプラズマ増強型化学気相堆積システムであって、ガスを含有するように構成されたプロセスチャンバ１３３と、プロセスチャンバ内のガスを分析するとともにフィードバックをするように構成された残留ガス分析器６３と、ガス分析器からのフィードバックをモニタするためのコントローラ２５０を備えている。 - 特許庁 - This electrode degradation preventing system comprises an electrode 12 which is provided in a reaction chamber 10 of an etching device and supports a substrate 26 to be etched and has a plurality of openings 24, and a gas line 122 for supplying a gas passing through respective openings 24 to prevent the adherence of the deposited materials onto the openings 24 during the pre-process or post-process of the etching processing.
電極部劣化防止機構は、エッチング装置の反応室１０に設けられる電極部であって、エッチング処理される基板２６を支持するとともに、開口部２４を複数有する電極部１２と、エッチング処理の前工程または後工程における、開口部２４に対する堆積物の付着を防止するため、開口部２４のそれぞれに通気されるガスを供給するためのガスライン１２２とを具える。 - 特許庁 - To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.
本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a means for efficiently transferring a plurality of exposure patterns by exposure by a single apparatus employing a scanning exposure system, in particular, to provide an exposure apparatus for successively processing a color filter substrate having two color filter patterns of different types by a single scanning exposure apparatus over different two color processes without interruption, and to provide an exposure method for patterns of different types by using the apparatus.
スキャン露光方式において、複数の露光パターンを１台の装置で効率良く露光するための手段を提供することであり、特に、異種の２つのカラーフィルタパターンを有するカラーフィルタ基板を、異なる２つの色工程にまたがって、１台のスキャン露光装置により停滞無く引き続いて処理するための露光装置及びそれを用いた異種パターンの露光方法を提供すること。 - 特許庁 - The reaction pipe 203 is detached from the substrate processing system and washed or stored while the opening end part 300 of the pipe 275 is lidded with a cap 302.
基板を収容し処理する空間を形成する反応管２０３と、前記反応管２０３内に前記反応管２０３の外部から内部へ前記反応管２０３を構成する壁を貫通して延在する管２７５と、を有する基板処理装置であって、前記反応管２０３を前記基板処理装置から取り外して洗浄する場合、又は保管する場合は、前記管２７５の開口端部３００をキャップ３０２にて蓋した状態で洗浄、又は保管する様にした。 - 特許庁
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