「substrate processing system」を含む例文一覧(694)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 13 14 次へ＞- SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
基板搬送装置、基板搬送方法、基板処理システム及び露光方法並びにデバイスの製造方法 - 特許庁 - To provide a substrate conveyance device, a substrate conveyance method, a substrate processing system or a substrate processing method capable of accurately inspecting or processing a substrate and improving a tact time in a substrate processing device having multiple processing units.
本発明は、複数の処理ユニット有する基板処理装置において、基板を精度良く検査或いは処理でき、タクトタイムを向上できる基板搬送装置または基板搬送方法あるいは基板処理システムまたは基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - ADJUSTING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, MEASUREMENT CHECKING DEVICE, MEASUREMENT CHECKING SYSTEM, PROCESSING DEVICE, COMPUTER SYSTEM, PROGRAM, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM
調整方法、基板処理方法、基板処理装置、露光装置、測定検査装置、測定検査システム、処理装置、コンピュータ・システム、プログラム及び情報記録媒体 - 特許庁 - The substrate processing system includes a controller 100 that transfers the substrate by using a transfer apparatus 32 or controls processing of the substrate in a processing apparatus 23.
基板処理システムは、搬送装置３２による基板の搬送や、処理装置２３における基板の処理の制御を行う制御装置１００を有している。 - 特許庁 - A system is disclosed in which the deformation of a substrate wafer is monitored during the processing of the substrate wafer.
基板ウェハの処理の間、基板ウェハの変形を監視するシステムが開示されている。 - 特許庁 - METHOD OF REDUCING TEMPERATURE OF SUBSTRATE PLACING TABLE, COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
基板載置台の降温方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体および基板処理システム - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSOR, DEVICE INFORMATION MANAGEMENT METHOD, PROGRAM AND RECORDING MEDIUM
基板処理システム、基板処理装置、装置情報管理方法、プログラム及び記録媒体 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSOR, METHOD FOR ACQUIRING ADDITIONAL INFORMATION, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
基板処理システム、基板処理装置、追加情報取得方法、プログラム及び記録媒体 - 特許庁 - SUBSTRATE TRANSPORT DEVICE, ITS WASHING METHOD, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND ITS WASHING METHOD
基板搬送装置及びその洗浄方法、並びに基板処理システム及びその洗浄方法 - 特許庁 - To reduce the manufacturing cost of a substrate processing system by inexpensively manufacturing a substrate carrying device.
基板の搬送装置を安価に製造し、基板処理システムの製造コストを低廉化する。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING METHOD, RECORDING MEDIUM RECORDING PROGRAM FOR PERFORMING THE SAME AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理システム - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus for processing a substrate in the levitation transfer system of simple, low-cost structure.
簡易、低コストの構成で浮上搬送式の基板処理を行うようにした基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - SYSTEM FOR OPENING AND CLOSING LID OF HERMETICALLY CLOSED CONTAINER, AND METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE USING THE SYSTEM
密閉容器の蓋開閉システム及び当該システムを用いた基板処理方法 - 特許庁 - The semiconductor substrate processing system includes an enclosure for containing a semiconductor processing gas.
半導体基板処理システムは、半導体処理ガスを封じ込めるためのエンクロージャを含む。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE
基板処理方法及び基板処理システム、並びにデバイス製造方法 - 特許庁 - To provide a processing system suitable for manufacturing an SOI (silicon on insulator) substrate, etc.
ＳＯＩ基板の製造等に好適な処理システムを提供する。 - 特許庁 - EXPOSURE APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, LITHOGRAPHY SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
露光装置、基板処理装置、リソグラフィーシステムおよびデバイス製造方法 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM OF PROCESSING SUBSTRATE USING SUPERCRITICAL FLUID
超臨界流体を使用して基板を処理する方法およびシステム - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING SYSTEM OF DNA CHIP, DETECTION METHOD AND DETECTION SYSTEM OF HYBRIDIZATION, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
ＤＮＡチップの製造方法と製造システム、ハイブリダイゼーション検出方法と検出システム、並びに基板処理装置と基板処理方法 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR MANUFACTURING EQUIPMENT, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
半導体製造装置、半導体製造システム及び基板処理方法 - 特許庁 - ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING MEMBER, ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
電磁波遮蔽部材、電磁波遮蔽方法、及び基板処理システム - 特許庁 - To provide a substrate dryer in which poor processing of a substrate can be prevented sufficiently, and to provide a substrate processing system with the same.
基板の処理不良を十分に防止できる基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理システムを提供することである。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing system capable of highly accurately controlling the line width of a pattern formed on a substrate.
基板に形成するパターンの線幅を精度よく制御することができる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system and a method for improving throughput in a multichamber type substrate processing system in which one or more of single-stage or two-stage substrate processing chambers can be mixed.
１段式又は２段式の１以上の基板処理チャンバが混在し得るマルチチャンバ型の基板処理システムにおいて，スループットを向上させる基板処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor substrate processing system and a semiconductor substrate processing method, wherein the corrosion resistance of semiconductor processing equipment is improved.
半導体処理装置の耐食性を向上させる、半導体基板処理システム及び半導体基板を処理する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system which is capable of shortening a processing cycle by simplifying a system configuration.
システム構成を簡略化し、処理タクトを短縮化することが可能な基板処理システムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for processing a substrate with at least a part of the substrate processing system, a device and a computer product.
基板加工システムの少なくとも一部で基板を加工するための方法、装置、及びコンピュータ製品を提供する。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM SOLAR CELL, THIN-FILM SOLAR CELL MANUFACTURING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF PROCESSING FLEXIBLE SUBSTRATE
薄膜太陽電池の製造方法、薄膜太陽電池製造システム、基板加工装置、及び可撓性基板の加工方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, VERIFICATION PROGRAM AND RECORDING MEDIUM READABLE BY COMPUTER WITH VERIFICATION PROGRAM RECORDED THEREON
基板処理システム、基板処理方法、検証プログラム及び検証プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - To provide a processing system which can process a substrate efficiently.
基板を効率的に処理することができる処理システムを提供する。 - 特許庁 - CLEANING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, CLEANING METHOD, PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM
洗浄装置、基板処理システム、洗浄方法、プログラムおよび記憶媒体 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING METHOD, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM, ALIGNER, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
基板処理方法、デバイス製造システム、露光装置、及びデバイス製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, APPARATUS AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE
半導体装置の製造方法、基板処理装置および基板処理システム - 特許庁 - The substrate processing system includes a plurality of process facilities and a buffer station.
基板処理システムは、複数の工程設備とバッファーステーションとを有する。 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS OF SETTING GAS, ETCHING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
ガス設定方法，ガス設定装置，エッチング装置及び基板処理システム - 特許庁 - REMOVING DEVICE, PROTECTIVE FILM FORMING DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND REMOVING METHOD
除去装置、保護膜形成装置、基板処理システム、および除去方法 - 特許庁 - To easily manage a mask and substrate even in a substrate processing system of small scale.
小規模の基板処理システムにおいてもマスク及び基板の管理を容易に行えるようにする。 - 特許庁 - POSITIONING METHOD FOR SUBSTRATE CONVEYANCE POSITION, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
基板搬送位置の位置合わせ方法、基板処理システムおよびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁 - To provide an undefined substrate support system for processing an undefined substrate in the same facility.
不定形基板を同一設備で処理することができる不定形基板サポートシステムを提供する。 - 特許庁 - TEMPERATURE CONTROLLED SUBSTRATE HOLDER HAVING EROSION RESISTANT INSULATING LAYER USED FOR SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
基板処理システムに用いられる耐浸食性絶縁層を有する温度制御された基板ホルダ - 特許庁 - To provide a substrate processing system which improves throughput and controls processing timing.
スループットを向上させ、処理タイミングを管理することができる基板処理システムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate cartridge for preventing attachment of foreign matter on a substrate, and to provide a substrate processing apparatus, a substrate processing system, a control apparatus, and a method of manufacturing a display element.
基板に異物が付着するのを防ぐことができる基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、制御装置及び表示素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus, together with a substrate processing system comprising the same, capable of applying a prescribed substrate rotation process with a substrate with high productivity.
優れた生産性で基板に対して所定の回転基板処理を施すことができる基板処理システムおよび該装置を備える基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - The substrate processing system includes at least one substrate processing device 10 for processing a substrate and a group control device 20 connected to the substrate processing device; and in this system, the group control device monitors the operating state of the substrate processing device to grasp timing for update of a program of the substrate processing device, and updates the program, when the timing is reached.
基板を処理する少なくとも１台以上の基板処理装置１０と、基板処理装置に接続される郡管理装置２０と、を備える基板処理システムにおいて、郡管理装置が、基板処理装置の稼動状態を監視することにより基板処理装置のプログラムをアップデートするタイミングを把握し、タイミングに達したらプログラムをアップデートする。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system in which processing gas is prevented from leaking to the outside of the system during the operation.
基板処理中における基板処理装置外への処理ガスの漏れを防止する基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR TRANSPORTING SUBSTRATE CARRIERS OF SMALL LOT SIZE BETWEEN PROCESSING TOOLS
処理ツール間で小ロットサイズの基板キャリヤを移送するシステムおよび方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, VERIFICATION DEVICE AND OPERATION VERIFICATION METHOD FOR VERIFICATION DEVICE
基板処理システム、検証装置および検証装置の動作検証方法 - 特許庁 - RUNNING STATE MONITORING METHOD, RUNNING STATE MONITOR, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
稼動状態監視方法、稼動状態監視装置及び基板処理システム - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR MEASURING OZONE GAS CONCENTRATION AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
オゾンガス濃度測定方法、オゾンガス濃度測定システム及び基板処理装置 - 特許庁 - To provide a substrate processor and a substrate processing system capable of effectively preventing the adhesion of mist generated in processing to the other main surface of a substrate and effectively performing substrate processing.
処理中に発生したミストが基板の他方主面に付着することを効果的に防止して基板処理を良好に行うことができる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁
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