「substrate processing system」を含む例文一覧(694)

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  • SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, MANAGEMENT APPARATUS AND DATA ANALYSIS METHOD
    基板処理システム、管理装置、及びデータ解析方法 - 特許庁
  • SUBSTRATE PROCESSING PROCESS, EQUIPMENT AND SYSTEM
    基板処理方法、基板処理装置および基板処理システム - 特許庁
  • METHOD, EQUIPMENT, AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE
    基板処理方法、基板処理装置および基板処理システム - 特許庁
  • EDGE EXPOSURE SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT HAVING THE SAME
    エッジ露光装置およびそれを備える基板処理装置 - 特許庁
  • CONVEYANCE DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND ATTITUDE CONTROL MECHANISM
    搬送装置、基板処理システム及び姿勢制御機構 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE, AND STORAGE MEDIUM
    基板処理システム、基板処理方法、及び記憶媒体 - 特許庁
  • SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, APPARATUS AND METHOD OF MANAGING PALLET
    基板加工処理システム、パレット管理装置および方法 - 特許庁
  • SYSTEM, APPARATUS AND METHOD FOR SUBSTRATE PROCESSING
    基板処理システム、基板処理装置、および基板処理方法 - 特許庁
  • METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    半導体装置の製造方法および基板処理システム - 特許庁
  • The substrate processing system 1 includes a substrate processing device 12, a processing liquid regenerating device 30 and a new liquid supply device 70.
    基板処理システム1は、基板処理装置12、処理液再生装置30及び新液供給装置70を備える。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system easy in handling, a substrate processing device, and the managing method of the substrate processing system by managing the substrate processing device, so as to be easily understood by a user when the arranging conditions of the substrate processing units are different in respective substrate processing devices.
    各基板処理装置間で基板処理ユニットの配置状況が異なる場合に、基板処理装置をユーザーに分かり易く管理することによって、取り扱いの容易な基板処理システム、基板処理装置、および基板処理システムの管理方法を提供する。 - 特許庁
  • CHEMICAL OR PURE WATER SUPPLY DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE OR METHOD
    薬液または純水供給装置、基板処理システム、基板処理装置または基板処理方法 - 特許庁
  • The substrate processing system 500 comprises substrate processing equipment 300 and a cleaner/dryer 400.
    基板処理システム500は、基板処理装置300および洗浄/乾燥装置400を含む。 - 特許庁
  • MEMBER FOR SUPPORTING SUBSTRATE, AND UNIT, METHOD AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE
    基板支持部材、基板処理装置、基板処理方法および基板処理システム - 特許庁
  • SUBSTRATE SUPPORTING MECHANISM, RESIN APPLYING DEVICE, RESIN CURING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    基板支持機構、樹脂塗布装置、樹脂硬化装置および基板処理システム - 特許庁
  • MISREGISTRATION INSPECTION MECHANISM OF SUBSTRATE, PROCESSING SYSTEM, AND MISREGISTRATION INSPECTION METHOD OF SUBSTRATE
    基板の位置ずれ検査機構,処理システム及び基板の位置ずれ検査方法 - 特許庁
  • To provide a heat-up control method, a program, a computer record medium, and a substrate processing system of a heater for a substrate processing system, which can maintain the balance among the line currents of each phase of a three-phase AC power supply when heating up a heater of a substrate processing system while preventing the operating hours of a substrate processing system from getting long.
    基板処理システムの加熱装置を昇温するにあたり、三相交流電源の各相の線間電流の平衡を維持しつつ、基板処理システムの起動時間が長くなることを防止する。 - 特許庁
  • DETERMINING METHOD FOR SUBSTRATE HOLDING CAPABILITY, SUBSTRATE CONVEYANCE SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM
    基板保持能力の判定方法、基板搬送システム、基板処理システムおよびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁
  • SUBSTRATE PROCESSING METHOD, RECORDING MEDIUM RECORDING PROGRAM FOR PERFORMING THAT METHOD, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体、基板処理装置及び基板処理システム - 特許庁
  • TEMPERATURE REGULATOR, TEMPERATURE REGULATION SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
    温度調整器、温度調整システムおよび基板処理装置 - 特許庁
  • PROCESSING SYSTEM, AND DEVICE AND METHOD FOR TRANSPORTING SUBSTRATE
    処理システム及び基板搬送装置及び基板搬送方法 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR SYNCHRONIZING SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    基板処理システムを同期化させるための方法及び装置 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE SYSTEM
    半導体装置の製造方法及び基板処理装置システム - 特許庁
  • SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND ITS CONTROLLER, AND RECIPE DISPLAY METHOD
    基板処理システム、その制御装置、及びレシピ表示方法 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system in which a group control system and a statistically analyzing system are integrated.
    群管理システムと統計解析システムとが統合された基板処理システムを提供する。 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC DEFLECTING SYSTEM, ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SUBSTRATE
    静電偏向器及び電子線照射装置及び基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法 - 特許庁
  • SUBSTRATE PROCESSOR, TEMPERATURE CONTROL METHOD THEREOF, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    基板処理装置の温度制御方法、基板処理装置および基板処理システム - 特許庁
  • To provide a plasma processing system and a method for processing a substrate using a heat transfer system.
    熱伝達システムを使用して基板を処理するプラズマ処理システムおよび方法を提供する。 - 特許庁
  • LID OPENING/CLOSING SYSTEM, AND METHOD FOR PROCESSING TRANSPARENT SUBSTRATE USING THE SYSTEM
    蓋開閉システム及び当該システムを用いた透明基板の処理方法 - 特許庁
  • JOINING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, JOINING METHOD, PROGRAM, AND COMPUTER STORAGE MEDIUM
    接合システム、基板処理システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system capable of further reducing a running cost in substrate processing and waste fluid processing.
    基板処理および廃液処理におけるランニングコストの低減をさらに図ることが可能な基板処理システムを提供する。 - 特許庁
  • To improve processing uniformity of a plasma processing system to process a substrate.
    基板を処理するためのプラズマ処理システムの処理の均一性を改善する。 - 特許庁
  • To provide a substrate cartridge, a substrate processing device, a substrate processing system, a substrate processing method, a control device and a method of manufacturing a display element, for performing efficient processing to a substrate.
    基板に対して効率的な処理を行うことを可能とする基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、基板処理方法、制御装置及び表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • METHOD OF CLEANING POWDERY SOURCE SUPPLY SCHEME, STORAGE MEDIUM, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
    粉体状ソース供給系の洗浄方法、記憶媒体、基板処理システム及び基板処理方法 - 特許庁
  • The substrate processing system 1 comprises a substrate processing apparatus 10, a host computer 12, and a communication link 14.
    基板処理システム1は、基板処理装置10、ホストコンピュータ12及び通信回線14とを有する。 - 特許庁
  • To provide substrate processing equipment, capable of forming a good application film on a substrate by sprayed and supplied processing liquid, and to provide a substrate processing system, and a substrate processing method.
    噴霧供給された処理液によって、基板上に良好な塗布膜を形成することができる基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system and a substrate processing method that allow the execution of very uniform substrate processing to each substrate even when continuously processing a plurality of substrates.
    複数の基板を連続的に処理した場合であっても、各基板に対して極めて均一な基板処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate receiving device capable of making a substrate processing system more compact.
    基板処理システムの小型化を図ることができる基板受入装置を提供する。 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC CHUCKING SYSTEM, SUBSTRATE-CONVEYING DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE-HOLDING METHOD
    静電吸着装置、基板搬送装置、真空処理装置及び基板保持方法 - 特許庁
  • METHOD, EQUIPMENT, AND SYSTEM FOR SUBSTRATE PROCESSING
    基板処理方法および基板処理装置ならびに基板処理システム - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE WITH DETACHABLE MASK
    取り外し可能なマスクを用いる基板処理システム及び方法 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system capable of utilizing mapping information.
    マッピング情報を活用できる基板処理システムを提供する。 - 特許庁
  • PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    パターン描画装置、パターン描画方法、および基板処理システム - 特許庁
  • DEVICE FOR MEASURING THICKNESS OF FILM AND SYSTEM FOR PROCESSING SUBSTRATE USING THE SAME
    膜厚測定装置およびそれを用いた基板処理装置 - 特許庁
  • RELAY STATION AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM USING THE SAME
    中継ステーション及び中継ステーションを用いた基板処理システム - 特許庁
  • INFORMATION MANAGEMENT METHOD, INFORMATION MANAGEMENT DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
    情報管理方法、情報管理装置及び基板処理システム - 特許庁
  • The substrate processing system includes a group management server and the terminal device.
    基板処理システムは、群管理サーバ及び端末装置を有する。 - 特許庁
  • MAGNETIC CLIP AND SUBSTRATE HOLDER FOR USE IN PLASMA PROCESSING SYSTEM
    プラズマ加工システムにおいて使用する磁気クリップ及び基板ホルダー - 特許庁
  • DOCKING TYPE SUBSTRATE TRANSFER AND PROCESSING SYSTEM, AND TRANSFER AND PROCESSING METHOD USING THE SAME
    ドッキング型基板移送及び処理システムと、それを利用した移送及び処理方法 - 特許庁
  • To provide a substrate processing system capable of coating the inside of a processing furnace entirely.
    処理炉内部全体をコーティングすることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
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