「substrate processing system」を含む例文一覧(694)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 13 14 次へ＞- To provide a substrate processing system and a substrate processing method capable of efficiently removing a chemical liquid for stripping and saving a manufacturing cost.
ストリップ薬液を効率的に除去して、製造原価を節減することができる基板処理システム及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a load lock device capable of rapidly increasing the degree of vacuum, and a substrate processing apparatus and a substrate processing system equipped with the same.
迅速に真空度を上昇させることが可能なロードロック装置、それを備えた基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and a method of opening/closing a process space inside the substrate processing apparatus that utilizes a simple opening/closing system.
単純な開閉方式を利用する基板処理装置及び基板処理装置内部の工程空間を開閉する方法を提供する。 - 特許庁 - To quickly and highly precisely transfer a substrate to a predetermined location with respect to a mount table in a processing chamber while simplifying the structure of a substrate processing system.
基板処理システムの構成を簡素化しつつ、処理チャンバ内の載置台に対して基板を所定位置に高精度かつ迅速に搬送する。 - 特許庁 - A substrate processing system comprises a substrate processing apparatus 1 having a composite processor including an indexer 2 or the like, and two exposure apparatuses 101, 102.
基板処理システムは、インデクサー部２等を含む複合処理部をもつ基板処理装置１と２つの露光装置１０１，１０２とを備えている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system capable of reducing an amount of collected data which are transmitted from a substrate processing apparatus and stored in a database.
基板処理装置から送信されデータベースに格納される収集データの量を低減することができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - A substrate processing system 10 includes a substrate processing chamber 102, a hoop LP and a front storage FST for storing substrates, and an atmospheric carrying chamber coupling the substrate processing chamber to the hoop and front storage.
基板処理システム１０は、基板処理室１０２、基板を収納するフープＬＰ及びフロントストレージＦＳＴ、基板処理室とフープ及びフロントストレージとを連結する大気搬送室ＴＭを有する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system and a dark room for substrate processing by which photochemical reaction during processing of a substrate can be sufficiently prevented without complicating a constitution, control, and manufacturing processes.
構成、制御および製造工程を複雑化することなく、基板の処理時における光化学反応を十分に防止することができる基板処理システムおよび基板処理用暗室を提供する。 - 特許庁 - To provide a device and a system for processing a substrate of superior versatility by which a specified substrate processing is performed while positioning the substrate to a desired processing position.
優れた汎用性を有し、しかも基板を所望の基板処理位置に位置決めしながら、該基板に対して所定の基板処理を施すことができる基板処理装置および基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - LID OPENING/CLOSING SYSTEM OF SEALED CONTAINER, STORED OBJECT TAKE-IN/OUT SYSTEM INCLUDING LID OPENING/CLOSING SYSTEM, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD USING LID OPENING/CLOSING SYSTEM
密閉容器の蓋開閉システム、当該蓋開閉システムを含む収容物挿脱システム、及び当該蓋開閉システムを用いた基板処理方法 - 特許庁 - To provide a substrate-processing system, a substrate-detecting apparatus and a substrate detection method, capable of shortening the substrate detection time, and thereby improving the throughput of the processing of substrates.
基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法を提供する。 - 特許庁 - MASS FLOW CONTROLLER, MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND GAS FLOW RATE ADJUSTMENT METHOD
マスフローコントローラ、マスフローコントローラシステム、基板処理装置およびガス流量調整方法 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE
基板処理装置、露光用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To provide a processing system and a method for chemical treatment of a substrate.
基板を化学的に処理するための処理システムおよび方法を提供することである。 - 特許庁 - To increase a throughput by reducing the transfer time of a substrate in a plasma processing system.
プラズマ処理装置において、基板搬送時間の低減によるスループット向上を図る。 - 特許庁 - To provide a processing system and a method for chemical treatment of a substrate.
基板を化学的に処理するための処理システムおよび方法を提供することである。 - 特許庁 - SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, PROGRAM, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREIN
基板の処理システム，プログラム及びプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - In the exposure system 17, the exposure processing of the substrate W is performed by an immersion method.
露光装置１７においては、液浸法により基板Ｗの露光処理が行われる。 - 特許庁 - To provide a method and a system for processing a substrate using supercritical fluid.
超臨界流体を使用して基板を処理するための方法およびシステムを提供する。 - 特許庁 - REWORK METHOD FOR RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
レジスト膜のリワーク方法および半導体装置の製造方法ならびに基板処理システム - 特許庁 - SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM, PROGRAM, AND STORAGE MEDIUM
半導体装置の製造方法、半導体装置、基板処理システム、プログラム及び記憶媒体。 - 特許庁 - To provide a technique for facilitating substrate transfer between modules of a semiconductor processing system.
半導体処理システムのモジュール間の基板搬送を容易にする技術を提供する。 - 特許庁 - Then, at the time of the redundant switching processing, the standby system substrate itself selects the time slot of the active system substrate to be a switching origin.
そして、冗長切替処理の際には、待機系基板自身が切替え元となる運用系基板のタイムスロットを選択するようにする。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus is provided with a processing chamber 201 that supplies a plurality of processing gases alternately to process a wafer 200 as a substrate, and an exhaust system 250 to exhaust an atmosphere within the processing chamber 201.
基板処理装置は、複数の処理ガスを交互に供給して基板としてのウェハ２００を処理する処理室２０１と、処理室２０１内の雰囲気を排気する排気系２５０とを備える。 - 特許庁 - WORK MACHINE AGAINST SUBSTRATE, WORK HEAD THEREFOR, WORK SYSTEM AGAINST SUBSTRATE AND WORK HEAD USE PREPARATION PROCESSING PROGRAM FOR WORK MACHINE AGAINST SUBSTRATE
対基板作業機、対基板作業機用作業ヘッド、対基板作業システムおよび対基板作業機用作業ヘッド使用準備処理プログラム - 特許庁 - The substrate transporting system is provided with a robot 1, and a substrate carrying out and in means 4, and a substrate processing apparatus 5 are arranged around the robot 1.
本発明の基板搬送システムはロボット１を備え、その周囲に基板搬出入手段4及び基板処理装置5が配置される。 - 特許庁 - INSPECTION SYSTEM FOR SUBSTRATE PROCESSING PROCESS APPARATUS, SENSOR FOR INSPECTION SYSTEM AND INSPECTION METHOD FOR PROCESS APPARATUS
基板を処理するプロセス装置の検査システム、およびこの検査システムのためのセンサ、ならびにプロセス装置の検査方法 - 特許庁 - To provide a substrate transfer apparatus, substrate processing system and substrate transfer method capable of preventing deterioration in productivity associated with substrate transfer, and to provide a device manufacturing method.
基板搬送に伴う生産性の低下を抑制できる基板搬送装置、基板処理システム及び基板搬送方法並びにデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus for which a user can easily modify parameters to be run to do processing for a substrate, to provide a parameter management system for the substrate processing apparatus, to provide a parameter management method for the substrate processing apparatus, to provide a program, and to provide storage media.
本発明の目的は、基板に対する処理を実行するためのパラメータをユーザが容易に変更することができる基板処理装置、基板処理装置のパラメータ管理装置、基板処理装置のパラメータ、プログラム、及び記憶媒体を提供することある。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system for preventing formation of a natural oxide film on the surface of the substrate and for realizing higher throughput.
基板表面における自然酸化膜形成を防止し、且つ高スループット化が可能な基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of preventing contamination in an exposure system that is caused by contamination at the end of a substrate.
基板の端部の汚染に起因する露光装置内の汚染を防止できる基板処理装置を提供することである。 - 特許庁 - The substrate processing system 10 is provided with the substrate processor 1 and a support computer 3 respectively connected to a network 6.
基板処理システム１０は、基板処理装置１とサポートコンピュータ３とを備え、それぞれネットワーク６に接続される。 - 特許庁 - To obtain a system for processing a substrate in which cooling efficiency and processing speed of a heated substrate are enhanced and effective cooling is ensured even under atmospheric pressure or reduced pressure.
加熱された基板の冷却効率並びに処理速度の向上を図ると共に、大気圧下又は減圧下にあっても有効に冷却を行うこと - 特許庁 - To provide a spin processing system in which processing liquid, scattered from a substrate, is prevented from changing the flowing direction and adhering to the substrate.
この発明は基板から飛散する処理液が流れ方向を変えて基板に再付着するのを防止するようにしたスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a temperature control device capable of reducing costs required for managing temperature of a substrate processing apparatus, and to provide a substrate processing system with the temperature control device.
基板処理装置の温度管理に要するコストを低減することができる温調装置およびそれを備えた基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - A method, computer readable medium, and system for treating a substrate in a process space of a processing system that is vacuum isolated from a transfer space of the processing system is described.
処理システムの移送空間から真空分離された処理システムの処理空間内で基板を処理するための方法、コンピュータ読み取り可能なメディアおよびシステムが示される。 - 特許庁 - The method and the system (100) are provided for processing a substrate (105) with a supercritical fluid by using high temperature processing.
基板（１０５）を高温処理を用いて超臨界流体によって処理する方法及びシステム（１００）を提供する。 - 特許庁 - Further, the film thickness measurement unit can be built as one processing unit of a substrate processing system.
しかも、上記したように膜厚測定ユニットＭＵを基板処理システムの一の処理ユニットとして組み込むことができる。 - 特許庁 - To provide a plasma processing system in which a plasma can be ignited under pressure conditions optimal for processing a substrate.
基板を処理するのに最適な圧力条件でプラズマの着火を行なうことができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - The substrate W can be processed by any one of a system for processing a plurality of sheets of substrate W collectively or a system for processing the substrates W sheet by sheet.
これにより、複数枚の基板Ｗを一括して処理する方式、または、基板Ｗを１枚ずつ処理する方式のいずれによっても、基板Ｗに処理を行うことができる。 - 特許庁 - A substrate processing system 100 comprising a processing line 2a performing a series of processing steps on substrates G being carried sequentially into a plurality of processing units arranged in the order of processing and performing a specified processing on the substrate G is provided with a mechanism 60 for taking out the substrate G from the processing line 2a.
基板Ｇに所定の処理を施す複数の処理ユニットが処理の順に配列され、これら複数の処理ユニットに基板Ｇを順次搬入して、基板Ｇに対して一連の処理を行う処理ライン２ａを具備する基板処理装置１００は、基板Ｇを処理ライン２ａから取り出す取り出し機構６０を具備する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system for coating surfaces of substrates to be processed with a film of a processing solution and forming a predetermined pattern on each substrate in cooperation of an exposure device, which system can coat the processing solution on each substrate uniformly and can increase a substrate processing throughput when cooperated with the exposure device.
被処理基板の表面に処理液の膜を塗布形成し、露光装置と連動して基板に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、各基板に処理液を均一に塗布することができ、露光装置と連動した際の基板処理のスループットを向上することのできる基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - A substrate processing system 1 includes a cleaning device 21, a resist application device 22, a periphery exposure device 23, a substrate transfer mechanism 30, and a system controller 10.
基板処理システム１は、洗浄装置２１、レジスト塗布装置２２、周辺露光装置２３、基板搬送機構３０及びシステムコントローラ１０を備える。 - 特許庁 - To shorten the time until exposure or a process starts, when a substrate stage moved between below a substrate processing system and below an exposure optical system.
基板ステージが基板処理系下方と露光用光学系下方との間で移動したときに、露光または処理を開始するまでの時間を短縮する。 - 特許庁 - To improve the yield of a product manufactured by a processing system for a substrate by suppressing sticking of particles on the substrate when the substrate is conveyed.
基板の搬送を行うにあたり、基板にパーティクルが付着することを抑制し、基板の処理システムで製造される製品の歩留まりを向上させる。 - 特許庁 - To provide a substrate support unit for supporting semiconductor substrates in a single wafer processing system, and to provide a substrate polishing apparatus using the substrate support unit to polish and clean substrates.
半導体基板を枚葉処理方式に支持する基板支持ユニットと、これを利用して基板を研磨、及び洗浄する基板研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing system enabling the easy maintenance of environment for processing a substrate and capable of remarkably increasing efficiencies for carrying a substrate and supplying a fluid by remarkably reducing an occupied space in a substrate processing area.
基板処理のための環境維持が容易なだけでなく、基板処理領域内での占有空間を大幅に減少させて、基板移送及び流体の供給効率を大幅に向上させることができる基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus, for scanning the substrate of a processing system.
本発明は一般に、処理システムの基板をスキャンするための方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a carrying system capable of partially cleaning suitable for sheet type substrate processing equipment.
枚様式の基板処理装置に適した局所クリーン化の可能な搬送システムを提供すること。 - 特許庁 - ELECTROSTATIC CHUCK FOR SUBSTRATE STAGE, ELECTRODE USED FOR SAME, AND PROCESSING SYSTEM HAVING THE CHUCK AND ELECTRODE
基板ステージ用静電チャック及びそれに用いる電極ならびにそれらを備えた処理システム - 特許庁
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