「surface layer」を含む例文一覧(49992)

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  • An optical sheet according to the present invention has a transparent conductive layer, a hard coat layer, a light diffusion layer, or a prism layer on one surface of the optical film.
    本発明の光学シートは、当該光学フィルムの一方の面に透明導電層、ハードコート層、光拡散層又はプリズム層を有する光学シートである。 - 特許庁
  • In the laminated film in which a layer A and a layer C are the surface layers and a layer B exists between both layers, each layer is constituted of each of the below described composition.
    A層及びC層を表面層とし、両層の間にB層が存在する積層フィルムであって、各層が下記の組成で構成される。 - 特許庁
  • Then, a p-type high-concentration halogen diffusion layer 15 is formed on the surface of the p-type well layer 11 between the n-type channel layer 12 and deep diffusion layer 14.
    そして、n型チャネル層12とディープ拡散層14間のp型ウェル層11表面に、p型高濃度ハロ拡散層15が形成されている。 - 特許庁
  • In this golf ball wherein the external layer cover is more rigid than the internal layer cover, on the internal surface of the external layer cover, protruding ribs 8 which enter the internal layer cover are formed.
    外層カバーが内層カバーより硬いゴルフボールにおいて、外層カバーの内表面に内層カバー内に侵入する凸型リブ8を形成する。 - 特許庁
  • A surface coating layer 13 which acts as a scent control layer is further disposed on the scent layer to control exudation of a perfume injected into the scent layer 12.
    さらに香り層の上に香り制御層になる表面コーティング層13を設けて香り層12に注入された香料の発散を制御する。 - 特許庁
  • The fixing roller 11 is formed by laminating three layers; a heat resistant rubber layer 6, i.e., a surface layer 1, an intermediate layer 2 and a base layer 3 on a core material.
    定着ローラ11では、芯材4上に3層の耐熱性ゴム層6すなわち表層1、中間層2及びベース層3を積層する。 - 特許庁
  • An insulating layer 12 is formed in advance in a major surface side of a first substrate 11 as a self stop layer, and thereafter a buffer layer 13 is formed on the insulating layer 12.
    第1の基体11の主面側に予めセルフストップ層として絶縁層12を形成し、その後、絶縁層12上にバッファー層13を形成する。 - 特許庁
  • The surface-emitting laser element 10 includes a first reflecting layer 12, an n-type spacer layer 13, an active layer 14, and a p-type spacer layer 15 that have been laminated sequentially.
    面発光レーザ素子10は、順次に積層された第1の反射層12、n型スペーサ層13、活性層14、およびp型スペーサ層15を有する。 - 特許庁
  • An upper metal layer 27 as a protective layer is formed on a top surface of a uppermost free layer 26 of the magnetoresistance effect layer forming a TMR device 2.
    TMR素子2を構成する磁気抵抗効果層の最上層のフリー層26の上面の上面に、保護膜として、上部金属層27を形成する。 - 特許庁
  • The alignment layer 3, the light selection reflecting pattern layer 4, the hologram formation layer 5 and the reflective layer 6 may be sequentially layered on one surface of the base material 2.
    基材2の片面に配向膜3、光選択反射パターン層4、ホログラム形成層5および反射性層6を順に積層したものでもよい。 - 特許庁
  • An outer layer board is laminated on the surface covering layer 6, and the conductive layer 9 of the outer layer board is subjected to a patterning treatment to form a required wiring pattern.
    そこで、表面被覆層6上に外層基板を積層し、この外層基板の導電層9に対して所要の配線パタ−ンニング処理を施す。 - 特許庁
  • An abrasive grain layer is constituted by arranging a ring-shaped first abrasive grain layer 24A, a second abrasive grain layer 24B, and a third abrasive grain layer 24C on one surface of base metal 22.
    台金22の一面にリング状の第一砥粒層24A,第二砥粒層24B,第三砥粒層24Cを設けて砥粒層を構成する。 - 特許庁
  • According to the method, on top of a bottom layer consisting of at least one fiber layer, a second fiber layer is fitted containing filler that forms the surface layer.
    該方法によれば、少なくとも1つの繊維層からなる下部層の上に、充填材を含み表面層を形成する第2の繊維層を取り付ける。 - 特許庁
  • The pressurizing roller is formed by laminating the adhesive layer, the base layer, the intermediate layer and the surface layer in this order like the fixing roller.
    加圧ローラでは、芯材である加圧軸の外周に、定着ローラと同様に接着剤層、ベース層、中間層及び表層をこの順に積層する。 - 特許庁
  • The graft polymer layer 6 is patterned so as to cover the ITO layer 3, and a Cu layer 6 is formed on a surface of the graft polymer layer 6 by plating processing.
    グラフトポリマー層6はITO層3の上を覆うようにパターニングされ、グラフトポリマー層6の表面にCu層6がメッキ処理によって形成される。 - 特許庁
  • A data layer includes a data layer substrate 11, and a data layer reflection film 12 as a semi-transmissive film laminated on the upper surface side of the data layer substrate 11.
    データ層は、データ層基板11、及び、データ層基板11の上面側に積層される半透過膜であるデータ層反射膜12を備える。 - 特許庁
  • A lower layer 31 functioning as a diffusion prevention layer is provided between an oxidation-resistant metal in an upper layer 32 and the surface layer of a multilayered film 20.
    上部層32の耐酸化性金属と多層膜20の表面層との間に拡散防止層として機能する下部層31を設けている。 - 特許庁
  • This conductive fine particle is composed of a base fine particle having a conductive layer wherein a nickel layer, a silver layer and a layer of a noble metal nobler than silver are sequentially formed on a surface thereof.
    表面にニッケル層、銀層、銀より貴な貴金属層が順次形成された導電層を有する基材微粒子からなる導電性微粒子。 - 特許庁
  • The first positioning layer 3a and the second positioning layer 3b are formed on the same surface side as the hologram recording layer 6 (in Fig. 1, under the hologram recording layer 6).
    第1位置決め層3aと第2位置決め層3bとは、ホログラム記録層6に対して同一面側(図1ではホログラム記録層6の下側)に配置される。 - 特許庁
  • The reflection layer 3 consists of a reflection layer 3a and a reflection layer 3b composed from different materials, with its surface facing the function layer K side.
    反射層3はそれぞれ異なる材料から構成された反射層3aと反射層3bとからなり、その表面が機能層K側に面している。 - 特許庁
  • The conductor layer 2G serves as a grounding conductor layer 2G connected to the grounding terminal of the surface acoustic wave device 20, and the conductor layer 2 serves as the other conductor layer.
    導体層2Gは、弾性表面波素子20の接地用端子に接続される接地導体層であり、導体層2はその他の導体層である。 - 特許庁
  • On one surface of the substrate 1, a resin layer 2, metal layer 3 comprising aluminum, primer treatment layer 4 and peeling treatment layer 5 are laminated in this order.
    この基材1の一方の片面には、樹脂層2、アルミニウムからなる金属層3、プライマー処理層4、剥離処理層5が、この順序で積層されている。 - 特許庁
  • An outside electrode layer 11, a semiconductor layer 12, and an inside electrode layer 13 are laminated on the inner wall surface 4 to form an optical power generation layer 10.
    内壁面4に、外側電極層11、半導体層12、内側電極層13が積層されて光発電層10が形成されている。 - 特許庁
  • The free layer 130 has such a three-layered structure of FeCo/SL/NiFe that a surface-active layer 22 is sandwiched and constituted between a FeCo layer 21 and a NiFe layer 23.
    フリー層130は、FeCo層21とNiFe層23の間に界面活性層22を挟み込んで構成したFeCo/SL/NiFeという3層構造を有する。 - 特許庁
  • The thickness of the organic layer in the boundary region between the organic layer and the insulated layer is ≥1.2 times the thickness of the organic layer in the surface of the electrically conductive part.
    また、有機層と絶縁層との境界領域における有機層の厚さは、導電部上における有機層の厚さの1.2倍以上とした構造体。 - 特許庁
  • A second magnetic material layer 22 is provided between a coil conductor formation layer 21c that is a layer including the coil conductor 9, and the first surface layer 31.
    コイル導体9を含む層であるコイル導体形成層21Cと第1表面層31との間に第2の磁性体層22を備えている。 - 特許庁
  • A paper layer 5 is arranged on the back surface of the base material film 3 so as to cover the metallic picture design layer 6 and the general picture pattern layer 7 across an adhesive layer 4.
    基材フィルム3の裏面にメタリック調絵柄層6および一般絵柄層7を覆って、紙層5が接着層4を介して設けられている。 - 特許庁
  • Then, on a surface of the abrasive grains 18 of the second abrasive grain layer, a plating layer 20 of the second abrasive layer is formed, and the abrasive grains 18 of the second abrasive grain layer are electrodeposited.
    次に、第2砥粒層の砥粒18の表面に、第2砥粒層の鍍金層20が形成され、第2砥粒層の砥粒18が電着される。 - 特許庁
  • A cover layer 4 is adhered to a base plate through at least one intermediate layer 3, and an information layer is provided at least on one surface of the intermediate layer 3.
    基板に少なくとも一層の中間層3を介してカバー層4を貼着し、中間層3の少なくとも一方の面に情報層を設ける。 - 特許庁
  • For each IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) cell, a well-shaped P base layer 2 is formed, and a collector P+ layer 5 and a cathode N+ layer 4 are formed directly on the rear surface side of the P base layer.
    IGBTセル毎に、ウエル状のPベース層2を形成し、その直下の裏面側部分にコレクタP+層5及びカソードN+層4を形成する。 - 特許庁
  • In addition, it is also effective that a back layer is provided on the back surface of the substrate, and either one of the thermal color developing layer, the protective layer, or the back layer comprises the flaky silica.
    また、支持体の裏面にバック層を設け、感熱発色層、保護層及びバック層のいずれかに鱗片状シリカを含有させても有効である。 - 特許庁
  • The surface modification layer 14 directly modifies the optical compensation layer 12 and an antireflection layer 13 is stacked on the optical compensation layer 12.
    表面修飾層14は光学補償層12を直接修飾しており、光学補償層12上には反射防止層13が積層されている。 - 特許庁
  • An upper electrode protective layer 23 is formed on the top surface of an upper electrode layer 22 under a part where a protective layer 40 comes into contact with a plating layer 26.
    保護層40とメッキ層26の接する部分の下層であって、上面電極層22の上面に、上面電極保護層23が形成されている。 - 特許庁
  • An individual single-layer circuit board 10 includes an insulating layer 11 and a wiring layer 13 formed on a principal surface 11b of the insulating layer 11.
    個別の単層回路基板10は、絶縁層11と、絶縁層11の一主面11b上に形成された配線層13とを含んでいる。 - 特許庁
  • A BSF layer 12, a photoelectric conversion layer 22, a window layer 18, a contact layer 20 and a surface electrode 24 are formed in order on an N-type semiconductor substrate 10.
    n型半導体基板10上に順次にBSF層12、光電変換層22、窓層18、コンタクト層20及び表面電極24を設ける。 - 特許庁
  • An SOI (silicon-on-insulator) substrate is prepared, which includes a silicon base 101, a lower cladding layer 102 comprising an embedded oxide layer, and a surface silicon layer (SOI layer) 201.
    シリコン基部101,埋め込み酸化層からなる下部クラッド層102,および表面シリコン層(SOI層)201を備えるSOI基板を用意する。 - 特許庁
  • The cover material 2 comprises a seal layer 4, a glass barrier layer 5, a special pin-proof reinforcing film 6, a poly-laminate layer 7, and a surface protective layer 8, laminated in this order from the side of core material 3.
    外被材2は、芯材3側から、シール層4、ガスバリア層5、特殊耐ピン強化フィルム6、ポリラミ層7、表面保護層8を積層したものである。 - 特許庁
  • A projecting and recessing layer 18, the reflection layer 17, a protective layer 1, a flattening layer 16 and a transparent electrode 14 are successively laminated on the liquid crystal side surface of the lower substrate.
    下側基板の液晶側の面には、凹凸層18、反射層17、保護層1、平坦化層16、及び透明電極1が順次積層されている。 - 特許庁
  • A heat insulating layer (17) is arranged to contact with a surface of the compressor (30), and a noise absorbing layer (18) and a noise shielding layer (19) are arranged sequentially in an outside of the heat insulating layer (17).
    圧縮機(30)の表面に接触するように断熱層(17)を配設し、断熱層(17)の外側に吸音層(18)及び遮音層(19)を順に配設する。 - 特許庁
  • A ZnO/ZnMgO quantum well layer with a ZnO layer and a ZnMgO layer laminated therein alternately is formed on the surface of the n-type ZnMgO layer (d).
    (d)n型ZnMgO層表面上に、ZnO層とZnMgO層とが交互に積層されるZnO/ZnMgO量子井戸層を形成する。 - 特許庁
  • The lower electrode includes an organic conductive layer (161;161') which is directly provided on the surface of the insulating layer (14;14') and a metal layer covering the organic conductive layer.
    本発明によれば、下部電極は前記絶縁層(14;14’)の表面に直接設けられる有機導電層(161;161’)及び有機導電層を覆う金属層を含む。 - 特許庁
  • A polyethylene terephthalate resin layer is laminated on at least one side of an amorphous polyester resin layer, and a conductive layer is provided on the surface of the polyethylene terephthalate resin layer.
    非晶性ポリエステル樹脂層の少なくとも片面にポリエチレンテレフタレート樹脂層を積層し、該ポリエチレンテレフタレート樹脂層の表面に導電層を設ける。 - 特許庁
  • The print grab layer 15 is formed on the preprinting layer 14 on the surface of the monetary coupon base material 12 and serves as an overcoat layer covering the preprinting layer 14.
    印字定着層15は、金券基材12の表面の、プレ印刷層14上に形成され、プレ印刷層14を被覆するオーバーコート層を兼ねている。 - 特許庁
  • The surface protective layer 4 consists of an inorganic sealing layer 4a formed by a gas phase deposition method, and a resin layer 4b formed on the inorganic sealing layer 4a.
    表面保護層4が、気相成膜法で形成された無機封止層4aと、無機封止層4aの上に形成された樹脂層4bよりなる。 - 特許庁
  • The flexible copper-clad laminated plate 1 has a base layer 6 including a polyimide resin layer and a copper foil layer 2 joined to one surface of the base layer 6.
    フレキシブル銅張積層板1は、ポリイミド系樹脂層を含むベース層6と、このベース層6の片面に接合された銅箔層2とを備えている。 - 特許庁
  • Plural trenches 9 are formed on the surface of the semiconductor layer 1 from the n+-source layer 4 to the n-type drift layer 3 via the p-type well layer 2.
    n^+ ソース層4からp型ウエル層2を通してn型ドリフト層3に至るように半導体層1の表面に複数のトレンチ9が形成される。 - 特許庁
  • A carbon nanotube layer is formed on the whole surface, and the photo-resist layer is removed to leave the carbon nanotube layer 48 at the bottom of an opening 40 of the insulating layer 38.
    全面にカーボンナノチューブ層を形成し,フォトレジスト層を除去して,絶縁層38の開口40の底部にカーボンナノチューブ層48を残す。 - 特許庁
  • An optical device (300) includes in sequence a silicon dioxide layer (304), a buried silicide layer (306), a contact layer (308) and a silicon surface layer (310).
    二酸化シリコン層(304)と、埋込ケイ化物層(306)と、接点層(308)と、シリコン表面層(310)とをこの順に含む光学デバイス(300)。 - 特許庁
  • The false adhesive label 10 includes the surface base material 12, a peeling control layer 16, a thermoplastic resin layer 18 (false adhesive layer), and an adhesive agent layer 20.
    擬似接着ラベル10は、表面基材12、剥離制御層16、熱可塑性樹脂層18(擬似接着層)、および粘着剤層20を含む。 - 特許庁
  • The protective layer is composed of two layers and the layer positioned at the surface layer side is the layer containing the polyether polyol.
    また、前記保護層が2層からなり、前記表面層側に位置する層がポリエーテルポリオールを含有する層であることを特徴とする発泡壁紙。 - 特許庁
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