SURFACE DEFECT DETECTION SYSTEM AND DATA PROCESSING METHOD 表面欠陥検出システム及びデータ処理方法 - 特許庁
LIQUID-CRYSTALLINE POLYESTER RESIN COMPOSITION FOR SURFACEPROCESSING 表面加工用液晶性ポリエステル樹脂組成物 - 特許庁
PIN FEEDING DEVICE AND PIN SURFACEPROCESSING DEVICE ピンの送給装置およびピンの表面処理装置 - 特許庁
SOLDERING IRON AND PROCESSING METHOD FOR TIP SURFACE OF ITS SOLDERING IRON 半田こておよびそのこて先面加工方法 - 特許庁
FLAT SURFACE DISPLAY DEVICE AND PIXEL SIGNAL PROCESSING METHOD 平面表示装置及び画素信号処理方法 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSINGSURFACE ELECTRIC CHARGE ON ELECTROSTATIC CHUCKING DEVICE 静電吸着装置表面電荷処理方法 - 特許庁
DISK CHUCKING MECHANISM AND DISK SURFACEPROCESSING UNIT ディスクチャック機構およびディスクの表面加工装置 - 特許庁
ETCHANT, AND SURFACEPROCESSING METHOD OF SILICON SUBSTRATE エッチング液およびシリコン基板の表面加工方法 - 特許庁
PIEZOELECTRIC ELEMENT AND SURFACEPROCESSING METHOD FOR THE PIEZOELECTRIC ELEMENT 圧電素子および圧電素子の表面処理方法 - 特許庁
FINISH-PROCESSING METHOD OF WORK FORMATION SURFACE OF FORMING DIE 成形型のワーク形成面の仕上げ加工方法 - 特許庁
To provide a surfaceprocessing method and a device in which surfaceprocessing efficiency can be enhanced. 表面処理効率を上昇させることのできる表面処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processing method which can do a surfaceprocessing evenly all over the inner surface of a member. 部材の内面全体に均一な表面処理を施すことができるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
SURFACEPROCESSING METHOD FOR REACTOR MEMBER AND PRODUCTION METHOD FOR THE REACTOR MEMBER USING THE SURFACEPROCESSING METHOD 原子炉部材の表面処理方法及び該表面処理方法を用いた原子炉部材の製造方法 - 特許庁
SURFACEPROCESSING METHOD OF ALC PANEL AND ITS DEVICE ALCパネルの表面加工方法およびその装置 - 特許庁
METHOD OF PROCESSING SOLID SURFACE WITH GAS CLUSTER ION BEAM ガスクラスターイオンビームによる固体表面の加工方法 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING RESIST DEVELOPMENT, AND APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSINGSURFACE レジスト現像処理装置とその方法及び表面処理装置とその方法 - 特許庁
To process ink repellant processing of a surface simply without using plasma processing. プラズマ処理を用いることなく、簡便に表面の撥インク性処理を行う - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus capable of applying processing to a processing object surface by processing liquid, while maintaining the processing object surface of a substrate in a non-contact state. 基板の処理対象面を非接触状態で保持することができながら、その処理対象面に処理液による処理を施すことができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
The business form OCR processing comprises business form image pickup processing, whole surface OCR processing, item name frame specification processing, OCR area resetting processing, and partial OCR processing. 帳票OCR処理は、帳票イメージ取り込み処理,全面OCR処理,項目名枠特定処理,再OCRエリア設定処理,部分OCR処理からなる。 - 特許庁
To provide a surface and rear surface inversion device capable of shortening processing time required for inverting a surface and a rear surface of a paper sheet. 紙葉類の表裏反転にかかる処理時間の短縮化を図るようにした表裏反転装置を提供する。 - 特許庁
To increase a processing precision and minimize an unevenness of a processing precision between processing unit adjacent irrespective of a flatness of a processingsurface. 加工面の平面度に関係なく、加工精度を高く、また隣接する加工単位間の加工精度のばらつきを小さくする。 - 特許庁
SUBSTRATE SURFACEPROCESSING APPARATUS AND METHOD 基板表面処理装置及び基板表面処理方法 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING RESIDUAL THICKNESS AFTER POST-PROCESSING OF SURFACE OF INSTRUMENT PANEL インストルメントパネル表皮の後加工残厚測定方法 - 特許庁
To provide a substrate processing method and a substrate processing device capable of processing not only the front surface of a substrate but also the end surface and the rear surface of the substrate. 基板の表面だけでなく、基板の端面および裏面に対しても処理を施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
AUTOCLAVED LIGHTWEIGHT CONCRETE PANEL AND METHOD FOR PROCESSING ITS SURFACE 軽量気泡コンクリートパネル及びその表面加工方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SURFACE TREATMENT METHOD FOR BASE MATERIAL プラズマ処理装置及び基材の表面処理方法 - 特許庁
To uniformalize a plasma processing condition in a wafer surface. ウエハ面内でのプラズマ処理状況を均一化する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING SUBSTRATE SURFACE 基板表面処理装置および基板表面処理方法 - 特許庁
COATING COMPOSITION FOR GLASS SURFACEPROCESSING AND GLASSWARE ガラス表面処理用コーティング組成物及びガラス製品 - 特許庁