「surface processing」を含む例文一覧(7705)

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  • BEARING DEVICE FOR WHEEL AND SURFACE PROCESSING METHOD THEREFOR
    車輪用軸受装置およびその表面処理方法 - 特許庁
  • END CUTTING SURFACE PROCESSING METHOD FOR WOOD POWDER PLASTIC COMPOSITE BOARD
    木粉樹脂複合ボードの端部切削面処理方法 - 特許庁
  • DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING CURVED SURFACE IMAGE
    曲面画像処理装置及び曲面画像処理方法 - 特許庁
  • SURFACE INSPECTION OF INSPECTED OBJECT USING IMAGE PROCESSING
    画像処理を利用した検査対象物の表面検査 - 特許庁
  • SURFACE-DECORATING STRUCTURE FOR GOODS AND PROCESSING METHOD THEREFOR
    物品の表面装飾構造及びその加工方法 - 特許庁
  • GOLF CLUB HEAD AND INNER SURFACE PROCESSING METHOD OF THE SAME
    ゴルフクラブヘッド及び該ゴルフクラブヘッドの内面処理方法 - 特許庁
  • RARE EARTH PERMANENT MAGNET AND ITS SURFACE PROCESSING METHOD
    希土類永久磁石およびその表面処理方法 - 特許庁
  • To provide a surface processing method for a multilayer printed board for quick and effective surface processing.
    迅速かつ効果的な表面処理を行なうことが可能な多層プリント基板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁
  • PYROLYSIS FURNACE, AND SURFACE PROCESSING METHOD FOR PYROLYSIS FURNACE
    熱分解炉、及び熱分解炉の表面加工方法 - 特許庁
  • ROUGHENING PROCESSING METHOD OF SURFACE OF INTERIOR MATERIAL/EXTERIOR MATERIAL
    内装材・外装材の表面の粗面化処理方法 - 特許庁
  • To provide a plasma processing device capable of uniformly processing a substrate surface.
    基板表面を均一に処理することのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
  • END PART PROCESSING METHOD OF SURFACE-MOUNTING MATERIAL AND END PART PROCESSING MATERIAL USED FOR THE METHOD
    表装材の端部処理方法及びその方法に用いられる端部処理材 - 特許庁
  • PLASMA SURFACE PROCESSING METHOD, QUARTZ MEMBER, PLASMA PROCESSOR, AND PLASMA PROCESSING METHOD
    プラズマ表面処理方法、石英製部材、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁
  • Processing the integrated output disc 12A is performed by processing the traction surface in such a condition that the datum plane meets the datum surface of a processing apparatus.
    また、一体型出力ディスク１２Ａの加工は、基準平面を加工装置の基準面にあわせた状態で、トラクション面を加工していく。 - 特許庁
  • SURFACE DECORATED FITTING OF EVERY KIND AND SURFACE DECORATING PROCESSING METHOD
    表面装飾を施した各種装備品およびその表面装飾加工方法 - 特許庁
  • To obtain a discrete carrier for an optical lens to perform surface processing to the surface of the optical lens.
    光学レンズ面に表面加工するための光学レンズ用個別キャリアを得る。 - 特許庁
  • To provide a surface processing agent and a surface processing method using the agent, capable of providing the surface of sweet roasted chestnuts with a uniform coating film of high gloss and no surface stickiness.
    むらがなく、光沢にすぐれ、しかも、表面にべとつきのない被膜を甘栗の表面に施すことができる表面加工剤と表面加工方法を提供する。 - 特許庁
  • METHOD FOR RECOGNIZING FILLET SURFACE, FILLET SURFACE RECOGNITION PROGRAM, AND MEASUREMENT INFORMATION PROCESSING DEVICE
    フィレット面認識方法、フィレット面認識プログラム及び計測情報処理装置 - 特許庁
  • The processing device includes a correction map of the target surface to correct the irregularities of the target surface.
    処理デバイスは、ターゲット面の凹凸を補正するターゲット面の補正マップを含む。 - 特許庁
  • The upper surface of the top plate in the housing 115 is subjected to a machined surface processing and brought into intimate contact with the lower surface of the casing 131 which is subjected to a machined surface processing (a second coupling part).
    ハウジング１１５の上部板１７１の上面は機械仕上面加工され、ケーシング１３１の機械仕上面加工された下面に密着している（第２連結部）。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid while disposing a blocking member opposite the substrate surface, the substrate processing device and the substrate processing method excellently drying the substrate surface.
    遮断部材を基板表面に対向して配置しながら処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing device that can supply a processing liquid maintained in a state that is suitable for processing to the rear surface of a substrate.
    基板の裏面に処理に適した状態の処理液を供給できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a wafer processing device and a wafer processing method capable of easily and accurately processing an outer peripheral surface of a wafer.
    簡単かつ精度良く、ウエハの外周面を加工できるウエハ加工装置及びウエハ加工方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a substrate processing device that supplies a processing liquid maintained at a temperature that is suitable for processing, to the rear surface of a substrate.
    処理に適した温度の処理液を基板の裏面に供給できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent occurrence of dew condensation on a processing liquid nozzle, and to uniformly perform processing in a substrate surface, in a processing process using a low-temperature processing liquid.
    低温の処理液を用いた処理処理において、処理液ノズルの結露の発生を防止し、処理を基板面内で均一に行う。 - 特許庁
  • To facilitate processing of a surface (processing surface W) on which a hub side surface 9a of an idler gear 9 rotatably supported by an idler shaft 10 is slid.
    アイドラシャフト１０に回転自在に支持されるアイドラギア９のハブ部側面９ａが摺動する面（加工面Ｗ）の加工を容易にする。 - 特許庁
  • On the basis of the detected processing amount, a surface processing amount of the second processing unit 20 is controlled so that the total surface processing amount of the first and the second processing units 10 and 20 may reach a target value.
    この検出処理量に基づいて、第１、第２処理部１０，２０による合計の表面処理量が目標に達するよう、第２処理部２０による表面処理量を制御する。 - 特許庁
  • An image processing portion 3 treats the image data, which has been treated with the hidden surface processing by the hidden surface processing means 2, with the image processing, and the image forming device outputs an image treated with the image processing.
    画像処理装置３は、隠面処理手段２によって隠面処理を施された画像データに対して画像処理を施し、画像形成装置は画像処理された画像を出力する。 - 特許庁
  • The substrate holder section 12 is a surface for holding the glass substrate 26 by abutting on a non-mask processing surface 28 and the surface has a substrate holding surface making a curved surface shape curved to a convex shape toward the mask processing surface.
    基板ホルダ部１２は、非マスク処理面２８と当接してガラス基板２６を保持する面であって、この面がマスク処理面に向けて凸状に湾曲した曲面形状をなした基板保持面を有する。 - 特許庁
  • This disk processing device has two or more processing units 28, 30 to print on the label surface of a disk.
    複数の処理ユニット２８、３０を備えてディスクのレーベル面の印刷等を行う。 - 特許庁
  • Surface of the glass substrate A is subjected to film deposition processing or etching processing in a reaction chamber 2.
    反応室２でガラス基板Ａの表面に成膜処理あるいはエッチング処理をする。 - 特許庁
  • An echo tracking processing section 20 extracts a surface point 60 by the echo tracking processing.
    エコートラッキング処理部２０は、エコートラッキング処理により表面ポイント６０を抽出する。 - 特許庁
  • To provide a sleeve processing method for processing the surface of the sleeve accurately and simply.
    スリーブ表面を簡単かつ高精度に加工するスリーブ加工方法を提供する。 - 特許庁
  • PROCESSING DEVICE OF MATERIAL HAVING A BOUNDARY SURFACE DIFFERENT IN CUTTING RESISTANCE AND PROCESSING METHOD
    切削抵抗の異なる境界面を有する材料の加工装置および加工方法 - 特許庁
  • SURFACE WORKING METHOD FOR DISCHARGE PLASMA PROCESSING APPARATUS, APPLICATION ELECTRODE, AND DISCHARGE PLASMA PROCESSING APPARATUS
    放電プラズマ処理装置の表面加工方法、印加電極、及び、放電プラズマ処理装置 - 特許庁
  • To provide an image processing device that can increase the efficiency of hidden surface removal processing.
    陰面処理の効率を向上させることができる画像処理装置を提供すること。 - 特許庁
  • PROCESSING METHOD OF TRANSFER OPTICAL SURFACE, PROCESSING MACHINE, DIE FOR OPTICAL ELEMENT MOLDING AND DIAMOND TOOL
    転写光学面の加工方法、加工機、光学素子成形用型及びダイアモンド工具 - 特許庁
  • LENS FRAME MEMBER, AND METHOD OF PROCESSING SURFACE OF THE LENS FRAME MEMBER
    鏡枠部材、及び鏡枠部材の表面加工方法 - 特許庁
  • SURFACE OR SECTION PROCESSING OBSERVATION METHOD AND ITS DEVICE
    表面あるいは断面加工観察方法及びその装置 - 特許庁
  • To perform surface processing without deteriorating a metallic wiring layer.
    金属配線層を劣化させずに表面処理を行う。 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING SURFACE OF RESIN PIPE
    樹脂パイプの表面加工方法および表面加工装置 - 特許庁
  • OBJECTIVIZING METHOD OF (SURFACE) INSPECTION METHOD BY IMAGE PROCESSING
    画像処理による（表面）検査方法の客観化方法 - 特許庁
  • METHOD FOR PROCESSING DEVELOPER CARRIER SURFACE AND DEVELOPING DEVICE
    現像剤担持体表面の加工方法および現像装置 - 特許庁
  • SURFACE PROCESSING METHOD, PATTERN FORMING SUBSTRATE, SURFACE PROCESSING APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTROOPTICAL DEVICE
    表面処理方法、パターン形成用基板、表面処理装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置 - 特許庁
  • Separation processing of the monospaced line and the surface is performed for every color region.
    色領域毎に等幅線・面の分離処理を行う。 - 特許庁
  • METHOD OF PROCESSING DIAMOND BASE SURFACE AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    ダイヤモンド基板表面の処理方法及び半導体装置 - 特許庁
  • METHOD AND APPARATUS FOR SURFACE PROCESSING OF ALC PANEL
    ＡＬＣパネルの表面加工方法および表面加工装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND TREATMENT ROOM INTERNAL SURFACE STABILIZATION METHOD
    プラズマ処理装置および処理室内壁面安定化方法 - 特許庁
  • SEMICONDUCTOR MATERIAL SURFACE PROCESSING METHOD, AND SEMICONDUCTOR MATERIAL
    半導体材料表面加工方法及び半導体材料 - 特許庁
  • REACTIVE SPECIES SUPPLY DEVICE AND PROCESSING APPARATUS FOR SURFACE OR TH LIKE
    反応種供給装置および表面等処理装置 - 特許庁
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