「upper layer」を含む例文一覧(11094)

<前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 221 222 次へ>
  • To set path setting time of an upper layer to be high speed when setting of a path in a lower layer is required in setting of the path of the upper layer by making it a trigger.
    上位レイヤのパス設定において、それをトリガにして、下位レイヤのパス設定が必要な場合には、上位レイヤのパス設定時間を高速にする。 - 特許庁
  • A circuit like a Wheatstone bridge is formed by preparing for four sets of the side of upper layer wiring (terminal) - through-hole - lower layer wiring - through-hole - upper layer wiring (terminal).
    上層配線(端子)〜スルーホール〜下層配線〜スルーホール〜上層配線(端子)を一辺とし、これを四組用意してホイートストンブリッジ様の回路を構成する。 - 特許庁
  • An end of an upper face of the element isolation insulating layer 51 adjacent to the floating electrode layer 32 is positioned in a level lower than the upper face of the floating electrode layer 32.
    浮遊電極層32に隣接する素子分離絶縁層51の上面の端部は、浮遊電極層32の上面よりも低い高さに位置する。 - 特許庁
  • The overcoat layer 28 has an upper part 30 covering the green layer 27 for the spacer as an uppermost layer, and the upper part 30 has an arc-like perpendicular cross section.
    オーバーコート層28は、最上層のスペーサ用グリーン層27を覆う上方部30を有し、この上方部30は、円弧状の垂直断面を有している。 - 特許庁
  • An opening which is larger than the upper part of the dielectric layer (102) is formed in the upper part of the sacrificial layer (108) through sputter etching of the sacrificial layer (108).
    犠牲層(108)をスパッタエッチングすることにより、誘電体層(102)の上部よりも広い開口部を、犠牲層(108)の上部に形成する。 - 特許庁
  • Therefore a recording magnetic field conducted by the upper part core layer 26 is once converged in the magnetic intermediate layer 39 and then flows into the upper part magnetic pole layer 35.
    これにより上部コア層26からの記録磁界は、一旦前記磁性中間層39内で集束され、その後前記上部磁極層35に流れる。 - 特許庁
  • A flattening layer 5 is provided thereon as needed and an upper electrode layer 6 and an upper protective layer 7 are film-deposited thereon to obtain the display device 100.
    必要に応じて平坦化層5をその上に設け、さらに、上部電極層6及び上部保護層7を成膜して表示装置100を得る。 - 特許庁
  • The gradient composition layer 2b has a gradient composition and is so formed that the compositions of the upper and lower ends thereof coincide the compositions of the upper end layer 2c and the lower end layer 2a respectively.
    傾斜組成層2bは、傾斜組成を有し、上下端の組成が上端層2cと下端層2aとに一致するように形成する。 - 特許庁
  • A semiconductor block 1 comprises a base plate 2, a semiconductor structure 3, an insulation layer 15, an upper layer insulating film 16, and an upper layer interconnect line 19.
    半導体ブロック1は、ベース板2、半導体構成体3、絶縁層15、上層絶縁膜16、上層配線19を含んで構成されている。 - 特許庁
  • On the upper clad layer 109, a third upper clad layer 111 of the second conduction type having a stripe-like ridge structure 130 and a contact layer 113 of the second conduction type are formed.
    ストライプ状のリッジ構造130をなす第2導電型の第三上クラッド層111と、第2導電型のコンタクト層113とを備える。 - 特許庁
  • An n^--GaN layer 11 is regrown on the upper surface of the n^--GaN layer 11 and the upper surface of the p-GaN layer 13 by an MOCVD method.
    n^- −GaN層11の上面、および、p−GaN層13の上面に、n^- −GaN層11をMOCVD法により再成長させる。 - 特許庁
  • A lower part of the tapered germanium layer contains a higher concentration of germanium than that of an upper part of the tapered germanium layer, and there exists no germanium at the upper face of the tapered germanium layer.
    傾斜ゲルマニウム層の下部は、傾斜ゲルマニウム層の上部より高濃度のゲルマニウムを含み、傾斜ゲルマニウム層の上面にはゲルマニウムが存在しない。 - 特許庁
  • The BAW resonator is provided with a substrate 10, a lower electrode 20 formed on an upper surface 11 of the substrate 10, a piezoelectric layer 30 formed on an upper layer 21 of the lower electrode 20, an insulating layer 40 formed on an upper surface 31 of the piezoelectric layer 30, and an upper electrode 50 formed on an upper surface 41 of the insulating layer 40.
    基板10と、基板10の上面11に形成された下部電極20と、下部電極20の上面21に形成された圧電層30と、圧電層30の上面31に形成された絶縁層40と、絶縁層40の上面41に形成された上部電極50とを備える。 - 特許庁
  • The upper layer 3 has an upper-layer body 30 retaining exothermic agent 21, a second adhesive layer 22 peelably sticking the upper-layer body 30 to the upper face of the lower layer 2, and a thermal deformation member 6 whose end edge is deformable to roll back to the upper side when being heated with the heat generation of the exothermic agent 21.
    上層3は、発熱剤21を保持した上層本体30と、上層本体30を下層2の上面に引き剥がし可能に接着した第2粘着層22と、発熱剤21の発熱に伴い加熱されると、その端縁部が上方側に反り返るように変形し得る熱変形部材6とを備えている。 - 特許庁
  • An upper insulation layer 9 is provided on the MR element layer 5, the electrodes 7 and the soft magnetic film via a non-magnetic upper gap layer 8, and an upper shielding layer 10 having 3 μm thickness is formed thereon.
    そしてこれらのMR素子層5及び電極7、軟磁性膜の上に、非磁性の上部ギャップ層8を介して上部絶縁層9が設けられ、さらにその上に上部シールド層10が厚み3μmで形成される。 - 特許庁
  • The test upper ferroelectric layer 116 is located in the same layer with an upper ferroelectric layer 46, formed from the same material with the upper ferroelectric layer 46 and connected to a second test pad 130.
    テスト用上層強誘電体層116は、上層強誘電体層46と同一層に位置し、上層強誘電体層46と同一材料により形成されており、第2テスト用パッド130に接続している。 - 特許庁
  • Then the pad formed at the upper end part of the second inter-layer insulating layer is so wide that the upper conductive layer that the pad comes into contact with does not come into contact with another adjacent upper conductive layer.
    そして、第2層間絶縁層の上端部に形成されたパッドは、それ自体が接触する上部導電層と隣接する他の上部導電層には接触しないほどの幅を有するように構成する。 - 特許庁
  • The semiconductor light emitting device is provided with a lamination structure (resonator) wherein a lower DBR layer 11, a lower spacer layer 12, an active layer 13, an upper spacer layer 14, a current constriction layer 15, an upper DBR layer 16, and a contact layer 17 are stacked on a substrate 10 in sequence.
    基板10上に、下部DBR層11、下部スペーサ層12、活性層13、上部スペーサ層14、電流狭窄層15、上部DBR層16およびコンタクト層17を順に積層した積層構造(共振器)を備える。 - 特許庁
  • A lower electrode layer 2, a floating electrode layer 8 not connected with an upper electrode layer 4, and a thin film dielectric layer 9 doped with a donor are interposed in a thin film dielectric layer 3 sandwiched by the lower electrode layer 2 and the upper electrode layer 4.
    下部電極層2と上部電極層4とで挟持した薄膜誘電体層3中に、下部電極層2、上部電極層4に接続しない浮き電極層8、及びドナードーパントをドープした薄膜誘電体層9を介在させた。 - 特許庁
  • At least a reflection layer, a recording layer, a lower dielectric layer, an upper dielectric layer and a solid lubricant layer are laminated in this order on a baseboard so that a thermal conductivity in the upper dielectric layer is made to be larger than that in the lower dielectric layer.
    基板上に少なくとも反射層、記録層、下部誘電体層、上部誘電体層および固体潤滑層をこの順に積層し、上部誘電体層の熱伝導率を下部誘電体層の熱伝導率より大きくする。 - 特許庁
  • A pair of upper electrodes 12, formed on the main surface of a substrate 11, have a multilayered structure which is comprised of a first upper electrode layer 14, a second upper electrode layer 15 overlapping at least partly the first upper electrode layer 14, and a contact layer 16 overlapping the first upper electrode layer 14 and the second upper electrode layer 15.
    基板11の一主面に形成した一対の上面電極12を、第1の上面電極層14と、この第1の上面電極層14に少なくとも一部が重なるように設けられた第2の上面電極層15と、前記第1の上面電極層14および第2の上面電極層15に重なる密着層16の複層構造により構成したものである。 - 特許庁
  • An upper clad layer is provided with a first upper clad layer 18 having a normal mesa ridge 18a and a second upper clad layer 26 formed on the first upper clad layer 18, and the second upper clad layer 26 is arranged on the first upper clad layer 18 with the normal mesa ridge 18a and current block layers 24 formed on both sides of the normal mesa ridge 18a in between.
    上クラッド層を順メサリッジ18aを有する第1の上クラッド層18と第1の上クラッド層18の上に配設された第2の上クラッド層26とで構成するとともに、この第2の上クラッド層26は順メサリッジ18aと順メサリッジ18aの両側に配設された電流ブロック層24とを介して第1の上クラッド層18の上に配設された。 - 特許庁
  • The capacitance insulating film has: a first layer (7a) containing hafnium oxide; a second layer (7b) formed in an upper layer of the first layer and containing alumina; a third layer (7c) formed in a lower layer of the first layer and containing alumina; and a fourth layer (7d) formed in an upper layer of the second layer and containing hafnium oxide.
    容量絶縁膜は、酸化ハフニウムを含む第1層(7a)と、第1層の上層に形成されており、アルミナを含む第2層(7b)と、第1層の下層に形成されており、アルミナを含む第3層(7c)と、第2層の上層に形成されており、酸化ハフニウムを含む第4層(7d)とを有する。 - 特許庁
  • On a first upper clad layer 5 on an emission surface side, a second upper clad layer 6 whose band gap energy is more powerful than that of an active layer 4, and the surface (emission surface side) of the second upper clad layer 6 is planar-doped (7) or pulse-doped with dopant of the same conductive type as the second upper clad layer 6.
    発光面側の第1上クラッド層5の上に、活性層4よりもバンドギャップエネルギーが大きな第2上クラッド層6を設け、該第2上クラッド層6の表面(発光面側)を第2上クラッド層6と同じ導電型のドーパントによりプレーナードープ7又はパルスドープする。 - 特許庁
  • The free layer 40 is a composite body formed by laminating a lower ferromagnetic layer 35, an NCC (Nanocurrent Channel) layer 36 and an upper ferromagnetic layer 37 in order.
    フリー層40は、下部強磁性層35と、NCC層36と、上部強磁性層37とが順に積層された複合体である。 - 特許庁
  • Each of the memory cells has a resistance change layer, an upper electrode layer, a lower electrode layer, a diode layer, a first oxide film, and a second oxide film.
    メモリセルは、抵抗変化層と上部電極層と下部電極層とダイオード層と第1の酸化膜と第2の酸化膜とを有する。 - 特許庁
  • A mat lower layer part (3) may be piled and arranged so as to cover the whole underside part of the mat upper layer part with holding the waterproof layer between the layer parts.
    また、防水層部を挟んでマット上層部の下面側全体を覆うようにマット下層部(3)を積層配置してもよい。 - 特許庁
  • The laser structure is epitaxially grown on a substrate 12 with a lower cladding layer 20, an active layer 22, an upper cladding layer 24, and a contact layer 26.
    基板12上で、エピタキシャル成長され、下部クラッド層20、活性層22、上部クラッド層24および接触層26を有する。 - 特許庁
  • A floating electrode layer 8, which is not connected to a lower electrode layer 2 and an upper electrode layer 4, is made to be interposed in a thin-film dielectric layer 3.
    薄膜誘電体層3中に、下部電極層2、上部電極層4に接続しない浮き電極層8を介在させた。 - 特許庁
  • Then, a return path layer is formed on the exposed lower gap layer, upper gap layer and resist layer by plating across a plating substrate film.
    そして、露出させた下部ギャップ層、上部ギャップ層及びレジスト層の上にメッキ下地膜を介してリターンパス層をメッキにより形成する。 - 特許庁
  • In upper layer of the P-type layer 14, photoelectric conversion portions 24 including an N type layer 20 and an N type layer 22 are formed in an island shape.
    P−型層14の上層には、N型層20とN型層22を含む光電変換部24が島状に形成されている。 - 特許庁
  • A lower part clad layer 2, an active layer 3, an upper part first clad layer 4 and an etching stop layer 5 are laminated in order on a substrate 1.
    基板1の上には、下部クラッド層2、活性層3、上部第1クラッド層4およびエッチングストップ層5が順に積層されている。 - 特許庁
  • An n-type source region 4 is formed to be a multilayer structure having a first layer 4a as an upper layer and a second layer 4b as a lower layer.
    n型ソース領域4を上層部となる第1層4aおよび下層部となる第2層4bを備えた多層構造にする。 - 特許庁
  • The skin for the vehicle seat includes a lower layer 4 made of an infrared reflection layer and an upper layer 5 made of an infrared permeable layer constituting the outer surface of the skin.
    赤外線反射層からなる下層4と、外表面を構成する赤外線透過層からなる上層5とを備える。 - 特許庁
  • The intermediate layer 53 includes an under white base layer 531 positioned on the first image layer 52, a light shielding layer 532 positioned on the under base layer 531, and an upper white base layer 533 positioned on the light shielding layer 532.
    中間層53は、第1画像層52上に位置する下白地層531、下白地層531上に位置する遮光層532、および、遮光層532上に位置する上白地層533を備える。 - 特許庁
  • The light emitting diode elements are formed with a high heat conductive substrate, a non-conductor type protective layer, a metal bonding layer, a mirror plane protective layer, an ohmic contact epitaxy layer, an upper coating layer, an active layer, and a lower coating layer.
    発光ダイオード素子は、高導熱基板と、非導体型保護層と、金属接着層と、鏡面保護層と、オーミックコンタクトエピタキシ層と上被覆層と活性層と下被覆層とを形成してなる。 - 特許庁
  • UPPER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
    上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法 - 特許庁
  • The upper film has a higher refractive index than a liquid crystal layer.
    上部膜の屈折率は液晶層の屈折率より高い。 - 特許庁
  • A colored coating layer 2 is deposited on the upper surface of a substrate 1.
    基材1の上面に着色塗装層2を形成する。 - 特許庁
  • Thus, upper layer negotiations can be smoothly performed.
    これにより、上位レイヤのネゴシエーションを円滑に行うことができる。 - 特許庁
  • The upper surface of the base layer sheet is provided with a design pattern.
    基層シートの上面には、意匠模様が設けられている。 - 特許庁
  • To form a shield layer 14 on an upper surface of a circuit 10.
    回路装置10の上面にシールド層14を形成する。 - 特許庁
  • The p-type electrode 4 is used as an upper clad layer in common.
    p型電極4は、上部クラッド層として兼用される。 - 特許庁
  • INDUSTRIAL WOVEN FABRIC HAVING AUXILIARY WEFT YARN ARRANGED IN UPPER LAYER WOVEN FABRIC
    上層織物に補助緯糸を配置した工業用織物 - 特許庁
  • UPPER LAYER COATING METHOD AND COATING APPARATUS FOR ROLLER BASE MATERIAL
    ローラ基材における上層塗工方法および塗工装置 - 特許庁
  • An upper paper 7 is formed on the other face of the inlet layer 3.
    インレット層3の他の面には上紙7が設けられている。 - 特許庁
  • The substrate upper layer 20 is formed of a woody fiber plate.
    基材上面層20は、木質繊維板により構成される。 - 特許庁
  • The base material upper face layer 20 is composed of a wood fiberboard.
    基材上面層20は、木質繊維板により構成される。 - 特許庁
  • An upper layer resin is applied to the fabric 6 in the rear of the device.
    装置後方の布6に上層樹脂を塗布する(図10)。 - 特許庁
  • Artificial lawn 8 is laid on an upper surface 40 of the crushed stone layer B.
    砕石層Bの上面40に人工芝8を敷設する。 - 特許庁
<前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 221 222 次へ>

例文データの著作権について

  • 特許庁
    Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.