「vacuum processing」を含む例文一覧(1012)

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  • ANALOG INPUT AND OUTPUT CIRCUIT AND VACUUM PROCESSING APPARATUS
    アナログ入出力回路及び真空処理装置 - 特許庁
  • VACUUM PUMP AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE WITH THE SAME
    真空ポンプ及びこれを備えた基板処理装置 - 特許庁
  • VACUUM CHUCK DEVICE AND PROCESSING EQUIPMENT HAVING THE SAME
    真空チャック装置及びこれを備えた加工装置 - 特許庁
  • SYSTEM AND METHOD FOR VACUUM PROCESSING
    真空処理装置および試料の真空処理方法 - 特許庁
  • SEPARATION STATE DETERMINING METHOD AND VACUUM PROCESSING DEVICE
    離脱状態判断方法及び真空処理装置 - 特許庁
  • TRAY, TRAY SUPPORT MEMBER, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS
    トレイ及びトレイ支持部材並びに真空処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND VACUUM VESSEL USED THEREIN
    プラズマ処理装置およびそれに用いる真空容器 - 特許庁
  • VACUUM SWITCH AND CONDITIONING PROCESSING METHOD THEREFOR
    真空開閉器およびそのコンディショニング処理方法 - 特許庁
  • INLINE VACUUM PROCESSING APPARATUS, METHOD OF CONTROLLING INLINE VACUUM PROCESSING APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING INFORMATION RECORDING MEDIUM
    インライン真空処理装置、インライン真空処理装置の制御方法、情報記録媒体の製造方法 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC CHUCK OF VACUUM PROCESSING DEVICE, VACUUM PROCESSING DEVICE COMPRISING IT, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTROSTATIC CHUCK
    真空処理装置の静電チャック、それを有する真空処理装置、及び静電チャックの製造方法 - 特許庁
  • To provide a vacuum processing apparatus for processing a thick large-sized substrate.
    厚膜の大型基板を処理可能な真空処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To decrease an installation area of a vacuum processing apparatus having a plurality of vacuum chambers.
    複数の真空室を有する真空処理装置の設置面積を小さくする。 - 特許庁
  • Even when the vacuum processing needs a long time, the vacuum processing and the update processing do not adversely effect each other.
    バキューム処理が長時間を必要とするときでも、バキューム処理および更新処理が相互に悪影響を及ぼすことがない。 - 特許庁
  • TRANSFER MECHANISM AND VACUUM PROCESSING EQUIPMENT COMPRISING THE SAME
    搬送機構、及び、それを備えた真空処理装置 - 特許庁
  • SUCTION APPARATUS, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS
    吸着装置、その製造方法、真空処理装置 - 特許庁
  • VACUUM INTEGRATED SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND FILM DEPOSITION METHOD
    真空一貫基板処理装置及び成膜方法 - 特許庁
  • CLEANING GAS AND CLEANING METHOD OF VACUUM PROCESSING APPARATUS
    クリーニングガス及び真空処理装置のクリーニング方法 - 特許庁
  • WAFER CARRIER MECHANISM, VACUUM CHAMBER AND WAFER PROCESSING APPARATUS
    ウェハ搬送機構、真空チャンバおよびウェハ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR CLEANING VACUUM CONTAINER
    プラズマ処理装置および真空容器の清掃方法 - 特許庁
  • TRANSPORT MECHANISM, AND VACUUM PROCESSING DEVICE INCLUDING THE SAME
    搬送機構、及び、それを備えた真空処理装置 - 特許庁
  • To provide a vacuum processing device capable of minimizing the size of a vacuum processing vessel even if a processing object is enlarged, and a vacuum processing system capable of carrying the processing object to the vacuum processing device without using a large carrying arm.
    被処理体が大型化しても真空処理容器の大きさを極力抑制できる真空処理装置を提供すること、および大型の搬送アームを使用せずに真空処理装置への被処理体の搬送が可能な真空処理システムを提供すること。 - 特許庁
  • SUBSTRATE HEATER AND VACUUM PROCESSING APPARATUS PROVIDED WITH THE SAME
    基板加熱ヒータ及びそれを備えた真空処理装置 - 特許庁
  • VACUUM PROCESSING DEVICE AND MAGNETIC SEAL ROTARY BEARING UNIT
    真空処理装置および磁気シール回転軸受けユニット - 特許庁
  • VENT DEVICE FOR VACUUM PRELIMINARY CHAMBER AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
    真空予備室のベント方法および基板処理装置 - 特許庁
  • HIGH VACUUM DRAWING PROCESSING METHOD AND DEVICE BY PRESS DEVICE
    プレス装置による高真空引き加工方法と装置 - 特許庁
  • WEB PROCESSING MACHINE WITH AT LEAST ONE VACUUM CHAMBER
    少なくとも1つの真空チェンバを有するウェブ処理機 - 特許庁
  • DISPLAY SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND VACUUM PROCESSING APPARATUS
    表示用基板の製造方法および真空処理装置 - 特許庁
  • EVACUATION DEVICE AND VACUUM PROCESSING DEVICE COMPRISING IT
    真空排気装置及びそれを備えた真空処理装置 - 特許庁
  • The plasma processing device 1 includes a vacuum container 3.
    プラズマ処理装置1は、真空容器3を有している。 - 特許庁
  • PROCESSING DEVICE FOR LUBRICANT IN ROTARY VACUUM PACKAGING MACHINE
    ロータリ真空包装機における潤滑剤の処理装置 - 特許庁
  • ATTRACTION UNIT, VACUUM PROCESSING DEVICE, AND ATTRACTION METHOD
    吸着装置、真空処理装置及び吸着方法 - 特許庁
  • To provide a vacuum processing device which can prevent mixing of moisture into a vacuum processing chamber certainly.
    真空処理室への水分の混入を確実に防止することが可能な真空処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To accurately position a substrate in a vacuum processing chamber in a substrate processing device for vacuum processing the substrate.
    基板の真空処理を行う基板処理装置において、真空処理室内の基板の位置決めを精度よく行うことを目的とする。 - 特許庁
  • For the wafer processing method, a specified film is formed on a wafer within any one vacuum processing chamber out of plural vacuum processing chambers.
    ウェーハ処理方法は、複数の真空処理チャンバのうち何れか1つの真空処理チャンバ内でウェーハ上に所定の膜を形成する。 - 特許庁
  • Thus, vacuum drying processing and heat processing can be quickly performed.
    したがって、減圧乾燥処理および加熱処理を迅速に行うことができる。 - 特許庁
  • To securely prevent insufficient vacuum condition from occurring at the time of a preliminary vacuum processing in the device which requires the preliminary vacuum processing before sterilization process.
    滅菌工程の前に予備真空工程を行うものにおいて、予備真空時における真空不足を確実に防止する事を目的とするものである。 - 特許庁
  • SUBSTRATE CONVEYING DEVICE AND VACUUM PROCESSING DEVICE WITH THE SAME
    基板搬送装置およびこれを備える真空処理装置 - 特許庁
  • TRANSPORT SYSTEM, VACUUM PROCESSING DEVICE AND NORMAL PRESSURE TRANSPORT
    搬送装置及び真空処理装置並びに常圧搬送装置 - 特許庁
  • OPERATION OF VACUUM TREATMENT EQUIPMENT AND METHOD FOR PROCESSING WAFER
    真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法 - 特許庁
  • COATING METHOD FOR HOLED INNER MEMBER IN VACUUM PROCESSING DEVICE
    真空処理装置における有孔内部材のコーティング方法 - 特許庁
  • To provide a vacuum processing apparatus with increased productivity.
    生産性を向上させた真空処理装置を提供する。 - 特許庁
  • VACUUM PROCESSING APPARATUS, AND CLEANING METHOD THEREOF
    真空処理装置および真空処理装置のクリーニング方法 - 特許庁
  • ELECTROSTATIC CHUCKING DEVICE AND VACUUM PROCESSING DEVICE USING THE SAME
    静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置 - 特許庁
  • The processing chamber 12 is evacuated with a vacuum pump 14.
    処理室12は、真空ポンプ14により減圧にされる。 - 特許庁
  • FILM QUALITY EVALUATING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING THE SAME
    膜質評価装置およびこれを用いた真空処理装置 - 特許庁
  • VACUUM PROCESSING DEVICE AND OPENING/CLOSING MECHANISM USED THEREFOR
    真空処理装置用開閉機構及び真空処理装置 - 特許庁
  • To provide a vacuum processing device having a small installation area.
    設置面積の小さい真空処理装置を提供する。 - 特許庁
  • CHAMBER OPEN/CLOSE MECHANISM AND VACUUM PROCESSING APPARATUS EQUIPPED THEREWITH
    チャンバ開閉機構及びこれを備えた減圧処理装置 - 特許庁
  • A vacuum pump (23) is communicated and connected with the inside of the processing chamber (16).
    処理室(16)内を真空ポンプ(23)に連通接続させた。 - 特許庁
  • VACUUM PROCESSING SYSTEM, ITS MAINTENANCE SYSTEM AND MAINTENANCE METHOD
    真空処理装置、そのメンテナンスシステム、及びそのメンテナンス方法 - 特許庁
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