WETPROCESSING APPARATUS, AND WETPROCESSING METHOD ウェット処理装置及びウェット処理方法 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD AND WETPROCESSING DEVICE ウエット処理方法及びウエット処理装置 - 特許庁
CARRIER FOR WETPROCESSING ウェット処理用キャリア - 特許庁
WET GAS PROCESSING APPARATUS 湿式ガス処理装置 - 特許庁
WETPROCESSING NOZZLE AND WET PROCESSOR ウエット処理ノズルおよびウエット処理装置 - 特許庁
WETPROCESSING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR WETPROCESSING APPARATUS ウェット処理装置およびウェット処理装置製造方法 - 特許庁
TRANSPORTING TYPE WETPROCESSING APPARATUS 搬送型湿式処理装置 - 特許庁
CARRIER FOR WETPROCESSING AND WETPROCESSING APPARATUS WITH SAME ウェット処理用キャリア及びこれを備えるウェット処理装置 - 特許庁
WET PROCESS PROCESSING METHOD AND DEVICE 湿式処理方法及び装置 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD AND DEVICE THEREOF 湿式処理方法及び装置 - 特許庁
CANTILEVER WETPROCESSING CONTAINER, CANTILEVER WETPROCESSING UNIT INCLUDING THE SAME, AND CANTILEVER WETPROCESSING METHOD USING CANTILEVER WETPROCESSING CONTAINER カンチレバー湿式処理用コンテナーと、それを含むカンチレバー湿式処理用ユニットと、カンチレバー湿式処理用コンテナーを用いたカンチレバーの湿式処理方法 - 特許庁
MEMBER FOR POWER MODULE MANUFACTURED BY WETPROCESSING, AND ITS WETPROCESSING METHOD AS WELL AS WETPROCESSING APPARATUS 湿式処理により製造されたパワーモジュール用部材およびその湿式処理方法並びに湿式処理装置 - 特許庁
Both the layers are simultaneously coated by wet-on-wet processing. 両方の層はウェット・オン・ウェットで同時にコーティングされる。 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER 半導体ウェ—ハのウェット処理方法 - 特許庁
WET GAS PROCESSING METHOD AND APPARATUS THEREFOR 湿式ガス処理方法とその装置 - 特許庁
WETPROCESSING EQUIPMENT AND TRANSPORT METHOD ウエット処理装置及び搬送方法 - 特許庁
WETPROCESSING DEVICE, WETPROCESSING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE ウエット処理装置、ウエット処理方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER 半導体ウェーハのウエット処理方法 - 特許庁
WET ETCHING METHOD OF PROCESSING OBJECT SUBSTRATE 被加工基板の湿式エッチング方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR PROCESS AND WETPROCESSING APPARATUS 半導体プロセスおよびウエット処理装置 - 特許庁
CIRCULATION THERMOSTATIC WET ETCHING DEVICE AND WET ETCHING PROCESSING TANK 循環恒温式ウエットエッチング装置及びウエットエッチング処理槽 - 特許庁
HOLD CASSETTE, HOLD HAND, WETPROCESSING METHOD AND WET PROCESSOR 保持カセット、保持ハンド、ウェット処理方法およびウェット処理装置 - 特許庁
DEVICE AND METHOD FOR WETPROCESSING ウェット処理装置およびウェット処理方法 - 特許庁
DEVICE AND METHOD OF WETPROCESSING ウエット処理装置およびウエット処理方法 - 特許庁
The wet-type processing unit comprises a wet-type processing part (a cleaning part 13 and a spin coater part 32). 湿式処理ユニットは、湿式処理部(洗浄部13,スピンコータ部32)を含んでいる。 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD FOR FILM BOARD, AND FILM BOARD HOLDING DEVICE USED FOR WETPROCESSING フィルム基板のウェット処理方法、及びウェット処理に用いられるフィルム基板保持装置 - 特許庁
WETPROCESSING NOZZLE AND DEVICE THEREOF ウエット処理用ノズルおよびウエット処理装置 - 特許庁
SPIN PROCESSING APPARATUS METHOD FOR SPIN PROCESSING AND WET-TYPE TREATMENT DEVICE スピン処理装置、スピン処理方法および湿式処理装置 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD AND DEVICE 被処理物のウエット処理方法及びその装置 - 特許庁
METHOD FOR WET HEAT-GENERATING PROCESSING FOR CELLULOSIC FIBER セルロース系繊維の湿潤発熱加工方法 - 特許庁
LUBRICANT COMPOSITION FOR WET WIRE-DRAWING PROCESSING OF PLATED STEEL WIRE AND METHOD FOR WET WIRE-DRAWING PROCESSING メッキ鋼線材の湿式伸線加工用潤滑剤組成物及び湿式伸線加工方法 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD AND APPARATUS OF URANIUM WASTE ウラン廃棄物の湿式処理方法および装置 - 特許庁
A crystal surface is purified using wetprocessing. 湿式処理で、結晶表面を清浄化する。 - 特許庁
PROCESSING PAPER FOR PRODUCTION OF SYNTHETIC LEATHER BY WET METHOD AND APPLICATION PROCESSING 湿式合成皮革製造用工程紙並びに応用加工方法 - 特許庁
SUBSTRATE WETPROCESSING APPARATUS AND METHOD OF HEATING CHEMICAL FOR SUBSTRATE PROCESSING 基板湿式処理装置及び基板処理用ケミカルの加熱方法 - 特許庁
WET IMAGE FORMING DEVICE, AND INFORMATION PROCESSING SYSTEM 湿式画像形成装置および情報処理システム - 特許庁
WAFER WETPROCESSING METHOD AND WAFER ETCHING APPARATUS ウェハのウェット処理方法及びウェハのエッチング装置 - 特許庁
WAFER ETCHING APPARATUS AND WAFER WETPROCESSING METHOD ウェハのエッチング装置、及びウェハのウェット処理方法 - 特許庁
PROCESSING AND CLEANING AGENT FOR WET CLEANING OF TEXTILE PRODUCT, AND PROCESSING METHOD ウェットクリーニング用繊維製品処理剤・洗浄剤及び処理方法 - 特許庁
WETPROCESSING METHOD FOR URANIUM WASTE, AND DEVICE THEREOF ウラン廃棄物の湿式処理方法及びその装置 - 特許庁
PRINTED CIRCUIT BOARD HAVING THROUGH HOLE FOR WETPROCESSING ウェット処理用の貫通穴を有するプリント配線板 - 特許庁
The mask is removed by performing wetprocessing using chemical solution. 薬液によるウェット処理を行ってマスクを除去する。 - 特許庁
The silicon wafer is set in a batch wetprocessing device. そのシリコンウェハをバッチ式のウェット処理装置にセットする。 - 特許庁
SINGLE WAFER PROCESSINGWET TREATING APPARATUS AND METHOD THEREOF 枚葉型のウエット処理装置及びそのウエット処理方法 - 特許庁
The wetprocessing device has a processing tank and a carrying means placed in the processing tank to carry the processing materials. 処理槽と、処理槽内に設けられ、被処理物を搬送する搬送手段とを備える湿式処理装置である。 - 特許庁