ジアセタートの英語

リパ−ゼを用いる選択的酵素的モノけん化によってトリメチルヒドロキノリンジアセタートをトリメチルヒドロキノン−１−モノアセタアートに転換する。例文帳に追加

This method comprises converting trimethylhydroquinone diacetate to trimethylhyroquinone-1-monoacetate by selective enzymatic monosaponification using a lipase. - 特許庁

親水性不揮発性液体としては、例えば多価アルコール、多価アルコールエーテル、多価アルコールエステル又はラクタムが挙げられ、より具体的には、グリセリン、トリエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、グリセリンジアセタート又はＮ−メチルピロリドンが挙げられる。例文帳に追加

The hydrophilic non-volatile liquid includes polyhydric alcohols, polyhydric alcohol ethers, polyhydric alcohol esters and lactams, more concretely, triethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, glycerol diacetate, and N-methylpyrrolidone. - 特許庁

基板の処理面をオゾン水で処理するオゾン水処理工程と、基板の処理面をγ−ブチロラクトン、エチレングリコールジアセタート及びジアセチン（グリセリンジアセテート）からなる群より選択される少なくとも１種の有機溶剤１００重量部と、水５〜１００重量部との混合溶剤を用いて除去する混合溶剤処理工程とを有するレジスト除去方法。例文帳に追加

The resist removing method comprises an ozone water treatment process of treating treatment surface of the substrate with ozone water and a mixed solvent treatment process of removing residue on the treatment surface by using mixed solvent of at least one kind organic solvent 100 pts.wt. selected from a group consisting of γ-butyrolactone, ethyleneglycol diacetate and diacetin (glycerol diacetate) and water 5 to 100 pts.wt. - 特許庁

基板表面のレジストを除去するレジスト除去方法であって、少なくとも、前記基板の処理面をオゾン水で処理するオゾン水処理工程と、前記基板の処理面をγ−ブチロラクトン、エチレングリコールジアセタート及びジアセチンからなる群より選択される少なくとも１種の有機溶剤で処理する溶剤処理工程を有するレジスト除去方法。例文帳に追加

The resist removing method for removing resist on the surface of the substrate is provided with an ozone water processing process for processing the processing face of the substrate with ozone water, and a solvent processing process for processing the processing face of the substrate by at least one type of organic solvent selected from a group formed of γ-butyrolactone, ethylene glycol diacetate and diacetin. - 特許庁