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けい化物層の英語
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英訳・英語 silicide layer
「けい化物層」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 5266件
シリコン窒化物層の形成方法例文帳に追加
METHOD FOR FORMING SILICON NITRIDE LAYER - 特許庁
珪化物層の形成方法、及びその珪化物層を有する金属部材例文帳に追加
METHOD FOR FORMING SILICIDE LAYER AND METAL MEMBER HAVING SILICIDE LAYER - 特許庁
金属炭化物表面層の形成方法、金属炭化物表面層例文帳に追加
METHOD FOR FORMING METAL CARBIDE SURFACE LAYER AND METAL CARBIDE SURFACE LAYER - 特許庁
第１の酸化物層および第２の酸化物層を形成するための方法例文帳に追加
METHOD FOR FORMING FIRST OXIDE LAYER, AND SECOND OXIDE LAYER - 特許庁
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「けい化物層」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 5266件
窒化物系半導体素子、窒化物系発光素子及び窒化物系半導体層の形成方法例文帳に追加
NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT, NITRIDE LIGHT-EMITTING ELEMENT AND FORMATION OF NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER - 特許庁
多孔質無機成形硬化物および複層多孔質無機成形硬化物例文帳に追加
POROUS INORGANIC FORMED AND HARDENED MATERIAL AND DOUBLE-LAYER POROUS INORGANIC FORMED AND HARDENED MATERIAL - 特許庁
窒化物系半導体層の形成方法、窒化物系半導体、窒化物系半導体素子の製造方法および窒化物系半導体素子例文帳に追加
FORMING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER, NITRIDE SEMICONDUCTOR, MANUFACTURING METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT - 特許庁
窒化物系半導体発光素子及び窒化物半導体層の成長方法例文帳に追加
NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING ELEMENT AND GROWTH OF NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER - 特許庁
酸化物形成方法、酸化物層成長方法および基板加工方法例文帳に追加
OXIDE FORMING METHOD, OXIDE LAYER GROWTH METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD - 特許庁
ボイド窒化物半導体層の上に素子形成用窒化物半導体層を形成する。例文帳に追加
On the void nitride semiconductor layer, a nitride semiconductor layer for forming an element is formed. - 特許庁
窒化物系発光装置の三重窒化物系バッファ層及び該層の製造方法例文帳に追加
TERNARY NITRIDE-BASED BUFFER LAYER OF NITRIDE-BASED LIGHT-EMITTING DEVICE AND FORMING METHOD OF THE LAYER - 特許庁
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