アークソースの英語

これにより、必要に応じて任意の電位が対電極８に与えられ、かつ／または様々な磁気システム５を備えたソースが、特にアークソースないしスパッタソースとして操作され得る。例文帳に追加

Thereby, depending on the requirement, any desired potential can be applied to the counter electrode 8 and/or the source provided with various magnetic system 5 can be operated in particular, as arc or sputter source. - 特許庁

これにより、必要に応じて任意の電位が対電極に与えられ、かつ／または様々な磁気システムを備えたソースが、特にアークソースないしスパッタソースとして操作され得る。例文帳に追加

Thereby, depending on the requirement, any desired potential can be applied to the counter electrode and/or the source provided with various magnetic systems can be operated, in particular, as arc or sputter source. - 特許庁

磁気システムは、アークソースまたはスパッタソースとしての択一的な適用に対する前記磁気システムの適合が、プロセスのサイクルの最中に真空状態を中断することなく動作中に実現できるように、前記磁気システムが少なくとも一つの方向に自由に移動できる。例文帳に追加

The magnetic system can be freely moved at least to one direction in such a manner that the adaptation of the magnetic system to alternative application as an arc source or a sputter source can be achieved during the operation without interrupting a vacuum state in the midst of the cycle of the process. - 特許庁

真空チャンバー１外において、イオンシャワー源３で窒素イオン１７を生成し、カソーディックアークソース２で炭素イオン３８を生成し、これらのイオンビーム１７Ａ、３８Ａを真空チャンバー１内に導入してチャンバー内に配した基板４に照射すると共に、この基板４に負のパルス状電圧を印加する。例文帳に追加

Outside a vacuum chamber 1, nitrogen ions 17 are generated by an ion shower source 3, carbon ions 38 are generated in a cathodic arc source 2, ion beams 17A, 38A are introduced in the vacuum chamber 1 to irradiate a substrate 4 disposed in the chamber, and the negative pulse-like voltage is applied to the substrate 4. - 特許庁