トリエチルシランの英語

半導体材料ガスであるオルガノシランの製造において、内部表面をＣｌ成分で汚染された鉄合金製の製造装置、または保存容器の内部表面に、次亜リン酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、トリエチルシラン、トリイソプロピルシラン、トリメチルシラン、または水素等の還元性物質を含む表面処理剤を接触させる表面処理方法。例文帳に追加

This method for surface-treating is provided by bringing a surface-treating agent containing a reducing substance such as sodium hypophosphite, sodium sulfite, sodium nitrite, triethylsilane, tri-isopropylsilane, trimethylsilane, hydrogen or the like in contact with the inner surface of the producing device made from an iron alloy or a preservation container having their inner surfaces soiled with the Cl component in the production of the organosilane which is the semiconductor material gas. - 特許庁