triethylsilaneとは 意味・読み方・使い方

The SiCO film for example is formed on a fluorine-added carbon film by subjecting a surface of the fluorine-added carbon film on a semiconductor wafer to a nitriding processing, by exposing the same to a plasma atmosphere obtained by making nitrogen gas plasma and then exposing the semiconductor wafer to plasma obtained by making triethylsilane gas and oxygen gas for example plasma.例文帳に追加

半導体ウエハ上のフッ素添加カーボン膜の表面部を、窒素ガスをプラズマ化して得られるプラズマ雰囲気に曝すことにより窒化処理し、次いで半導体ウエハを例えばトリメチルシランガス及び酸素ガスをプラズマ化して得られるプラズマに曝すことによりフッ素添加カーボン膜の上に例えばＳｉＣＯ膜を成膜する。 - 特許庁

This method for surface-treating is provided by bringing a surface-treating agent containing a reducing substance such as sodium hypophosphite, sodium sulfite, sodium nitrite, triethylsilane, tri-isopropylsilane, trimethylsilane, hydrogen or the like in contact with the inner surface of the producing device made from an iron alloy or a preservation container having their inner surfaces soiled with the Cl component in the production of the organosilane which is the semiconductor material gas.例文帳に追加

半導体材料ガスであるオルガノシランの製造において、内部表面をＣｌ成分で汚染された鉄合金製の製造装置、または保存容器の内部表面に、次亜リン酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硝酸ナトリウム、トリエチルシラン、トリイソプロピルシラン、トリメチルシラン、または水素等の還元性物質を含む表面処理剤を接触させる表面処理方法。 - 特許庁